一种高浓度有机废水净水系统及工艺流程的制作方法

本发明涉及环保检测技术领域，具体为一种高浓度有机废水净水系统及工艺流程。

背景技术：

随着工业迅速发展，废水的种类和数量迅猛增加，对水体的污染也日趋广泛和严重，威胁人类的健康和安全。由于工业废水的成分更复杂，有机废水处理比城市污水处理更困难也更重要。高浓度有机废水主要具有以下特点：成分复杂。含有毒性物质废水中有机物以芳香族化合物和杂环化合物居多，还多含有硫化物、和有毒有机物。 且色度高，有异味。有些废水散发出刺鼻恶臭，给周围环境造成不良影响。 四是具有强酸强碱性。

工业产生的超高浓度有机废水中，酸、碱类众多，往往具有强酸或强碱性。一是需氧性危害：由于生物降解作用，高浓度有机废水会使受纳水体缺氧甚至厌氧，多数水生物将死亡，从而产生恶臭，恶化水质和环境。二是感观性污染：高浓度有机废水不但使水体失去使用价值，更严重影响水体附近人民的正常生活。三是致毒性危害：超高浓度有机废水中含有大量有毒有机物，会在水体、土壤等自然环境中不断累积、储存，最后进入人体，危害人体健康。

废水处理过程的各个组成部分可以分类为生物处理法、化学处理法、物理化学处理法、物理处理法等四种。对于高浓度有机废水的治理方法，往往是上述两种或三种方法进行综合处理。

但在传统的高浓度有机废水进行净化只能够净化一种或者类似的有机废水，难以适应多种混合有机废水的处理。

技术实现要素：

本发明的目的在于提供一种高浓度有机废水净水系统及工艺流程，以解决上述背景技术中提出的问题。

第一方面，本发明提供了一种高浓度有机废水净水系统及工艺流程，包括离子检测装置，还包括有机废水分布槽、设置在有机废水分布槽顶部的有机废水注入管道、设置在废水分布槽底部的电磁阀门组、电磁泵组以及设置在有机废水分布槽外的控制芯片，所述电磁阀门组底部连接有反应槽，所述控制芯片与电磁阀门组电性连接，所述控制芯片与电磁泵组电性连接，所述控制芯片与离子检测装置电性连接。

优选的，所述电磁阀门组包括硫离子电磁阀门、氢离子电磁阀门和卤素电磁阀门，所述电磁泵组包括硫离子电磁泵、氢离子电磁泵和卤素电磁泵，所述反应槽包括硫离子反应槽、氢离子反应槽和卤素反应槽。

优选的，所述硫离子反应槽设置在硫离子电磁阀门下方，所述氢离子反应槽设置在氢离子电磁阀门下方，所述卤素反应槽设置在卤素电磁阀门下方。

优选的，所述硫离子电磁泵连通有机废水分布槽和硫离子反应槽，所述氢离子电磁泵连通有机废水分布槽和氢离子反应槽，所述卤素电磁泵连接有机废水分布槽和卤素反应槽。

优选的，所述硫离子反应槽包括加温加压炉、仅含有单质氧的湿式氧化反应器、离子通入口以及反应物出口；所述氢离子反应槽包括添加口和计时器，所述计时器设置在氢离子反应槽外壁上，所述添加口外设置有密封盖；所述卤素反应槽包括金属粉末添加口、水添加口以及用于加速反应的搅拌装置。

优选的，所述离子通入口通入含有钙离子或者钡离子的溶液。

优选的，所述用于加速反应的搅拌装置固定设置在卤素反应槽顶部，所述金属粉末为铁粉。

第二方面，本发明提供了一种基于如上述第一方面中所述的高浓度有机废水净化系统的工艺流程，其特征在于，包括：

S1：离子检测装置对于有机废水中离子的检测；

S2：高浓度有机废水经过稀释之后通过有机废水注入管道进入有机废水分布槽；

S3：离子检测装置检测到的不同离子信息传递至控制芯片；

S4：若仅含有硫离子，则控制芯片控制硫离子电磁阀门打开进入硫离子反应槽进行处理；若仅含有氢离子，则控制芯片控制氢离子电磁阀门打开进入氢离子反应槽；若仅含有卤素离子，则控制芯片控制卤素电磁阀门打开进入卤素反应槽；

S5：若含有硫离子和氢离子，则控制芯片控制硫离子电磁阀门打开，当有机废水在硫离子反应槽上处理之后，通过硫离子电磁泵进入氢离子反应槽，进行处理；若含有硫离子和卤素，则控制芯片控制硫离子电磁阀门打开，当有机废水在硫离子反应槽上处理之后，通过硫离子电磁泵进入卤素反应槽，进行处理；若含有氢离子和卤素，则控制芯片控制氢离子电磁阀门打开，当有机废水在氢离子反应槽上处理之后，通过氢离子电磁泵进入卤素反应槽，进行处理；当三者都有，则控制芯片控制硫离子电磁阀门打开，有机废水在硫离子反应槽上处理之后，通过硫离子电磁泵进入氢离子反应槽，经过反应之后通过氢离子电磁泵进入卤素反应槽，进行处理。

优选的，所述硫离子反应槽内的处理过程为：

有机废水进入加温加压炉，在温度为320℃、压强为11MPa下停留30分钟，通过仅含有单质氧的用于出去废水中的有机物的湿式氧化反应器，之后在离子通入口通入含有钡离子或者钙离子的液体形成沉淀之后通过反应物出口排出。

优选的，所述氢离子反应槽内的处理过程为：

在添加口依次加入氢氧化镁粉末和二氧化锰粉末，用计时器计时，分别反应一小时；

优选的，所述卤素反应槽内的处理过程为：

在金属粉末添加口和水添加口分别添加铁粉和水，通过搅拌装置与有机废水加速进行脱卤处理，获得有机物和水，随后将有有机物通过超临界水氧化法进行处理。

与现有技术相比，本发明的有益效果为：本发明结构简单，通过增设离子检测装置检测有机废水中的离子给控制芯片，控制芯片控制电磁阀门组和电磁泵组的运动，能够方便有效地净化一种有机废水或者多种有机废水的混合废水，十分方便快捷。

附图说明

图1为本发明系统的结构示意图一；

图2为本发明系统的结构示意图二

图3为本发明的方法步骤图；

图4为本发明控制芯片控制流程示意图。

图中：1-离子检测装置；2-有机废水分布槽；3-有机废水注入管道；4-电磁阀门组；5-电磁泵组；6-控制芯片；7-反应槽；8-硫离子电磁阀门；9-氢离子电磁阀门；10-卤素电磁阀门；11-硫离子电磁泵；12-氢离子电磁泵；13-卤素电磁泵；14-硫离子反应槽；15-氢离子反应槽；16-卤素反应槽；17-加温加压炉；18-湿式氧化反应器；19-离子通入口；20-反应物出口；21-添加口；22-计时器；23-密封盖；24-金属粉末添加口；25-水添加口；26-搅拌装置。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

请参阅图1和图2所示，本发明实施例提供了一种高浓度有机废水净水系统，包括离子检测装置1，还包括有机废水分布槽2、设置在有机废水分布槽2顶部的有机废水注入管道3、设置在废水分布槽2底部的电磁阀门组4、电磁泵组5以及设置在有机废水分布槽2外的控制芯片6，所述电磁阀门组4底部连接有反应槽7，所述控制芯片6与电磁阀门组4电性连接，所述控制芯片6与电磁泵组5电性连接，所述控制芯片6与离子检测装置1电性连接；所述电磁阀门组4包括硫离子电磁阀门8、氢离子电磁阀门9和卤素电磁阀门10，所述电磁泵组5包括硫离子电磁泵11、氢离子电磁泵12和卤素电磁泵13，所述反应槽7包括硫离子反应槽14、氢离子反应槽15和卤素反应槽16；所述硫离子反应槽14设置在硫离子电磁阀门8下方，所述氢离子反应槽15设置在氢离子电磁阀门9下方，所述卤素反应槽16设置在卤素电磁阀门10下方；所述硫离子电磁泵11连通有机废水分布槽14和硫离子反应槽8，所述氢离子电磁泵12连通有机废水分布槽15和氢离子反应槽9，所述卤素电磁泵13连接有机废水分布槽16和卤素反应槽10；所述硫离子反应槽14包括加温加压炉17、仅含有单质氧的湿式氧化反应器18、离子通入口19以及反应物出口20；所述氢离子反应槽15包括添加口21和计时器22，所述计时器22设置在氢离子反应槽15外壁上，所述添加口21外设置有防止内部反应泄露的密封盖23；所述卤素反应槽16包括金属粉末添加口24、水添加口25以及用于加速反应的搅拌装置26；所述离子通入口19通入含有钙离子或者钡离子的溶液；所述用于加速反应的搅拌装置26固定设置在卤素反应槽16顶部，所述金属粉末为铁粉。

请参阅图3和图4所示，本发明实施例提供了一种高浓度有机废水净化系统的工艺流程，包括：

离子检测装置1对于有机废水中离子的检测；

高浓度有机废水经过稀释之后通过有机废水注入管道3进入有机废水分布槽2；

离子检测装置1检测到的不同离子信息传递至控制芯片6；

若仅含有硫离子，则控制芯片6控制硫离子电磁阀门8打开进入硫离子反应槽14进行处理；若仅含有氢离子，则控制芯片6控制氢离子电磁阀门9打开进入氢离子反应槽15；若仅含有卤素离子，则控制芯片6控制卤素电磁阀门10打开进入卤素反应槽16；

若含有硫离子和氢离子，则控制芯片6控制硫离子电磁阀门8打开，当有机废水在硫离子反应槽14上处理之后，通过硫离子电磁泵11进入氢离子反应槽9，进行处理；若含有硫离子和卤素，则控制芯片6控制硫离子电磁阀门8打开，当有机废水在硫离子反应槽14上处理之后，通过硫离子电磁泵11进入卤素反应槽16，进行处理；若含有氢离子和卤素，则控制芯片6控制氢离子电磁阀门9打开，当有机废水在氢离子反应槽15上处理之后，通过氢离子电磁泵12进入卤素反应槽16，进行处理；当三者都有，则控制芯片6控制硫离子电磁阀门8打开，有机废水在硫离子反应槽14上处理之后，通过硫离子电磁泵11进入氢离子反应槽15，经过反应之后通过氢离子电磁泵12进入卤素反应槽16，进行处理。

进一步的，所述硫离子反应槽14内的处理过程为：

有机废水进入加温加压炉17，在温度为320℃、压强为11MPa下停留30分钟，通过仅含有单质氧的用于出去废水中的有机物的湿式氧化反应器18，之后在离子通入口19通入含有钡离子或者钙离子的液体形成沉淀之后通过反应物出口20排出。

进一步的，所述氢离子反应槽15内的处理过程为：在添加口21依次加入氢氧化镁粉末和二氧化锰粉末，盖上密封盖23，用计时器22计时，分别反应一小时；所述卤素反应槽内16的处理过程为：在金属粉末添加口24和水添加口25分别添加铁粉和水，通过搅拌装置26与有机废水进行加速脱卤处理，获得有机物和水，随后将有有机物通过超临界水氧化法进行处理。

尽管已经示出和描述了本发明的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。