大米抛光机的制作方法

本发明涉及粮食加工设备技术领域，具体地指一种大米抛光机。

背景技术：

对米粒表面进行处理能使米粒晶莹透明，并且在米粒表面形成一层极薄的凝胶膜，这种工艺方法称为抛光。大米抛光机的主要作用是去除黏附在白米表面的糠粉。大米表面上光后有一层蜡质保护层，不仅可以防止大米在生产、储存、运输、销售各环节中米糠的粘附或米粉脱落，保证大米清洁卫生，还可以提高成品大米的质量和商品价值，利于大米的储藏，保持大米的新鲜度，提高大米的食用品质。

大米抛光机的工作过程如下：经过碾米机碾白达到标一米精度的白米由进料口流下进入抛光室，同时由控温式水箱将已加热(室温低于15℃时使用)的水通过流量计，经橡胶管流到气水混合喷嘴，再通过高压空气形成水雾，进入空心主轴着水区，在强力负压吸风的作用下，水雾穿过主轴和抛光辊通风孔进入抛光辊表面与大米混合，并附着在米粒表面，使米粒表面湿润、软化。通过抛光室内抛光辊的回转运动，使米粒在抛光室内不断运动，在运动过程中，米粒之间、米粒与抛光辊之间及米粒与米筛之间产生相对运动、相对摩擦与挤压。由于米粒表面湿润软化，这种摩擦一方面将去除米粒表面的糠粉和粉刺。另一方面，在摩擦挤压过程中白米表面淀粉层经过糊化、结晶，形成光亮的保护膜，提高表面光洁度，以及延长后期大米的存放时间。抛光过程中产生的细米糠和细屑在负压强力吸风的作用下，经过米筛孔排除机外。

然而，传统抛光机的由于其设计的缺陷，导致在大米抛光过程中易产生碎米，既影响了最终产品的品质，也导致增加剔除碎米的工序。

技术实现要素：

本发明的目的在于，提供一种能够减少抛光过程中产生碎米的大米抛光机。

为实现上述目的，本发明所设计的大米抛光机包括机架、电控箱、进料组件、抛光室及出料组件，所述电控箱、所述进料组件、所述抛光室及所述出料组件固定在所述机架上；所述抛光室包括抛光辊及环绕在所述抛光辊外的筛片；所述抛光辊包括沿轴线顺次设置的着水混合段、预抛光段及精抛光段；所述着水混合段包括沿所述轴线设置的第一辊体及沿所述第一辊体的周向间隔分布的斜筋，所述斜筋垂直于所述轴线的截面呈梯形，所述斜筋与所述轴线成螺旋角；所述预抛光段包括沿所述轴线设置的第二辊体及沿所述第二辊体的周向间隔分布的直筋，所述直筋垂直于所述轴线的截面呈梯形，所述直筋与所述轴线平行；所述精抛光段包括沿所述轴线设置的第三辊体及间隔分布在所述第三辊体的外壁上的抛光块，所述抛光块的外表面的垂直于所述轴线的截面呈渐开线；所述出料组件包括设置在所述筛片尾端的出料口衬套，所述出料口衬套包括与所述筛片尾端对接的筛片接口，所述筛片接口的内壁形状与所述筛片的外廓形状相互匹配。

作为优选方案，所述着水混合段沿所述轴线的长度占所述抛光辊沿所述轴线的长度的3/5，所述预抛光段沿所述轴线的长度占所述抛光辊沿所述轴线的长度的1/5，所述精抛光段沿所述轴线的长度占所述抛光辊沿所述轴线的长度的1/5。

作为优选方案，所述斜筋与所述轴线成5°螺旋角。

作为优选方案，所述抛光块的外表面的垂直于所述轴线的截面呈1/4基圆圆周渐开线。

作为优选方案，所述抛光块采用螺栓固定在所述第三辊体上。

作为优选方案，所述筛片的内壁上在上方、下方分别设置沿长度方向设置的阻力条。

作为优选方案，所述筛片垂直于所述轴线的截面呈八边形，所述筛片接口的内壁形状呈八边形。

作为优选方案，所述电控箱的电缆布置在所述机架的顶层与所述抛光室间的夹层中。

作为优选方案，所述机架的前后立柱板为折弯结构。

作为优选方案，所述进料组件包括料斗、电动闸门及螺旋进料器，所述料斗设置在所述机架一侧的上方，所述电动闸门设置在所述料斗的下方，所述螺旋进料器设置在所述电动闸门的下方。

本发明的有益效果是：本发明的大米抛光机中，抛光室采用三段式抛光辊，抛光辊的精抛光段的抛光过程中与大米接触的抛光块其外表面为渐开线曲面，能够大幅减少碎米和降低能耗；此外，筛片接口与筛网同形，能够确保出料畅通并消除出料口反压力对筛片的回顶作用所产生的垂直阻力面及刀口，从而减少碎米和能耗。

附图说明

图1为本发明的优选实施例的大米抛光机的立体结构示意图。

图2为图1中的大米抛光机的局部剖开后的主视结构示意图。

图3为图1中的抛光室的抛光辊的立体示意图。

图4为图3中的a部分的放大结构示意图。

图5为图3中的b部分的放大结构示意图。

图6为图3中的c部分的放大结构示意图。

图7为图6中的抛光块的立体结构示意图。

图8为图6中的抛光块的另一角度的立体结构示意图。

图9为图6中的抛光块与第三辊体的放大局部剖视图。

图10为图2中抛光室的筛片与出料组件的出料口衬套的配合结构示意图。

图11为图10中的出料口衬套的立体结构示意图。

图12为图10中的筛片的立体结构示意图。

图中各部件标号如下：机架10、电控箱20、进料组件30(其中，料斗31、电动闸门32、螺旋进料器33)、抛光室40(其中，抛光辊41、筛片42)、出料组件50(其中，出料口衬套51)；着水混合段411(其中，第一辊体411a、斜筋411b)、预抛光段412(其中，第二辊体412a、直筋412b)、精抛光段413(其中，第三辊体413a、抛光块413b)；阻力条421；筛片接口511、出料筒512。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施例对本发明作进一步的详细说明。

请参阅图1和图2，本发明优选实施例的大米抛光机包括机架10、电控箱20、进料组件30、抛光室40及出料组件50。电控箱20固定在机架10的上方，对大米抛光机的各组件之间的工作进行控制。进料组件30、抛光室40及出料组件50均固定在机架10上，待抛光的大米从进料组件30进入抛光室40内进行抛光工艺处理后，经由出料组件50从大米抛光机内输出。

机架10的前后立柱板采用折弯结构，增加了机架10与地面的接触面积，使机架10落地更加平稳，从而有效提高了整机的平稳性。

电控箱20中的电缆通过机架10的顶层与抛光室40间的夹层可走线，水管、气管也布置在机架10的顶层与抛光室40间的夹层，以增加大米抛光机整体的安全性及外观的整洁性。

进料组件30进一步包括料斗31、电动闸门32及螺旋进料器33。料斗31设置在机架10一侧的上方，供待抛光的大米存储及由此进入。电动闸门32设置在料斗31的下方，通过电控开启或封闭料斗31下方的开口，控制从料斗31落下的大米。螺旋进料器33设置在电动闸门32的下方，将来自料斗31经过电控闸门32的大米沿轴线螺旋推送进入抛光室40进行抛光处理。

抛光室40包括抛光辊41及筛片42，抛光辊41设置在筛片42内以对大米进行抛光处理，筛片42环绕在抛光辊41外将抛光过程中产生的细米糠和细屑排出。

请结合参阅图3，抛光辊41延其轴线顺次包括着水混合段411、预抛光段412及精抛光段413，着水混合段411、预抛光段412及精抛光段413沿大米抛光走向顺次首尾相接设置。抛光辊41作为大米抛光机的核心零部件，在大米抛光的过程中起到举足轻重的作用。根据大米抛光的工作原理，将抛光辊41全长范围内前中后段所发挥的不同作用，而选择不同结构特点的辊型，满足着水混合、预抛、精抛的三段式抛光辊结构。

请结合参阅图4，着水混合段411为抛光辊41的前段，其轴向长度占抛光辊41的轴向全长的3/5。着水混合段411包括沿轴向设置的第一辊体411a及沿第一辊体411a的周向间隔分布的若干根斜筋411b。斜筋411b垂直于轴线的截面呈梯形，每一斜筋411b与轴线成5°螺旋角。在抛光过程中，着水混合段411处于前部着水混合区，采用5°大螺旋角主要目的是合理提高轴向推进作用，避免混合区大米着水后所带来的阻力增加、电流不稳、能耗加大的问题。

请结合参阅图5，预抛光段412为抛光辊41的中段，其轴向长度占抛光辊41的轴向全长的1/5。预抛光段412包括沿轴线设置的第二辊体412a及沿第二辊体412a的周向间隔分布的直筋412b。直筋412b垂直于轴线的截面呈梯形，每一直筋412b与轴线平行。预抛光段412采用0°梯形直筋辊，其作用是通过较短的时间，在强力负压吸风的作用下，通过抛光辊41对大米的摩擦挤压升温，尽可能的去除大米表面的糠粉，并使淀粉层糊化与初结晶，达到预抛光的作用。

请结合参阅图6、图7、图8及图9，精抛光段413为抛光辊41的尾段，其轴向长度占抛光辊41的轴向全长的1/5。精抛光段413包括沿轴线设置的第三辊体413a及间隔分布在第三辊体413a的外壁上的若干抛光块413b。抛光块413b通过螺栓等紧固件固定在第三辊体413a的外壁上。抛光块413b的外表面(抛光面)的垂直于轴线的截面呈渐开线，该渐开线为1/4基圆圆周的渐开线，用螺栓连接方式交替间断固定在第三辊体413a上。采用渐开线曲面抛光块413b的目的是使与大米的接触摩擦过程中尽可能减轻阻力便于流动，减轻尾端的抛光压力，并在强力负压吸风的作用下快速均匀降温，使初级结晶层凝固，最终形成胶质保护膜，达到精细抛光的作用。在尾端的抛光过程中，与大米接触的抛光块413b其外表面为渐开线曲面，能够大幅减少碎米和降低能耗。

请结合参阅图10、图11和图12，出料口衬套51包括前端与筛片42的末端对接的筛片接口511及后端的出料筒512。筛片接口511的内壁形状与筛片42的外廓形状相互匹配，出料筒512的内壁为圆柱形。即，筛片42为垂直于轴线的截面呈八边形，筛片接口511的内壁形状亦为八边形。筛片接口511与筛网42同形，能够确保出料畅通，消除出料口反压力对筛片42的回顶作用，避免筛片42与原圆柱衬套之间形成的垂直阻力面及刀口，从而减少碎米和能耗。

筛片42的上下内壁上设置有易更换光滑过渡的阻力条421，使抛光室40的内部的压力可调，便于调节的压力能够达到不同品质大米的抛光效果，满足用户需求。

综上所述，与现有技术相比较，本发明的大米抛光机至少具有以下优点：本发明的大米抛光机采用独特的抛光室与出料组件设计，其技术参数经过优化改进，系统性解决大米抛光过程中碎米过多、能耗过大的常见问题。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。