一种生产聚合硫酸铁管道式反应设备的制作方法

本实用新型涉及化工生产设备技术领域，尤其涉及一种生产聚合硫酸铁管道式反应设备。

背景技术：

聚合硫酸铁是一种性能优越的无机高分子絮凝剂，形态性状是淡黄色无定型粉状固体，极易溶于水，10％的水溶液为红棕色透明溶液，吸湿性。聚合硫酸铁广泛应用于饮用水、工业用水、各种工业废水、城市污水、污泥脱水等的净化处理，但现有反应装置在生产过程中无法及时给装置进行散热，影响生产的效率，因此我们提出一种生产聚合硫酸铁管道式反应设备。

技术实现要素：

本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在冷却效果差的缺点，而提出的一种生产聚合硫酸铁管道式反应设备。

为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：

设计一种生产聚合硫酸铁管道式反应设备，包括冷却箱和反应釜本体，所述反应釜本体通过安装架水平且固定安装在冷却箱内，所述冷却箱内的底部设有储水室，所述反应釜本体底部的一侧水平且固定安装有出料管并穿过冷却箱的一侧，所述冷却箱的顶部中间水平设有环形槽，所述环形槽内水平设有圆形的凹槽，所述环形槽和凹槽之间均匀设有若干个第三导水槽，所述环形槽的上向外呈发散性设有若干第二导水槽,所述反应釜本体的侧面上竖直设有若干个第一导水槽，所述第一导水槽的顶部分别和对应的第二导水槽连通，所述冷却箱的顶部中间设有透孔，所述冷却箱的顶部是固定安装有水箱，所述水箱的底部竖直且固定安装有连接管，所述连接管的底部穿过透孔并固定安装有喷头，所述冷却箱一侧的底部固定安装有水泵，所述水泵的通过出水管和储水室连接，所述水泵通过冷却水管和水箱连接。

优选的，所述冷却水管上水平且固定安装有若干冷却片。

优选的，所述冷却片为铝片。

优选的，所述冷却箱靠近冷却水管的一侧上竖直设有安装槽，所述安装槽的中间水平且固定安装有电机，所述电机的输出轴上固定安装有冷却风扇。

优选的，所述冷却箱靠近冷却水管的一侧上竖直设有安装槽，所述安装槽的中间水平且固定安装有电机，所述电机的输出轴上固定安装有冷却风扇。

本实用新型提出的一种生产聚合硫酸铁管道式反应设备，有益效果在于：本实用新型通过在反应釜本体上设置多个导水槽以及环形槽，方便冷却水从喷头均匀喷洒到反应釜本体上，大大提高了冷却效果，有利于提高生产效率。

附图说明

图1为本实用新型提出的一种生产聚合硫酸铁管道式反应设备的结构示意图；

图2为本实用新型提出的一种生产聚合硫酸铁管道式反应设备的反应釜本体的俯视图。

图中：冷却箱1、第一导水槽2、反应釜本体3、喷头4、水箱5、透孔6、连接管7、第二导水槽8、冷却水管9、安装槽10、冷却片11、冷却风扇12、电机13、水泵14、出水管15、储水室16、安装架17、出料管18、环形槽19、凹槽20、第三导水槽21。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。

参照图1-2，一种生产聚合硫酸铁管道式反应设备，包括冷却箱1和反应釜本体3，反应釜本体3通过安装架17水平且固定安装在冷却箱1内，冷却箱1内的底部设有储水室16，从反应釜本体3上留下来的水流到储水室16内。

反应釜本体3底部的一侧水平且固定安装有出料管18并穿过冷却箱1的一侧，冷却箱1的顶部中间水平设有环形槽19，环形槽19内水平设有圆形的凹槽20，环形槽19和凹槽20之间均匀设有若干个第三导水槽21，从喷头4下来的水从凹槽20通过第三导水槽21流到环形槽19内。

环形槽19的上向外呈发散性设有若干第二导水槽8,反应釜本体3的侧面上竖直设有若干个第一导水槽2，第一导水槽2的顶部分别和对应的第二导水槽8连通，使水均匀流到反应釜本体3上，使散热均匀。

冷却箱1的顶部中间设有透孔6，冷却箱1的顶部是固定安装有水箱5，水箱5的底部竖直且固定安装有连接管7，连接管7的底部穿过透孔6并固定安装有喷头4，水从喷头4内喷出。

冷却箱1一侧的底部固定安装有水泵14，水泵14的通过出水管15和储水室16连接，水泵14通过冷却水管9和水箱5连接，实现冷却水的循环。

冷却水管9上水平且固定安装有若干冷却片11，提高散热效果，冷却片11为铝片，散热效果较好，且成本较低。

冷却箱1靠近冷却水管9的一侧上竖直设有安装槽10，安装槽10的中间水平且固定安装有电机13，电机13的输出轴上固定安装有冷却风扇12，对冷却水进行降温。

工作原理：本实用新型在使用的时候，冷却水从喷头4喷洒到反应釜本体3的顶部凹槽20内，并从导水槽2流到反应釜本体3的表面，使散热效果而更加均匀快速，同时利用水泵14对冷却水进行循环并通过散热片11和散热风扇12对冷却水降温，以达到更好的散热效果。

以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。