一种研钵的制作方法

本实用新型涉及一种研钵，属于研磨设备领域。

背景技术：

研钵广泛应用于化验室、制药厂、化工实验室的研磨中，但目前市面上所售的研钵，采用单一凹型面设计，使得物料在研磨过程中容易从研钵中撒出，尤其是应用在三头研磨机上，由于研钵结构设计问题，物料撒出更为严重，且容易产生研磨不均匀和过磨现象。

本实用新型的目的是通过对研钵的内壁结构进行改进，以解决现有技术存在的问题。对于研钵的研钵棒，与现有的产品相同，在这里不作具体论述。

技术实现要素：

本实用新型公开了一种研钵，包括研钵壁1和研钵底2，研钵壁1与水平面垂直，高h2为研钵深度H的1/4-1/5，研钵壁1和研钵底2的夹角β为120°~150°；研钵底2为圆弧形，研钵底2底部中心设有底部突起3，底部突起3的夹角α为10°~20°，底部突起3的高度h1为研钵深度H的1/4-1/5，底部突起3表面与研钵底2形成平滑曲线。

本实用新型是根据在研磨过程中磨头运动轨迹，加以拟合设计出符合其运动轨迹的研磨曲面，最大限度地使磨头运动所产生的等作用力面与表面一致，进而使磨头的压力能够更为均匀地分散在研钵的底部，物料的研磨更为均匀；再利用中心凸起设计来避免物料循环运动过程中，在圆心区域的堆积现象，同时形成物料在壁面的内循环体系，进而充分混匀物料，实现物料的均匀有效研磨，防止物料的过磨现象。

本实用新型与现有技术相比具有的有益效果：

1、研钵底部由凹面改为凸面，使研磨头与壁面的接触面增大，提高研磨效率；

2、在研磨过程中，根据磨头运动轨迹，加以拟合设计出符合其运动轨迹的研磨曲面，最大限度地使磨头运动所产生的等作用力面与表面一致，进而使磨头的压力能够更为均匀地分散在研钵的底部，物料的研磨更为均匀；

3、利用底部中心突起设计来避免物料循环运动过程中，在圆心区域的堆积现象，同时形成物料在壁面的内循环体系，进而充分混匀物料，实现物料的均匀有效研磨，防止物料的过磨现；

4、研钵壁垂直于水平面，与研钵底形成一定夹角，可以有效改善研磨时颗粒容易撒出的问题；

5、本发明提供的研钵形状和构造巧妙，研磨效率高，省时省力，适用于研磨固体粉末或浆料；

6、本实用新型可用于利用研钵棒进行手工研磨，也可用于三头研磨机等设备上进行物料研磨。

附图说明

图1是本实用新型的剖面图；

图2是本实用新型的物料运动示意图。物料在研磨过程中，主要集中在底部凸起四周的圆环形区域，也是磨头施力的主要作用区域，物料可以顺时针运动，也可以逆时针运动。

图中：1-研钵壁，2-研钵底，3-底部凸起，H-研钵深度，h1-底部突起的高度，h2-研钵壁高度，α-底部突起的夹角，β-研钵壁和研钵底的夹角。

具体实施方式

下面结合实施例，对本实用新型作进一步描述。

实施例1

一种研钵，包括研钵壁1和研钵底2；研钵壁1与水平面垂直，高h2为研钵深度H的2/9，研钵壁1和研钵底2的夹角β为130°；研钵底2为圆弧形，研钵底2底部中心设有底部突起3，底部突起3的夹角α为15°，底部突起3的高度h1为研钵深度H的2/9，底部突起3表面与研钵底2形成平滑曲线。

实施例2

一种玛瑙研钵，包括研钵壁1和研钵底2；研钵壁1与水平面垂直，高h2为研钵深度H的1/5，研钵壁1和研钵底2的夹角β为120°；研钵底2为圆弧形，研钵底2底部中心设有底部突起3，底部突起3的夹角α为10°，底部突起3的高度h1为研钵深度H的1/5，底部突起3表面与研钵底2形成平滑曲线。

实施例3

一种玛瑙研钵，包括研钵壁1和研钵底2；研钵壁1与水平面垂直，高h2为研钵深度H的1/4，研钵壁1和研钵底2的夹角β为150°；研钵底2为圆弧形，研钵底2底部中心设有底部突起3，底部突起3的夹角α为20°，底部突起3的高度h1为研钵深度H的1/4，底部突起3表面与研钵底2形成平滑曲线。