横流式臭氧反应槽的制作方法

文档序号:12392922阅读:448来源:国知局

本实用新型涉及一种横流式臭氧反应槽。



背景技术:

臭氧(化学分子式O3)又名三原子氧,自然界中的臭氧主要存在于地球表面1.2-3.5万米的高空中,在太阳紫外线作用下形成一个臭氧层。臭氧已被人类应用了近百年的历史,其科学价值显而易见,它对人类健康的作用更是经受住了历史和实践的考验。不论在防病方面,还是在治病方面,臭氧都有着奇特的效果。早在19世纪,人们利用臭氧的特殊作用,广泛的应用于消毒、水处理、医药卫生、食品保鲜等。一百多年来臭氧已深入到我们日常生活的各个方面,1902年,德国建立了第一座用臭氧处理水质的大规模水厂,开创了臭氧水处理的先河,现在世界上已有数千座臭氧水厂,欧美、日本、加拿大等国家的自来水厂应用臭氧已达到普及程度。矿泉水、纯净水厂家几乎都装备了臭氧设备,我们现在所喝的自来水、纯净水利用臭氧处理一下,就会提高水的口感和卫生条件。

但是现有技术的臭氧反应槽结构复杂、设备成本过高,存在需要投入过多、维修不便且反应时间不足导致臭氧利用率低,水质处理不干净等缺点。



技术实现要素:

针对现有技术的不足,本实用新型提供了一种横流式上下回流多段接触的臭氧反应槽。

为实现上述目的,本实用新型提供了如下技术方案:包括臭氧发生设备、尾气处理设备和臭氧反应槽,其特征是:所述臭氧反应槽包括槽体,所述槽体内通有原水,所述槽体内设置有多片第一阻挡板和第二阻挡板,且第一阻挡板与第二阻挡板交错排列;所述第一阻挡板和第二阻挡板的前边沿与后边沿均贴合于槽体的前内表面和后内表面;所述第一阻挡板的下边沿与槽体底面贴合,上边沿低于液体上表面,所述第二阻挡板的上边沿高于液体上表面,下边沿分离于槽体底面;所述槽体左侧设置有入水口,右侧设置有出水口,所述槽体的底部设置有多个臭氧入口。

通过上述技术方案,第一阻挡板的下边沿与槽体底面贴合,上边沿低于液体上表面为流体提供一个越流部,供其从上端流过;第二阻挡板的上边沿高于液体上表面,下边沿分离于槽体底面为流体提供一个潜流部,供其从底部流过;流体通过潜流部和越流部从左端流向右端,同时分多格从臭氧入口投加臭氧,实现与处理水充分接触,增加反应时间,提高臭氧利用率与水质处理效果。

优选的,所述槽体的左侧和右侧均为第一阻挡板,且入水口设置于槽体左侧的上端,出水口设置于槽体右侧的底部。

通过上述技术方案,使处理水从左侧上端流入,右侧底部流出,增加接触面积、接触路径和接触时间,提高反应效果。

优选的,所述槽体的顶端设置有尾气出口,所述尾气出口连接于尾气处理设备。

通过上述技术方案,尾气出口用于回收臭氧。

优选的,所述臭氧入口连接于臭氧发生设备。

通过上述技术方案,臭氧发生设备为反应提供臭氧。

附图说明

图1为本实用新型横流式臭氧反应槽的示意图。

附图标记:1、臭氧发生设备;2、尾气处理设备;3、臭氧反应槽;4、第一阻挡板;5、第二阻挡板;6、槽体;7、入水口;8、出水口;9、臭氧入口;10、尾气出口;11、液体上表面;12、接触槽;13、停留槽;14、越流部;15、潜流部。

具体实施方式

通过图1对本实用新型横流式臭氧反应槽作进一步的说明。

本实用新型的横流式臭氧反应槽,包括臭氧发生设备1、尾气处理设备2和臭氧反应槽3,其特征是:所述臭氧反应槽3包括槽体6,所述槽体6内通有原水,所述槽体6内设置有多片第一阻挡板4和第二阻挡板5,且第一阻挡板4与第二阻挡板5交错排列;所述第一阻挡板4和第二阻挡板5的前边沿与后边沿均贴合于槽体6的前内表面和后内表面;所述第一阻挡板4的下边沿与槽体底面贴合,上边沿低于液体上表面11,构成供流体向上通过的越流部14,所述第二阻挡板5的上边沿高于液体上表面11,下边沿分离于槽体6底面,构成供流体向下通过的潜流部15;所述槽体6左侧设置有入水口7,右侧设置有出水口8,所述槽体6的底部设置有多个臭氧入口9。

优选的,所述槽体6的左侧和右侧均为第一阻挡板4,且入水口7设置于槽体6左侧的上端,出水口8设置于槽体6右侧的底部。

优选的,所述槽体6的顶端设置有尾气出口10,所述尾气出口10连接于尾气处理设备2。

优选的,所述臭氧入口9连接于臭氧发生设备1。

如图1,臭氧入口9均设置于第一阻挡板4和第二阻挡板5之间,且第一阻挡板4在臭氧入口9的左侧,臭氧入口9所在的槽体6区域以及这一段区域内的第一阻挡板4和第二阻挡板5构成接触槽12,供臭氧与处理水冲击接触(水流向下,臭氧流向上),槽体6的最右端没有臭氧入口的区域构成停留槽13,为处理水和臭氧的分离提供一个缓冲空间。

以上所述仅是本实用新型的优选实施方式,本实用新型的保护范围并不仅局限于上述实施例,凡属于本实用新型思路下的技术方案均属于本实用新型的保护范围。应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型原理前提下的若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。

当前第1页1 2 3 
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1