本实用新型属于污水处理技术领域，具体涉及一种钎剂废水处理装置。
背景技术：
钎剂是钎焊时使用的溶剂，其作用为清除钎料和母材表面的氧化物，并保护焊件和液态钎料在钎焊过程中免于氧化，改善液态钎料对焊件的润湿性。钎剂生产的废水COD含量一般在2000-10000㎎/L，此类废水生化性很差。传统钎剂废水处理方式为沉淀+蒸发工艺，但由于废水中存在表面活性剂，废水蒸发过程中会有大量泡沫随蒸馏管溢出，导致COD浓度以及氟离子浓度超标。
技术实现要素：
本实用新型的目的是提供一种钎剂废水处理装置，该钎剂废水处理装置能有效降低泥渣堵塞设备的几率，提高废水处理效率。
为实现上述目的，本实用新型采用如下技术方案：
本实用新型一种钎剂废水处理装置，包括调节池、反应沉淀池、第一超滤模块、pH调节池、反应器、第二超滤模块、脱水机以及储泥池，调节池与反应沉淀池通过水泵相连，反应沉淀池的侧面设有出水口，反应沉淀池的底部设有排污口，反应沉淀池的出水口、第一超滤模块、pH调节池、反应器以及第二超滤模块通过管道顺次连接，反应沉淀池的排污口与储泥池管道连接，储泥池与脱水机相连。
本实用新型与现有技术不同之处在于：本实用新型现在调节池内注入氢氧化钙及粉末活性炭溶液，从而使得氟离子与钙离子生成氟化钙颗粒，有机物被粉末活性炭吸附，以上两种颗粒大部分经沉淀得以去除，余下的溶解态有机物则依次经过第一超滤模块、反应器、第二超滤模块后达到排放标准，排出的水具有无污染的特点。
作为本实用新型的改进，还包括液位计，液位计设置在反应沉淀池内。
这种设计能够准确测量反应沉淀池内的废水深度，为后续排泥机的开启做准备。
作为本实用新型的改进，还包括排泥机，排泥机安装在反应沉淀池的底部。
这种设计能即使去除反应沉淀池内的泥渣，防止反应沉淀池内的排泥口被堵塞。
作为本实用新型的改进，其特征在于，所述反应器为光催化反应器。
这种设计能快速、高效的去除废水中难降解的部分有机物。
综上所述，本实用新型的有益效果是：废水处理后达到排放标准、无污染。
附图说明
图1是本实用新型结构示意图。
具体实施方式
实施例，如图1所示，钎剂废水处理装置，包括调节池1、反应沉淀池2、第一超滤模块3、pH调节池4、反应器5、第二超滤模块6、脱水机7以及储泥池8，调节池1与反应沉淀池2通过水泵相连，反应沉淀池2的侧面设有出水口，反应沉淀池2的底部设有排污口，反应沉淀池2的出水口、第一超滤模块3、pH调节池4、反应器5以及第二超滤模块6通过管道顺次连接，反应沉淀池2的排污口与储泥池8管道连接，储泥池8与脱水机7相连。
为准确测量反应沉淀池2内废水容量，本实用新型还包括液位计，液位计设置在反应沉淀池2内。
为及时排出反应沉淀池2内的污泥，防止污泥堵塞反应沉淀池2，本实用新型还包括排泥机，排泥机安装在反应沉淀池2的底部。
为有效去除难降解的部分有机物，本实用新型所述反应器5为光催化反应器。
本实用新型的工作原理：原水首先进入调节池，加入氢氧化钙及粉末活性炭溶液后经水泵提升至反应沉淀池，在反应沉淀池内，氟离子与钙离子生成氟化钙颗粒，有机物被粉末活性炭吸附，以上两种颗粒大部分经沉淀得以去除，其余小部分进入第一超滤模块，经过滤后出水氟离子浓度已基本满足排放要求，但仍有部分溶解态有机物存在，由于第一超滤膜块出水为碱性，因此，需在pH调节池内加入盐酸调节pH值至中性后，进入UV(紫外线光)+H2O2 (双氧水)+TiO2(二氧化钛)光催化反应器，在反应器内难降解的部分有机物经光催化降解后进一步去除，然后进入第二超滤模块，截留其中的催化剂并回流，处理后出水污染物达到排放标准，与此同时，经由反应沉淀池沉淀下来的废水进入到储泥池内，并最终输送给脱水机脱水，脱水后的污泥外运处理，脱水后的污泥液回流至调节池循环处理。
本实用新型未作具体说明的均采用现有技术。
以上所述的实施例仅仅是对本实用新型的优选实施方式进行描述，并非对本实用新型的范围进行限定，在不脱离本实用新型设计精神的前提下，本领域普通技术人员对本实用新型的技术方案做出的各种变形和改进，均应落入本实用新型权利要求书确定的保护范围内。