气瓶的内表面清洁机的制作方法

文档序号:9148354阅读:335来源:国知局
气瓶的内表面清洁机的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种气瓶的内表面清洁机,属于气瓶的处理设备领域。
【背景技术】
[0002]随着现代工业的不断发展,各行各业对气体纯度的需求在不断增加,对这些气体的要求都非常严格。这些气体一般都使用气瓶储存,气瓶本身的污染对高纯气体纯度的影响是很大的。气瓶的杂质污染包括渗透、吸附和化学作用,气瓶内部的清洁程度,对气体质量的影响也是很直接的,若气瓶长期不清洗,气瓶内盛装的标准气体甚至会和气瓶内表面的残留物质发生物理的或者化学的反应,严重影响了标准气体的使用。

【发明内容】

[0003]为解决上述问题,本实用新型公开了一种气瓶的内表面清洁机,能够去除气瓶内表面的残留物和氧化层,达到盛装高浓度气体的标准,结构简单,设计巧妙,利于推广。
[0004]为了达到以上目的,本实用新型提供如下技术方案:一种气瓶的内表面清洁机,包括机箱和底座,所述机箱和底座间设有摇摆装置,所述摇摆装置包括固定架和轴,所述轴设置在固定架上,所述轴与机箱固定连接,所述机箱内放置有气瓶,所述机箱内设有用于支撑气瓶的支撑架和用于固定气瓶的固瓶杆,所述机箱内一侧设有摇摆马达减速机,所述摇摆马达减速机驱动轴转动,所述气瓶内放置有钢丸。
[0005]作为本实用新型的进一步改进,所述的固瓶杆为可调节高度的固瓶杆。
[0006]作为本实用新型的进一步改进,所述的机箱上还设有摇摆马达减速机的控制开关。
[0007]作为本实用新型的进一步改进,所述的机箱的前侧面设有开口。
[0008]与现有技术相比,本实用新型的有益效果为:
[0009]本实用新型提供的一种气瓶的内表面清洁机,该清洁机能够通过摇摆装置和摇摆马达减速机使机箱摇摆,机箱中的气瓶内装有钢丸,从而达到气瓶的内表面清洁,构思巧妙,设计合理,利于推广。
【附图说明】
[0010]图1是本实用新型的透视图。
[0011]附图标记列表:
[0012]1-机箱,2-底座,3-固定架,4_轴,5-固瓶杆,6_支撑架,7_摇摆马达减速机。
【具体实施方式】
[0013]下面结合附图和【具体实施方式】,进一步阐明本实用新型,应理解下述【具体实施方式】仅用于说明本实用新型而不用于限制本实用新型的范围。
[0014]如图1所示,一种气瓶的内表面清洁机,包括机箱I和底座2,机箱I和底座2间设有摇摆装置,摇摆装置包括固定架3和轴4,轴4设置在固定架3上,轴4与机箱I的下端固定连接,机箱I内放置有气瓶,机箱I内设有用于支撑气瓶的支撑架6和用于固定气瓶的固瓶杆5,机箱I内一侧设有摇摆马达减速机7,摇摆马达减速机7用于驱动轴4转动,从而使机箱摇摆,气瓶内放置有钢丸,摇摆时钢丸在气瓶内部运动,清洁气瓶的内表面。
[0015]具体的说,机箱I上还设有摇摆马达减速机7的控制开关,用于控制该清洁机的工作状态。固瓶杆5为可调节高度的固瓶杆。机箱I的前侧面设有开口,方便工作人员放置和取出气瓶。
[0016]本实用新型方案所公开的技术手段不仅限于上述实施方式所公开的技术手段,还包括由以上技术特征任意组合所组成的技术方案。应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也视为本实用新型的保护范围。
【主权项】
1.一种气瓶的内表面清洁机,包括机箱和底座,其特征在于:所述机箱和底座间设有摇摆装置,所述摇摆装置包括固定架和轴,所述轴设置在固定架上,所述轴与机箱固定连接,所述机箱内放置有气瓶,所述机箱内设有用于支撑气瓶的支撑架和用于固定气瓶的固瓶杆,所述机箱内一侧设有摇摆马达减速机,所述摇摆马达减速机驱动轴转动,所述气瓶内放置有钢丸。2.根据权利要求1所述的气瓶的内表面清洁机,其特征在于:所述的固瓶杆为可调节高度的固瓶杆。3.根据权利要求1所述的气瓶的内表面清洁机,其特征在于:所述的机箱上还设有摇摆马达减速机的控制开关。4.根据权利要求1所述的气瓶的内表面清洁机,其特征在于:所述的机箱的前侧面设有开口。
【专利摘要】本实用新型公开了一种气瓶的内表面清洁机,包括机箱和底座,所述机箱和底座间设有摇摆装置,所述摇摆装置包括固定架和轴,所述轴设置在固定架上,所述轴与机箱固定连接,所述机箱内放置有气瓶,所述机箱内设有用于支撑气瓶的支撑架和用于固定气瓶的固瓶杆,所述机箱内一侧设有摇摆马达减速机,所述摇摆马达减速机驱动轴转动,所述气瓶内放置有钢丸。该清洁机能够通过摇摆装置和摇摆马达减速机使机箱摇摆,机箱中的气瓶内装有钢丸,从而达到气瓶的内表面清洁,构思巧妙,设计合理,利于推广。
【IPC分类】B08B9/38
【公开号】CN204817401
【申请号】CN201520644387
【发明人】庾友生, 张存宁, 董盛阳
【申请人】南京天泽气体有限责任公司
【公开日】2015年12月2日
【申请日】2015年8月25日
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