1.一种化学清洗装置，包括支撑底座，其特征在于：所述支撑底座的顶端设有储水槽，所述储水槽的上表面设有凹槽，所述储水槽的前后两侧均设有挡水板，所述储水槽的右侧设有伸缩台，所述伸缩台的顶端固定安装有支撑板，所述支撑板的顶端设有高压泵，所述高压泵的右侧设有水箱，所述支撑板的底端设有分水管，所述分水管通过第二管道与高压泵相连，所述支撑底座的左侧设有稳定座，所述稳定座的顶端设有电机座，所述电机座的顶端设有电机，所述电机的右侧设有转动轴，所述转动轴的右侧设有清洗板，所述清洗板的上表面设有储存槽，所述储存槽的内侧设有固定板，所述固定板的外壁上设有橡胶膜，所述清洗板的外壁上设有螺杆，所述清洗板与螺杆螺纹相连，所述螺杆与固定板相连。
2.根据权利要求1所述的一种化学清洗装置，其特征在于：所述支撑板的顶端左侧设有风机，所述风机通过第一连接管与分水管相连。
3.根据权利要求1所述的一种化学清洗装置，其特征在于：所述转动轴与清洗板的连接处设有加固板。
4.根据权利要求1所述的一种化学清洗装置，其特征在于：所述水箱的外壁上设有透明窗。
5.根据权利要求1所述的一种化学清洗装置，其特征在于：所述支撑底座的底端设有橡胶垫。