一种低温研钵的制作方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种低温研钵，包括，研钵和低温盒；低温盒为带有容纳腔的盒体，且低温盒的上盖与低温盒的盒体通过滑道插入式配合连接；上盖上加工有用于放置研钵的阶梯孔，即研钵卡接在阶梯孔小径通孔上沿；采用上述技术方案的本实用新型，首先将上盖打开，可在低温盒的盒体内部放入冰块，将上盖合上，然后研钵卡接在上盖的阶梯孔上，通过冰块实现对研钵的降温，提供研磨的低温环境。
【专利说明】一种低温研钵
【技术领域】
[0001 ] 本实用新型涉及实验室用品，特别涉及一种可提供低温研磨的研钵。
【背景技术】
[0002]现有的研钵都是在常温下操作的，这就使一些低温的研磨工艺只能靠机器完成，机器成本较高，并且一些研磨对低温要求不需要经过机器控制那么精准，进而研发一种能够手工研磨并且能够提供一种低温状态的研钵是非常必要的。
【发明内容】
[0003]本实用新型要解决的技术问题是提供一种可提供低温研磨的研钵。
[0004]为达到以上目的，通过以下技术方案实现的:
[0005]一种低温研钵，包括，研钵和低温盒；低温盒为带有容纳腔的盒体，且低温盒的上盖与低温盒的盒体通过滑道插入式配合连接；上盖上加工有用于放置研钵的阶梯孔，即研钵卡接在阶梯孔小径通孔上沿；
[0006]采用上述技术方案的本实用新型，首先将上盖打开，可在低温盒的盒体内部放入冰块，将上盖合上，然后研钵卡接在上盖的阶梯孔上，通过冰块实现对研钵的降温，提供研磨的低温环境。
[0007]研钵圆周侧壁加工有径向伸出的定位柱，且上盖阶梯孔处加工有与定位柱配合的定位凹槽，通过此结构将研钵定位于上盖阶梯孔内部，防止研钵研磨时自身旋转。
[0008]上述说明仅是本实用新型技术方案的概述，为了能够更清楚了解本实用新型的技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本实用新型的上述和其他目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举较佳实施例，并配合附图，详细说明如下。
【专利附图】
【附图说明】
[0009]本实用新型共3幅附图，其中:
[0010]图1为本实用新型的侧视局部剖面结构示意图。
[0011]图2为本实用新型安装研钵前俯视结构示意图。
[0012]图3为本实用新型研钵仰视结构示意图。
[0013]图中:1、研钵，2、低温盒，3、上盖，4、盒体，5、滑道，6、阶梯孔，7、定位柱，8、定位凹槽。
【具体实施方式】
[0014]如图1和图2所示的一种低温研钵，包括，研钵I和低温盒2 ;低温盒2为带有容纳腔的盒体，且低温盒2的上盖3与低温盒2的盒体4通过滑道5插入式配合连接；上盖3上加工有用于放置研钵I的阶梯孔6，即研钵I卡接在阶梯孔6小径通孔上沿；
[0015]采用上述技术方案的本实用新型，首先将上盖3打开，可在低温盒2的盒体4内部放入冰块，将上盖3合上，然后研钵I卡接在上盖3的阶梯孔6上，通过冰块实现对研钵I的降温，提供研磨的低温环境。
[0016]如图2和图3所示，研钵I圆周侧壁加工有径向伸出的定位柱7，且上盖3阶梯孔6处加工有与定位柱7配合的定位凹槽8，通过此结构将研钵I定位于上盖3阶梯孔6内部，防止研钵I研磨时自身旋转。
[0017]以上所述，仅是本实用新型的较佳实施例而已，并非对本实用新型作任何形式上的限制，虽然本实用新型已以较佳实施例揭露如上，然而并非用以限定本实用新型，任何熟悉本专业的技术人员在不脱离本实用新型技术方案范围内，当可利用上诉揭示的技术内容做出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例，但凡是未脱离本实用新型技术方案的内容，依据本实用新型的技术实质对以上实施例所做的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本实用新型技术方案的范围内。
【权利要求】
1.一种低温研钵，其特征在于:包括，研钵(I)和低温盒(2);所述低温盒(2)为带有容纳腔的盒体，且所述低温盒(2)的上盖(3)与低温盒(2)的盒体(4)通过滑道(5)插入式配合连接；所述上盖(3)上加工有用于放置研钵(I)的阶梯孔(6)，即研钵(I)卡接在阶梯孔(6)小径通孔上沿。
2.根据权利要求1所述的一种低温研钵，其特征在于:所述研钵(I)圆周侧壁加工有径向伸出的定位柱(7),且所述上盖(3)阶梯孔(6)处加工有与定位柱(7)配合的定位凹槽(8)。
【文档编号】B01L3/00GK203470012SQ201320457083
【公开日】2014年3月12日 申请日期:2013年7月29日 优先权日:2013年7月29日
【发明者】崔艳强, 姜健 申请人:大连民族学院