一种硫系玻璃光纤端面的抛光方法
【专利摘要】本发明公开了一种硫系玻璃光纤端面的抛光方法，将光纤固定在光纤夹具中，先后利用金刚石粒度为W100、W30、W20、W9、W3、W1的抛光纸对抛光面进行逐次研磨抛光，在每次抛光后，通过光学显微镜对硫系玻璃光纤端面的抛光质量进行实时检查；与传统的石英光纤端面抛光方法相比，本发明抛光方法无需使用陶瓷插芯来固定光纤端面进行抛光，可有效避免陶瓷插芯在抛光过程中产生的碎屑对硫系玻璃光纤端面的损伤和污染，也避免了在硫系玻璃光纤与陶瓷插芯固定过程中使用的高温胶对光纤端面造成二次污染。本发明抛光方法操作简单便捷，可有效避免抛光过程中外界因素对光纤端面的污染和破坏，抛光得到的硫系玻璃光纤端面质量高，跳线损耗低。
【专利说明】
一种硫系玻璃光纤端面的抛光方法
技术领域
[0001 ]本发明涉及一种抛光方法，具体为一种硫系玻璃光纤端面的抛光方法。
【背景技术】
[0002] 硫系玻璃光纤具有透红外范围宽、非线性系数高、中红外跃迀效率高等优点，在红 外激光导能、中红外超连续谱产生、中红外拉曼光纤激光器、中红外稀土掺杂光纤激光器等 领域有着广泛的应用前景。但硫系玻璃光纤普遍存在机械强度低的缺点，在拉制过程中，需 要在光纤表面外加有机塑料涂覆层增强其机械强度。在后续使用前，如何剥离硫系玻璃光 纤表面的有机塑料涂覆层，并实现高质量的光纤端面加工是硫系玻璃光纤应用的关键技 术，硫系玻璃光纤端面的加工质量直接影响其使用效果。目前硫系玻璃光纤通常借鉴传统 的石英光纤的抛光方法进行抛光。传统的石英光纤抛光，是先将光纤表面的涂覆层剥离，得 到裸光纤，然后将裸光纤插入到陶瓷插芯内，并用高温胶将裸光纤固定在插芯内，再放入高 温箱中高温固化，之后将伸出插芯芯孔外的小段光纤切除，最后将石英插芯和裸光纤一起 抛光。对于石英光纤或硫系玻璃光纤的抛光，必须保证插芯的材质和待抛光光纤一致，否则 抛光过程中光纤和插芯无法同步抛光，会造成光纤端面不平整，而且插芯材料在抛光过程 中研磨出的碎肩也会造成光纤端面破损，此外，在固定过程中使用的高温胶也会对光纤端 面产生二次污染。对于抛光过程中研磨出的碎肩及高温胶产生二次污染对光纤端面的影响 问题，目前的做法是增多对端面的抛光、清洁次数及时间，但这会大幅降低抛光效率，且抛 光质量难以保证。因此急需开发一种新的硫系玻璃光纤端面的抛光方法，以提高抛光效率 并降低损耗。
【发明内容】
[0003] 本发明所要解决的技术问题是提供一种硫系玻璃光纤端面的抛光方法，主要针对 带有有机塑料涂覆层的硫系玻璃光纤的端面的抛光，该抛光方法无需借助陶瓷插芯，可有 效避免抛光过程中外界因素对光纤端面的污染和破坏，抛光得到的硫系玻璃光纤端面质量 高，经本发明方法抛光的光纤的跳线损耗较之传统抛光方法抛光的光纤的跳线损耗大幅降 低，仅为传统抛光方法抛光的光纤的跳线损耗的40 %左右。
[0004] 本发明解决上述技术问题所采用的技术方案为:一种硫系玻璃光纤端面的抛光方 法，包括如下步骤：
[0005] 1)选取一段带有有机塑料涂覆层的硫系玻璃光纤，将硫系玻璃光纤的一端浸泡在 有机溶剂中，直至光纤一端表面的有机塑料涂覆层自行脱落，露出裸光纤，将光纤的一端从 有机溶剂中取出，用酒精对裸光纤的表面进行清洁；
[0006] 2)利用光纤切割刀对裸光纤的端部进行切割，切出平整的光纤端面，通过光学显 微镜检查该光纤端面的切割质量，确保光纤端面无裂纹，该光纤端面即为抛光面；
[0007] 3)选取一台光纤抛光机，将光纤固定在光纤抛光机上的光纤夹具中，再将光纤夹 具安装在抛光机上;然后在抛光机的抛光圆盘上放置金刚石粒度为W100的初磨抛光纸，在 该初磨抛光纸上喷洒蒸馏水和酒精;之后调节光纤夹具的三维位置，使抛光面轻轻贴靠在 初磨抛光纸的纸面上；启动光纤抛光机，使抛光圆盘以100~200r/min的固定转速转动，通 过初磨抛光纸对该抛光面研磨1~5min，抛光后，用酒精清洗该抛光面，并用无尘布清理酒 精残液及抛光过程中产生的残肩，再采用光学显微镜检查该抛光面的抛光质量；
[0008] 4)将初磨抛光纸自抛光圆盘上取下，换上金刚石粒度为W30的粗磨抛光纸，在该粗 磨抛光纸上喷洒蒸馏水和酒精，启动光纤抛光机，使抛光圆盘以100~200r/min的固定转速 转动，通过粗磨抛光纸对该抛光面研磨3~5min，抛光后，用酒精清洗该抛光面，并用无尘布 清理酒精残液及抛光过程中产生的残肩，再采用光学显微镜检查该抛光面的抛光质量；
[0009] 5)将金刚石粒度为W30的粗磨抛光纸自抛光圆盘上取下，换上金刚石粒度为W20的 粗磨抛光纸，在该粗磨抛光纸上喷洒蒸馏水和酒精，启动光纤抛光机，使抛光圆盘以100~ 200r/min的固定转速转动，通过粗磨抛光纸对该抛光面研磨3~5min，抛光后，用酒精清洗 该抛光面，并用无尘布清理酒精残液及抛光过程中产生的残肩，再采用光学显微镜检查该 抛光面的抛光质量；
[0010] 6)将金刚石粒度为W20的粗磨抛光纸自抛光圆盘上取下，换上金刚石粒度为W9的 半细磨抛光纸，在该半细磨抛光纸上喷洒蒸馏水和酒精，启动光纤抛光机，使抛光圆盘以 100~200r/min的固定转速转动，通过半细磨抛光纸对该抛光面研磨5~lOmin，抛光后，用 酒精清洗该抛光面，并用无尘布清理酒精残液及抛光过程中产生的残肩，再采用光学显微 镜检查该抛光面的抛光质量；
[0011] 7)将半细磨抛光纸自抛光圆盘上取下，换上金刚石粒度为W3的细磨抛光纸，在该 细磨抛光纸上喷洒蒸馏水和酒精，启动光纤抛光机，使抛光圆盘以100~200r/min的固定转 速转动，通过细磨抛光纸对该抛光面研磨5~lOmin，抛光后，用酒精清洗该抛光面，并用无 尘布清理酒精残液及抛光过程中产生的残肩，再采用光学显微镜检查该抛光面的抛光质 量；
[0012] 8)将金刚石粒度为W3的细磨抛光纸自抛光圆盘上取下，换上金刚石粒度为W1的细 磨抛光纸，在该细磨抛光纸上喷洒蒸馏水和酒精，启动光纤抛光机，使抛光圆盘以1 〇〇~ 200r/min的固定转速转动，通过细磨抛光纸对该抛光面研磨5~lOmin，抛光后，用酒精清洗 该抛光面，并用无尘布清理酒精残液及抛光过程中产生的残肩，再采用光学显微镜检查该 抛光面的抛光质量；
[0013] 9)将金刚石粒度为W1的细磨抛光纸自抛光圆盘上取下，换上透明抛光纸，在该透 明抛光纸上喷洒抛光试剂，启动光纤抛光机，使抛光圆盘以100~200r/min的固定转速转 动，通过透明抛光纸对该抛光面研磨3~5min，抛光后，用酒精清洗该抛光面，并用无尘布清 理酒精残液及抛光试剂残液，采用光学显微镜检查抛光面是否合格，如不合格，返工重新抛 光，直至合格，即完成对硫系玻璃光纤的一个端面的抛光。
[0014] 作为优选，所述的有机塑料涂覆层由丙烯酸树脂、聚醚砜树脂或聚亚苯基砜树脂 构成，所述的有机溶剂为乙醚、二甲基乙酰胺或二氯甲烷。
[0015] 作为优选，步骤1)中，光纤的一端在有机溶剂中的浸泡长度为10~20mm，步骤2)中 切除的光纤长度为3~5mm。
[0016] 作为优选，步骤9)中所用的抛光试剂由蒸馏水与氧化铈粉末以（1~3): (2~5)的 重量比混合而成。进一步地，所述的氧化铈粉末的粒度为W1。
[0017] 作为优选，所述的光纤抛光机为美国ULTRAP0L公司提供的型号为ULTRAPOL 1200 的透镜光纤研磨机。
[0018] 与现有技术相比，本发明的优点在于:本发明公开的硫系玻璃光纤端面的抛光方 法，抛光前通过有机溶剂浸泡去除硫系玻璃光纤端面的有机塑料涂覆层，露出裸光纤，然后 在裸光纤的端部切割出平整的光纤端面，再选取一台光纤抛光机，将光纤固定在光纤夹具 中，先后利用金刚石粒度为W100、W30、W20、W9、W3、W1的抛光纸对抛光面进行逐次研磨抛光； 在研磨抛光过程中，抛光圆盘带动抛光纸转动，抛光纸表面的磨料颗粒对光纤抛光面进行 磨削，去除光纤抛光面上凹凸的微痕结构，在抛光的同时通过蒸馏水和酒精来去除研磨产 生的碎肩，最后一道抛光中，在透明抛光纸的表面喷洒抛光试剂，对抛光面进行最后的抛 光，通过抛光试剂的化学吸附作用将抛光面的光纤材料吸附出来，使抛光面残存的破损的 光纤得到有效去除;此外，在每次抛光后，通过光学显微镜对硫系玻璃光纤端面的抛光质量 进行实时检查。与传统的石英光纤端面抛光方法相比，本发明抛光方法无需使用陶瓷插芯 来固定光纤端面进行抛光，可有效避免陶瓷插芯在抛光过程中产生的碎肩对硫系玻璃光纤 端面的损伤和污染，也避免了在硫系玻璃光纤与陶瓷插芯固定过程中使用的高温胶对光纤 端面造成二次污染。本发明抛光方法操作简单便捷，可有效避免抛光过程中外界因素对光 纤端面的污染和破坏，抛光得到的硫系玻璃光纤端面质量高，经本发明方法抛光的光纤的 跳线损耗较之传统抛光方法抛光的光纤的跳线损耗大幅降低，仅为传统抛光方法抛光的光 纤的跳线损耗的40 %左右。
【附图说明】
[0019] 图1为实施例1的Ge15Sb2QSe65硫系玻璃光纤经过金刚石粒度为W100的初磨抛光纸 初磨后，在显微镜下的端面图；
[0020] 图2为实施例1的Gei5Sb2QSe65硫系玻璃光纤经过金刚石粒度为W30的粗磨抛光纸粗 磨后，在显微镜下的端面图；
[0021] 图3为实施例1的Gei5Sb2QSe65硫系玻璃光纤经过金刚石粒度为W20的粗磨抛光纸粗 磨后，在显微镜下的端面图；
[0022]图4为实施例1的Ge15Sb2QSe65硫系玻璃光纤经过金刚石粒度为W9的半细磨抛光纸 半细磨后，在显微镜下的端面图；
[0023]图5为实施例1的Ge15Sb2QSe65硫系玻璃光纤经过金刚石粒度为W3的细磨抛光纸细 磨后，在显微镜下的端面图；
[0024]图6为实施例1的Ge15Sb2QSe65硫系玻璃光纤经过金刚石粒度为W1的细磨抛光纸细 磨后，在显微镜下的端面图；
[0025]图7为实施例1的Ge15Sb2QSe65硫系玻璃光纤经过透明抛光纸最终抛光后，在显微镜 下的端面图。
【具体实施方式】
[0026]以下实施例结合附图对本发明作进一步详细描述。
[0027]实施例1:以带有PES有机塑料涂覆层的Ge15Sb2QSe65硫系玻璃光纤为例，其端面的 抛光方法，包括如下步骤：
[0028] 1)选取一段带有PES有机塑料涂覆层的Ge15Sb2QSe65硫系玻璃光纤，将Ge 15Sb2QSe65 硫系玻璃光纤的一端浸泡在装有二甲基乙酰胺的烧杯中，浸泡长度为15mm，8分钟后光纤一 端表面的有机塑料涂覆层自行脱落，露出裸光纤，将光纤的一端从二甲基乙酰胺中取出，用 酒精对裸光纤的表面进行清洁；
[0029] 2)利用光纤切割刀对裸光纤的端部进行切割，切除3mm长的光纤，切出平整的光纤 端面，通过光学显微镜检查该光纤端面的切割质量，观察到光纤端面无裂纹，该光纤端面即 为抛光面；
[0030] 3)选取一台光纤抛光机（具体可选用美国ULTRAP0L公司提供的型号为ULTRAP0L 1200的透镜光纤研磨机），将光纤固定在光纤抛光机上的光纤夹具中，再将光纤夹具安装在 抛光机上;然后在抛光机的抛光圆盘上放置金刚石粒度为W100的初磨抛光纸，在该初磨抛 光纸上喷洒蒸馏水和酒精;之后调节光纤夹具的三维位置，使抛光面轻轻贴靠在初磨抛光 纸的纸面上；启动光纤抛光机，使抛光圆盘以200r/min的固定转速转动，通过初磨抛光纸对 该抛光面研磨lmin，抛光后，用酒精清洗该抛光面，并用无尘布清理酒精残液及抛光过程中 产生的残肩，再采用光学显微镜检查该抛光面的抛光质量，观察到经过初磨后光纤端面划 痕深浅不一，划痕多，表面粗糙、不平整，其显微镜下的端面图见图1;
[0031] 4)将初磨抛光纸自抛光圆盘上取下，换上金刚石粒度为W30的粗磨抛光纸，在该粗 磨抛光纸上喷洒蒸馏水和酒精，启动光纤抛光机，使抛光圆盘以200r/min的固定转速转动， 通过粗磨抛光纸对该抛光面研磨3min，抛光后，用酒精清洗该抛光面，并用无尘布清理酒精 残液及抛光过程中产生的残肩，再采用光学显微镜检查该抛光面的抛光质量，观察到经过 粗磨后光纤端面的划痕明显减少，划痕深浅度接近一致，表面粗糙度得到改善，其显微镜下 的端面图见图2;
[0032] 5)将金刚石粒度为W30的粗磨抛光纸自抛光圆盘上取下，换上金刚石粒度为W20的 粗磨抛光纸，在该粗磨抛光纸上喷洒蒸馏水和酒精，启动光纤抛光机，使抛光圆盘以200r/ min的固定转速转动，通过粗磨抛光纸对该抛光面研磨3min，抛光后，用酒精清洗该抛光面， 并用无尘布清理酒精残液及抛光过程中产生的残肩，再采用光学显微镜检查该抛光面的抛 光质量，观察到经过进一步粗磨后光纤端面的划痕继续减少，划痕深浅度和表面粗糙度得 到进一步改善，其显微镜下的端面图见图3;
[0033] 6)将金刚石粒度为W20的粗磨抛光纸自抛光圆盘上取下，换上金刚石粒度为W9的 半细磨抛光纸，在该半细磨抛光纸上喷洒蒸馏水和酒精，启动光纤抛光机，使抛光圆盘以 200r/min的固定转速转动，通过半细磨抛光纸对该抛光面研磨5min，抛光后，用酒精清洗该 抛光面，并用无尘布清理酒精残液及抛光过程中产生的残肩，再采用光学显微镜检查该抛 光面的抛光质量，观察到经过半细磨后光纤端面划痕减少，表面粗糙度降低，划痕变浅，端 面更平整，其显微镜下的端面图见图4;
[0034] 7)将半细磨抛光纸自抛光圆盘上取下，换上金刚石粒度为W3的细磨抛光纸，在该 细磨抛光纸上喷洒蒸馏水和酒精，启动光纤抛光机，使抛光圆盘以200r/min的固定转速转 动，通过细磨抛光纸对该抛光面研磨9min，抛光后，用酒精清洗该抛光面，并用无尘布清理 酒精残液及抛光过程中产生的残肩，再采用光学显微镜检查该抛光面的抛光质量，观察到 经过细磨后光纤端面划痕更细、更少，端面更光亮，其显微镜下的端面图见图5;
[0035] 8)将金刚石粒度为W3的细磨抛光纸自抛光圆盘上取下，换上金刚石粒度为W1的细 磨抛光纸，在该细磨抛光纸上喷洒蒸馏水和酒精，启动光纤抛光机，使抛光圆盘以200r/min 的固定转速转动，通过细磨抛光纸对该抛光面研磨9min，抛光后，用酒精清洗该抛光面，并 用无尘布清理酒精残液及抛光过程中产生的残肩，再采用光学显微镜检查该抛光面的抛光 质量，观察到经过进一步细磨后光纤端面划痕基本完全去除，且端面光滑、平整，其显微镜 下的端面图见图6;
[0036] 9)将金刚石粒度为W1的细磨抛光纸自抛光圆盘上取下，换上透明抛光纸，在该透 明抛光纸上喷洒抛光试剂，该抛光试剂由蒸馏水与粒度为W1的氧化铈粉末以3: 5的重量比 混合而成，启动光纤抛光机，使抛光圆盘以l〇〇r/min的固定转速转动，通过透明抛光纸对该 抛光面研磨3min，抛光后，用酒精清洗该抛光面，并用无尘布清理酒精残液及抛光试剂残 液，采用光学显微镜检查抛光面是否合格，观察到经过最后一个抛光步骤后，光纤端面光 亮、平滑、完整，无裂纹、无划痕，划痕得到完全去除，其显微镜下的端面图见图7,至此，即完 成对Gei5Sb2〇Se65硫系玻璃光纤的一个端面的抛光；
[0037] 重复步骤1)~步骤9)，完成Ge15Sb2QSe65硫系玻璃光纤的另一个端面的抛光，得到 两端抛光的Gei5Sb2〇Se65硫系玻璃光纤。在不同的激光器输出功率下，通过1550nm半导体激 光器检测该两端抛光的G ei5Sb2QSe65硫系玻璃光纤的跳线损耗，作为对比，也检测了使用陶 瓷插芯进行两端端面抛光的传统方法抛光后的Ge 15Sb2QSe65硫系玻璃光纤的跳线损耗。检测 结果见表1，从表1可见，经本发明方法抛光的光纤的跳线损耗较之传统抛光方法抛光的光 纤的跳线损耗大幅降低，仅为传统抛光方法抛光的光纤的跳线损耗的40%左右。
[0038] 表1本发明抛光方法与传统抛光方法抛光后的光纤跳线损耗对比
[0040] 实施例2:以带有丙烯酸树脂涂覆层的Gei5Sb15Se7()硫系玻璃光纤为例，其端面的抛 光方法，包括如下步骤：
[0041] 1)选取一段带有丙烯酸树脂涂覆层的Ge15Sb15Se7〇硫系玻璃光纤，将Ge 15Sb15Se7〇硫 系玻璃光纤的一端浸泡在装有二氯甲烷的烧杯中，浸泡长度为13mm，6分钟后光纤一端表面 的有机塑料涂覆层自行脱落，露出裸光纤，将光纤的一端从二氯甲烷中取出，用酒精对裸光 纤的表面进行清洁；
[0042] 2)利用光纤切割刀对裸光纤的端部进行切割，切除5mm长的光纤，切出平整的光纤 端面，通过光学显微镜检查该光纤端面的切割质量，观察到光纤端面无裂纹，该光纤端面即 为抛光面；
[0043] 3)选取一台光纤抛光机（具体可选用美国ULTRAP0L公司提供的型号为ULTRAPOL 1200的透镜光纤研磨机），将光纤固定在光纤抛光机上的光纤夹具中，再将光纤夹具安装在 抛光机上;然后在抛光机的抛光圆盘上放置金刚石粒度为W100的初磨抛光纸，在该初磨抛 光纸上喷洒蒸馏水和酒精;之后调节光纤夹具的三维位置，使抛光面轻轻贴靠在初磨抛光 纸的纸面上；启动光纤抛光机，使抛光圆盘以150r/min的固定转速转动，通过初磨抛光纸对 该抛光面研磨2min，抛光后，用酒精清洗该抛光面，并用无尘布清理酒精残液及抛光过程中 产生的残肩，再采用光学显微镜检查该抛光面的抛光质量；
[0044] 4)将初磨抛光纸自抛光圆盘上取下，换上金刚石粒度为W30的粗磨抛光纸，在该粗 磨抛光纸上喷洒蒸馏水和酒精，启动光纤抛光机，使抛光圆盘以150r/min的固定转速转动， 通过粗磨抛光纸对该抛光面研磨4min，抛光后，用酒精清洗该抛光面，并用无尘布清理酒精 残液及抛光过程中产生的残肩，再采用光学显微镜检查该抛光面的抛光质量；
[0045] 5)将金刚石粒度为W30的粗磨抛光纸自抛光圆盘上取下，换上金刚石粒度为W20的 粗磨抛光纸，在该粗磨抛光纸上喷洒蒸馏水和酒精，启动光纤抛光机，使抛光圆盘以150r/ min的固定转速转动，通过粗磨抛光纸对该抛光面研磨3min，抛光后，用酒精清洗该抛光面， 并用无尘布清理酒精残液及抛光过程中产生的残肩，再采用光学显微镜检查该抛光面的抛 光质量；
[0046] 6)将金刚石粒度为W20的粗磨抛光纸自抛光圆盘上取下，换上金刚石粒度为W9的 半细磨抛光纸，在该半细磨抛光纸上喷洒蒸馏水和酒精，启动光纤抛光机，使抛光圆盘以 150r/min的固定转速转动，通过半细磨抛光纸对该抛光面研磨8min，抛光后，用酒精清洗该 抛光面，并用无尘布清理酒精残液及抛光过程中产生的残肩，再采用光学显微镜检查该抛 光面的抛光质量；
[0047] 7)将半细磨抛光纸自抛光圆盘上取下，换上金刚石粒度为W3的细磨抛光纸，在该 细磨抛光纸上喷洒蒸馏水和酒精，启动光纤抛光机，使抛光圆盘以150r/min的固定转速转 动，通过细磨抛光纸对该抛光面研磨8min，抛光后，用酒精清洗该抛光面，并用无尘布清理 酒精残液及抛光过程中产生的残肩，再采用光学显微镜检查该抛光面的抛光质量；
[0048] 8)将金刚石粒度为W3的细磨抛光纸自抛光圆盘上取下，换上金刚石粒度为W1的细 磨抛光纸，在该细磨抛光纸上喷洒蒸馏水和酒精，启动光纤抛光机，使抛光圆盘以150r/min 的固定转速转动，通过细磨抛光纸对该抛光面研磨l〇min，抛光后，用酒精清洗该抛光面，并 用无尘布清理酒精残液及抛光过程中产生的残肩，再采用光学显微镜检查该抛光面的抛光 质量；
[0049] 9)将金刚石粒度为W1的细磨抛光纸自抛光圆盘上取下，换上透明抛光纸，在该透 明抛光纸上喷洒抛光试剂，该抛光试剂由蒸馏水与粒度为W1的氧化铈粉末以1:2的重量比 混合而成，启动光纤抛光机，使抛光圆盘以120r/min的固定转速转动，通过透明抛光纸对该 抛光面研磨4min，抛光后，用酒精清洗该抛光面，并用无尘布清理酒精残液及抛光试剂残 液，采用光学显微镜检查抛光面是否合格，观察到经过最后一个抛光步骤后，光纤端面光 亮、平滑、完整，无裂纹、无划痕，划痕得到完全去除，至此，即完成对Ge 15Sb15Se7〇硫系玻璃光 纤的一个端面的抛光。重复步骤1)~步骤9)，可完成Gei5Sbi5Se7〇硫系玻璃光纤的另一个端 面的抛光。
【主权项】
1. 一种硫系玻璃光纤端面的抛光方法，其特征在于包括如下步骤： 1) 选取一段带有有机塑料涂覆层的硫系玻璃光纤，将硫系玻璃光纤的一端浸泡在有机 溶剂中，直至光纤一端表面的有机塑料涂覆层自行脱落，露出裸光纤，将光纤的一端从有机 溶剂中取出，用酒精对裸光纤的表面进行清洁； 2) 利用光纤切割刀对裸光纤的端部进行切割，切出平整的光纤端面，通过光学显微镜 检查该光纤端面的切割质量，确保光纤端面无裂纹，该光纤端面即为抛光面； 3) 选取一台光纤抛光机，将光纤固定在光纤抛光机上的光纤夹具中，再将光纤夹具安 装在抛光机上;然后在抛光机的抛光圆盘上放置金刚石粒度为W100的初磨抛光纸，在该初 磨抛光纸上喷洒蒸馏水和酒精;之后调节光纤夹具的三维位置，使抛光面轻轻贴靠在初磨 抛光纸的纸面上；启动光纤抛光机，使抛光圆盘以100~200 r/min的固定转速转动，通过初 磨抛光纸对该抛光面研磨1~5 min，抛光后，用酒精清洗该抛光面，并用无尘布清理酒精残 液及抛光过程中产生的残肩，再采用光学显微镜检查该抛光面的抛光质量； 4) 将初磨抛光纸自抛光圆盘上取下，换上金刚石粒度为W30的粗磨抛光纸，在该粗磨抛 光纸上喷洒蒸馏水和酒精，启动光纤抛光机，使抛光圆盘以100~200 r/min的固定转速转 动，通过粗磨抛光纸对该抛光面研磨3~5 min，抛光后，用酒精清洗该抛光面，并用无尘布 清理酒精残液及抛光过程中产生的残肩，再采用光学显微镜检查该抛光面的抛光质量； 5) 将金刚石粒度为W30的粗磨抛光纸自抛光圆盘上取下，换上金刚石粒度为W20的粗磨 抛光纸，在该粗磨抛光纸上喷洒蒸馏水和酒精，启动光纤抛光机，使抛光圆盘以100~200 r/min的固定转速转动，通过粗磨抛光纸对该抛光面研磨3~5 min，抛光后，用酒精清洗该 抛光面，并用无尘布清理酒精残液及抛光过程中产生的残肩，再采用光学显微镜检查该抛 光面的抛光质量； 6) 将金刚石粒度为W20的粗磨抛光纸自抛光圆盘上取下，换上金刚石粒度为W9的半细 磨抛光纸，在该半细磨抛光纸上喷洒蒸馏水和酒精，启动光纤抛光机，使抛光圆盘以100~ 200 r/min的固定转速转动，通过半细磨抛光纸对该抛光面研磨5~10 min，抛光后，用酒精 清洗该抛光面，并用无尘布清理酒精残液及抛光过程中产生的残肩，再采用光学显微镜检 查该抛光面的抛光质量； 7) 将半细磨抛光纸自抛光圆盘上取下，换上金刚石粒度为W3的细磨抛光纸，在该细磨 抛光纸上喷洒蒸馏水和酒精，启动光纤抛光机，使抛光圆盘以100~200 r/min的固定转速 转动，通过细磨抛光纸对该抛光面研磨5~10 min，抛光后，用酒精清洗该抛光面，并用无尘 布清理酒精残液及抛光过程中产生的残肩，再采用光学显微镜检查该抛光面的抛光质量； 8) 将金刚石粒度为W3的细磨抛光纸自抛光圆盘上取下，换上金刚石粒度为W1的细磨抛 光纸，在该细磨抛光纸上喷洒蒸馏水和酒精，启动光纤抛光机，使抛光圆盘以100~200 r/ min的固定转速转动，通过细磨抛光纸对该抛光面研磨5~10 min，抛光后，用酒精清洗该抛 光面，并用无尘布清理酒精残液及抛光过程中产生的残肩，再采用光学显微镜检查该抛光 面的抛光质量； 9) 将金刚石粒度为W1的细磨抛光纸自抛光圆盘上取下，换上透明抛光纸，在该透明抛 光纸上喷洒抛光试剂，启动光纤抛光机，使抛光圆盘以100~200 r/min的固定转速转动，通 过透明抛光纸对该抛光面研磨3~5 min，抛光后，用酒精清洗该抛光面，并用无尘布清理酒 精残液及抛光试剂残液，采用光学显微镜检查抛光面是否合格，如不合格，返工重新抛光， 直至合格，即完成对硫系玻璃光纤的一个端面的抛光。2. 根据权利要求1所述的硫系玻璃光纤端面的抛光方法，其特征在于所述的有机塑料 涂覆层由丙烯酸树脂、聚醚砜树脂或聚亚苯基砜树脂构成，所述的有机溶剂为乙醚、二甲基 乙酰胺或二氯甲烷。3. 根据权利要求1所述的硫系玻璃光纤端面的抛光方法，其特征在于步骤1)中，光纤的 一端在有机溶剂中的浸泡长度为10~20 mm，步骤2)中切除的光纤长度为3~5 mm。4. 根据权利要求1所述的硫系玻璃光纤端面的抛光方法，其特征在于步骤9)中所用的 抛光试剂由蒸馏水与氧化铈粉末以（1~3) : (2~5)的重量比混合而成。5. 根据权利要求4所述的硫系玻璃光纤端面的抛光方法，其特征在于所述的氧化铈粉 末的粒度为W1。6. 根据权利要求1所述的硫系玻璃光纤端面的抛光方法，其特征在于所述的光纤抛光 机为美国ULTRAPOL公司提供的型号为ULTRAPOL 1200的透镜光纤研磨机。
【文档编号】B08B3/08GK106000983SQ201610318952
【公开日】2016年10月12日
【申请日】2016年5月16日
【发明人】戴世勋, 郭祊霞, 王训四, 韩新, 罗宝华, 刘自军, 徐栋, 王莹莹, 尤晨阳, 刘永兴
【申请人】宁波大学