自动净化清洗流水线的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型属于清洁设备技术领域，尤其涉及一种自动净化清洗流水线。
【背景技术】
[0002]金属和塑料等制品表面上的锈和油污不好清洗。通常需要先用酸性清洗液去锈，然后加温水漂洗，金属制品的话还要及时烘干，以免制品表面又重新生锈。对油污的清洗，通常先用洗涤液去油，然后用清水漂洗。目前，没有专门针对去锈去油污的净化清洗流水线，对制品的净化清洗未能有效进行。
【发明内容】
[0003]本实用新型的目的在于，提供一种专门用于制品表面清洁的、效率高且结构简单的自动净化清洗流水线。
[0004]为了实现上述目的，本实用新型采用的技术方案为:一种自动净化清洗流水线，包括基架和设置在基架上的放置槽，其特征在于，活动支架可上下移动地设置在基架上，气缸的缸体安装在基架上，气缸的活塞杆连接活动支架，由气缸推动活动支架上下移动，所述放置槽为并排排列的多个，最后一个放置槽为干燥槽，干燥槽中设有烘干装置，除干燥槽外的其它放置槽为水槽，水槽中放置清洗液，活动支架具有数量与放置槽相等的托架，托架位置与放置槽--对应，活动支架向下移动，单个托架进入单个放置槽中。
[0005]把工件放置在托架上，活动支架向下移动，托架进入水槽或干燥槽中，工件先在水槽中清洗，最后在干燥槽中干燥，完成一道工序后进入下一道工序。清洗效率高、效果好，结构简单，操作便捷。
【附图说明】
[0006]图1为自动净化清洗流水线的主视图；
[0007]图2为自动净化清洗流水线的俯视图。
[0008]下面结合附图对本实用新型作详细描述。
【具体实施方式】
[0009]参见图1和图2，自动净化清洗流水线包括基架I和设置在基架I上的放置槽。放置槽为并排排列的六个，前面五个为水槽21，最后一个为干燥槽22。水槽21中放置清洗液，用于对工件的锈或油污进行清洗或漂洗。干燥槽22中设有烘干装置，烘干装置包括风机和加热管，用于对清洗好后的工件进行烘干处理。水槽的数量根据实际使用需要而定。
[0010]活动支架3可上下移动地设置在基架I上，气缸5的缸体安装在基架I上，气缸5的活塞杆连接活动支架3，由气缸5推动活动支架3上下移动。活动支架3具有数量与放置槽相等的托架31，托架31在放置槽的上方，并且位置与放置槽一一对应，活动支架3向下移动，单个托架31进入单个放置槽中。托架31由不锈钢管焊接而成，工件放置在托架31中，托架31向下移动进入水槽21后，工件浸泡在清洗液中，进行清洗或漂洗。基架I上设置有与水槽21连通的进水管6和出水管7，进水管6用于往水槽21中放干净的水，清洗完后的清洗液从出水管7中排出。
[0011]只要将工件放入托架31上，六只托架随着气缸5设定的时间、速度同时往上或往下移动，在水槽内进行清洗。在本实施例中，按自左向右的顺序分别给水槽编上I至5号，I号水槽中放置用于去锈的酸性清洗液，2号水槽中放置温清水，3号水槽中放置用于去油的洗涤液，4号水槽中放置温清水，5号水槽中放置冷清水。工件先依次在I号水槽中去锈、2号水槽中温水漂洗、3号水槽中去油、4号水槽中温水漂洗、5号水槽中冷水冷却漂洗，最后在干燥槽22中干燥。工件完成一道工序后进入下一道工序。清洗效率高、效果好，结构简单，操作便捷。
【主权项】
1.自动净化清洗流水线，包括基架和设置在基架上的放置槽，其特征在于，活动支架可上下移动地设置在基架上，气缸的缸体安装在基架上，气缸的活塞杆连接活动支架，由气缸推动活动支架上下移动，所述放置槽为并排排列的多个，最后一个放置槽为干燥槽，干燥槽中设有烘干装置，除干燥槽外的其它放置槽为水槽，水槽中放置清洗液，活动支架具有数量与放置槽相等的托架，托架位置与放置槽—对应，活动支架向下移动，单个托架进入单个放置槽中。
2.根据权利要求1所述的自动净化清洗流水线，其特征在于，所述基架上设置有与所述水槽连通的进水管和出水管。
3.根据权利要求2所述的自动净化清洗流水线，其特征在于，所述烘干装置包括风机和加热管。
4.根据权利要求3所述的自动净化清洗流水线，其特征在于，所述水槽为五个。
【专利摘要】本实用新型涉及一种自动净化清洗流水线，包括基架和设置在基架上的放置槽，其特征在于，活动支架可上下移动地设置在基架上，气缸的缸体安装在基架上，气缸的活塞杆连接活动支架，由气缸推动活动支架上下移动，所述放置槽为并排排列的多个，最后一个放置槽为干燥槽，干燥槽中设有烘干装置，除干燥槽外的其它放置槽为水槽，水槽中放置清洗液，活动支架具有数量与放置槽相等的托架，托架位置与放置槽一一对应，活动支架向下移动，单个托架进入单个放置槽中。本实用新型清洗效率高、效果好，结构简单，操作便捷。
【IPC分类】B08B13-00, B08B3-08, B08B3-04
【公开号】CN204338499
【申请号】CN201420667075
【发明人】陈忠良
【申请人】嘉兴市新角机械制造有限公司
【公开日】2015年5月20日
【申请日】2014年11月3日