水处理设备专用发射极的制作方法

文档序号:4887343阅读:400来源:国知局
专利名称:水处理设备专用发射极的制作方法
技术领域
本实用新型涉及一种高频发射体,尤其是指一种用于水处理设备的专用发射极。
背景技术
目前,采用物理法的水处理设备,如静电水处理仪、电子水处理仪等,其工作原理是通过电的能量转换,转换成电场、磁场、电磁波等并以发射极作为交换体进行换能馈散,以达到防垢、杀菌、缓蚀等目的。由于发射极必须直接与水接触,因此必须具有绝缘、耐温、抗冲击、耐磨和转换效率高的特性。目前市场销售的水处理设备中的发射极一般均采用金属材料与绝缘材料相结合的制作方法,其中金属材料通常选用铜、铝、钢或合金材料,而绝缘材料通常选用聚四氟乙烯管材,或通过塑料一次成型、表面喷涂等工艺达到绝缘的目的,这些绝缘材料或工艺所构成的绝缘层普遍在抗老化、耐冲击、耐磨、耐高温等方面存在着缺陷。一般情况下,在正常使用1-2年后故障率就会逐年增高,从而使水处理设备整机的处理效果逐渐降低,直至报废。

发明内容
本实用新型的目的是提供一种结构简单、密封性好、使用寿命长的水处理设备专用发射极,该水处理设备专用发射极同时具有抗老化、耐冲击、耐磨和耐高温的特性。
本实用新型所采取的技术方案是一种水处理设备专用发射极,由陶瓷壳体、金属镀层、烧结的涂釉层和引线所构成,陶瓷壳体为一端敞开的圆筒状壳体,壳体敞开端的外壁上向外延伸有安装台,金属镀层镀制在陶瓷壳体的内表面,烧结涂釉层烧制在陶瓷壳体的外表面,引线的一端焊接在金属镀层上。
所述安装台的内侧设有密封O形圈。
本实用新型的有益效果是由于水处理设备专用发射极由高频陶瓷烧结而成,内部通过焙银工艺结合有银质金属镀层,外部通过烧结工艺结合有烧结涂釉层,并在陶瓷壳体上设有安装台和密封圈,因而具有抗老化、耐冲击、耐磨和耐高温的特性,同时结构简单、制作容易、绝缘和密封性好,使用寿命可达30年以上,耐温性能提高到200℃以上,内层焙银或其它金属还提高了发射极电参数的转换效率。


图1为本实用新型结构示意图。
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型的具体实施方式
作进一步详细地描述。
如图1所示,一种水处理设备专用发射极,由陶瓷壳体1、金属镀层2、烧结涂釉层3和引线4所构成,陶瓷壳体由高频陶瓷烧结而成,为75瓷或95瓷,陶瓷壳体为一端敞开的圆筒状壳体,壳体敞开端的外壁上向外延伸有安装台,并使陶瓷壳体具有三种不同的外径,最小的外径部分探入水处理设备的内部,用于与水接触,中间的外径部分用于固定在水处理设备的壁体内,最大的外径部分通过O形橡胶密封圈5压接在水处理设备的壁体外,用以固定发射极于设备主体上,同时起到密封作用。金属镀层镀制在陶瓷壳体的内表面,金属镀层可以为银层、铝层、铜层等金属镀层,为了提高导电率和便于与引线焊接,本实施例优选银层为金属镀层,并以焙银工艺与陶瓷壳体相结合。烧结涂釉层烧制在陶瓷壳体的外表面,引线为银质引线,其一端焊接在金属镀层上,另一端连接在射频电路的输出端。为了保证专用发射极的发射效果,根据水处理设备的容积量及安装专用发射极的数量,陶瓷壳体的外径可选配为Φ30-Φ120mm,陶瓷壳体的长度可选配为50-500mm。由于它的结构特点和材料特点,使专用发射极结构简单、制作容易和使用寿命长,同时保证了绝缘、密封和电参数转换效果。
权利要求1.一种水处理设备专用发射极,其特征在于由陶瓷壳体、金属镀层、烧结涂釉层和引线所构成,所述的陶瓷壳体为一端敞开的圆筒状壳体,壳体敞开端的外壁上向外延伸有安装台,金属镀层镀制在陶瓷壳体的内表面,烧结涂釉层在陶瓷壳体的外表面,引线的一端焊接在金属镀层上。
2.根据权利要求1所述的水处理设备专用发射极,其特征在于所述安装台的内侧设有密封用O形圈。
3.根据权利要求1所述的水处理设备专用发射极,其特征在于所述陶瓷壳体的外径为Φ30-Φ120mm。
4.根据权利要求1所述的水处理设备专用发射极,其特征在于所述陶瓷壳体的长度为50-500mm。
5.根据权利要求1所述的水处理设备专用发射极,其特征在于所述陶瓷壳体的金属镀层为银层、铝层或铜层。
专利摘要本实用新型涉及一种水处理设备专用发射极,由陶瓷壳体、金属镀层、烧结涂釉层和引线所构成,陶瓷壳体为一端敞开的圆筒状壳体,壳体敞开端的外壁上向外延伸有安装台,金属镀层镀制在陶瓷壳体的内表面,烧结涂釉层在陶瓷壳体的外表面,引线的一端焊接在金属镀层上,具有抗老化、耐冲击、耐磨和耐高温的优点,其结构简单、制作容易、绝缘和密封性能好、使用寿命长,可安装在各种水处理设备中用于对水进行高频换能处理。
文档编号C02F1/46GK2709426SQ200420009168
公开日2005年7月13日 申请日期2004年7月6日 优先权日2004年7月6日
发明者葛敬 申请人:葛敬
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