一种化学实验用研磨装置的制造方法

文档序号:10912408阅读:686来源:国知局
一种化学实验用研磨装置的制造方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种化学实验用研磨装置,包括底座,所述底座左右两端分别设置有支架一与支架二,所述支架一与支架二顶部之间设置有横板,所述底座中部设置有旋转底座,所述旋转底座上放置有研磨盘,所述研磨盘上设置研磨垫,所述研磨盘右侧设置有研磨垫平整器,所述横板中部与研磨盘相对应位置设置有电机,所述电机上安装有伸缩转轴,所述伸缩转轴顶部设置有研磨头,所述支架一右侧设置有激光发射器,所述支架二左侧与激光发射器相对应位置设置探测器。通过利用电机带动研磨头工作,不需要人工操作,操作省时、省力,且提高了工作效率,同时设置伸缩转轴,可以方便调节研磨头与研磨盘的高低,满足了我们的不同需求,提高了我们的使用效率。
【专利说明】
一种化学实验用研磨装置
技术领域
[0001]本实用新型涉及化学实验领域,具体为一种化学实验用研磨装置。
【背景技术】
[0002]化学实验,是我们常见的一种实验方式,在化学实验中,我们会需要多种多样的化学器材与化学药品,而在我们化学器材中,我们比不可少的就是研磨装置,但是目前在化学实验过程中所使用的研钵主要由钵体和研磨锤构成,主要用来研细固体试剂,而这种研磨装置需要人工利用研磨锤在钵体内研磨,操作麻烦且浪费人力与时间,降低了化学实验时的效率,同时现有的机械研磨装置中,不能准确的控制研磨时的精度,从而影响了化学的实验。
【实用新型内容】
[0003]本实用新型的目的在于提供一种化学实验用研磨装置,以解决上述【背景技术】中提出的问题。
[0004]为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种化学实验用研磨装置,包括底座,所述底座左右两端分别设置有支架一与支架二,所述支架一与支架二顶部之间设置有横板,所述底座中部设置有旋转底座,所述旋转底座上放置有研磨盘,所述研磨盘上设置研磨垫,所述研磨盘右侧设置有研磨垫平整器,所述横板中部与研磨盘相对应位置设置有电机,所述电机上安装有伸缩转轴,所述伸缩转轴顶部设置有研磨头,所述支架一右侧设置有激光发射器,所述支架二左侧与激光发射器相对应位置设置探测器。
[0005]进一步地,所述旋转底座与研磨盘之间设置有固定装置。
[0006]进一步地,所述研磨盘的内面中设有连接研磨垫的粘接层。
[0007]进一步地,所述激光发射器与探测器分别与研磨盘之间呈同一水平面。
[0008]进一步地,所述电机、激光发射器与探测器均通过导线连接控制器。
[0009]与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:
[0010]本实用新型的一种化学实验用研磨装置,通过利用电机带动研磨头工作,不需要人工操作,操作省时、省力,且提高了工作效率,同时设置伸缩转轴,可以方便调节研磨头与研磨盘的高低,满足了我们的不同需求,提高了我们的使用效率,同时设置有激光发射器与探测器,可以方便我们对研磨时的检测,提高了研磨的精准度。
【附图说明】
[0011]图1为本实用新型结构示意图,
[0012]其中,1、底座,2、支架一,3、横板,4、电机,5、研磨头,6、伸缩转轴,7、旋转底座,8、研磨盘,9、研磨垫,10、研磨垫平整器,11、激光发射器,12、探测器,13、支架二。
【具体实施方式】
[0013]下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
[0014]请参阅图1,本实用新型提供一种技术方案:一种化学实验用研磨装置,包括底座I,所述底座I左右两端分别设置有支架一2与支架二 13,所述支架一2与支架二 13顶部之间设置有横板3,所述底座I中部设置有旋转底座7,所述旋转底座7上放置有研磨盘8,所述研磨盘8上设置研磨垫9,所述研磨盘8右侧设置有研磨垫平整器10,所述横板3中部与研磨盘8相对应位置设置有电机4,所述电机4上安装有伸缩转轴6,所述伸缩转轴6顶部设置有研磨头5,所述支架一 2右侧设置有激光发射器11,所述支架二 13左侧与激光发射器11相对应位置设置探测器12。
[0015]所述旋转底座7与研磨盘8之间设置有固定装置。
[0016]所述研磨盘8的内面中设有连接研磨垫9的粘接层。
[0017]所述激光发射器11与探测器12分别与研磨盘8之间呈同一水平面。
[0018]所述电机4、激光发射器11与探测器12均通过导线连接控制器。
[0019]综上所述,本实用新型通过利用电机4带动研磨头5工作,不需要人工操作,操作省时、省力,且提高了工作效率,同时设置伸缩转轴6,可以方便调节研磨头5与研磨盘8的高低,满足了我们的不同需求,提高了我们的使用效率,同时设置有激光发射器与探测器,可以方便我们对研磨时的检测,提高了研磨的精准度。
[0020]尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例,对于本领域的普通技术人员而言,可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型,本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。
【主权项】
1.一种化学实验用研磨装置,包括底座(I),所述底座(I)左右两端分别设置有支架一(2)与支架二(13),所述支架一 (2)与支架二(13)顶部之间设置有横板(3),其特征在于:所述底座(I)中部设置有旋转底座(7),所述旋转底座(7)上放置有研磨盘(8),所述研磨盘(8)上设置研磨垫(9),所述研磨盘(8)右侧设置有研磨垫平整器(10),所述横板(3)中部与研磨盘(8)相对应位置设置有电机(4),所述电机(4)上安装有伸缩转轴(6),所述伸缩转轴(6)顶部设置有研磨头(5),所述支架一 (2)右侧设置有激光发射器(11),所述支架二(13)左侧与激光发射器(11)相对应位置设置探测器(12)。2.根据权利要求1所述的一种化学实验用研磨装置,其特征在于:所述旋转底座(7)与研磨盘(8)之间设置有固定装置。3.根据权利要求1所述的一种化学实验用研磨装置,其特征在于:所述研磨盘(8)的内面中设有连接研磨垫(9)的粘接层。4.根据权利要求1所述的一种化学实验用研磨装置,其特征在于:所述激光发射器(11)与探测器(12)分别与研磨盘(8)之间呈同一水平面。5.根据权利要求1所述的一种化学实验用研磨装置,其特征在于:所述电机(4)、激光发射器(11)与探测器(12)均通过导线连接控制器。
【文档编号】B02C19/08GK205599287SQ201620403549
【公开日】2016年9月28日
【申请日】2016年5月6日
【发明人】卢陶然
【申请人】卢陶然
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