一种胶体磨的制作方法

本实用新型涉及一种胶体磨。

背景技术：

胶体磨产品除电机及部分零部件外，凡与物料相接触的零部件全部采用高强度不锈钢制成，尤其，关健的动、静磨盘进行强化处理因此，具有良好的耐腐性和耐磨性，使所加工的物料无污染卫生纯洁。

中国专利201720905687.2公开了供一种胶体磨，包括电机、锥形齿轮一、螺杆、锥形齿轮二、连接杆、支撑板、导向杆、固定套管、底板、弹簧、电动缸以及箱体，锥形齿轮一安装在连接杆上，锥形齿轮一外端连接锥形齿轮二，锥形齿轮一与锥形齿轮二进行齿轮啮合，锥形齿轮二外端装配螺杆，连接杆下端安装电机，该设计可对胶体粉末进行输送，支撑板下端装配导向杆，导向杆下端连接固定套管，固定套管下端安装底板，底板上端镶嵌有电动缸，底板下端设置弹簧，弹簧安装在箱体内部底端。

中国专利201620574736.4公开了一种新型立式胶体磨，其结构包括循环管、连接杆、出料斗、螺旋杆、旋转接头、输送管道、电机座、底座、输料管、电机、端盖、组合密封盖、壳体、机械密封盖、手柄、进料斗、静磨轮、静磨轮座、动磨轮，底座上设有电机座、电机，电机座7与电机固定连接，电机顶端设有端盖，端盖通过螺旋环与组合密封盖活动连接，组合密封盖上设有壳体，壳体内部设有静磨轮、静磨轮座、动磨轮，静磨轮座与静磨轮相连接，壳体右方输送管道通过螺旋杆与旋转接头相连接，旋转接头上端设有循环管。

中国专利201420699572.9公开了一种胶体磨，包括定子和转子，定子盘体一端面和转子盘体一端面均同心环形分布齿段，相邻齿段间形成泄流槽，定子盘体端面最外层齿段为直齿，定子盘体端面其他各层齿段为梯形齿，所述直齿的齿高小于定子盘体端面所述梯形齿的齿高，相邻两直齿之间的泄流槽外缘为盲槽；转子盘体端面最外层齿段为斜齿，转子盘体端面其他各层为梯形齿，所述斜齿的齿高小于转子盘体端面所述梯形齿的齿高，相邻两斜齿之间的泄流槽内缘为盲槽。

目前，胶体磨的整体结构较大，转齿转动过程的稳定性较差，震动明显，部件之间的拆卸难度较大，维修或者更换、清洗备件比较麻烦。因此，需要提供一种防震效果好、结构稳定性强的胶体磨。

技术实现要素：

针对现有技术的缺陷，本实用新型提供了一种胶体磨，其整体结构紧凑，操作方便，特别是在高速运转情况下的防震效果好，有利于提高设备的稳定性。

为了实现上述目的，本实用新型提供了一种胶体磨，包括：底座和通过电机座设在底座上的电机；

磨座，其为中空圆筒状，磨座通过端盖设在电机的顶部；在磨座设有定齿、与定齿配合的转齿和用于调节定齿位置的调节套，其中，转齿设在电机的输出轴上并和电机的输出轴驱动连接，调节套设有刻度盘；

盖盘，设在磨座的顶部，在盖盘的中部设有进料口；

料斗，设在盖盘的上方，料斗的底部出口处通过抱箍构件连接于盖盘的进料口；

其中，电机座内设有减震板，减震板在减震板高度方向上依次设有上减震板、减震橡胶垫和下减震板。

本实用新型中，在底座设置减震板，设在减震板上的电机，在设备高速运转过程中，设备的稳定性强、防震性能好。优选的，减震橡胶垫为层状，且相邻的减震橡胶垫之间接触，通过减震橡胶垫的变形进行减震，有利于提高整体的稳定性能。

根据本实用新型的另一种具体实施方式，磨座具有输出管路，输出管路包括主输出管、设在主输出管上的旋转接头以及分别与旋转接头连接的出料管和循环管。其中，研磨过后的物料传输至输出管路后，一方面在通过旋转接头后经出料管进行收集，例如在出料管后设置集料仓的方式进行收集物料；另一方面，通过旋转接头后的物料可以通过循环管回流至料仓中，进行下一步的研磨加工过程。

根据本实用新型的另一种具体实施方式，料斗为锥形料斗，料斗的内侧壁设有鼓形面结构。具体的，鼓形为内凸状，方便物料进行快速的汇集至料斗的底部，保证供料的均匀性、不间断性。

根据本实用新型的另一种具体实施方式，盖盘设有用于锁定定齿的手柄，优选的，手柄的数目为两个，两个手柄对向设在盖盘的两侧。具体的，手柄可以与调节套配合使用，从而准确地锁定定齿的位置；本方案中的手柄可以采用例如机械式的锁紧方式，配合调节套的刻度盘，以保证调整的精度，进而控制研磨的质量。

根据本实用新型的另一种具体实施方式，磨座内设有甩轮，甩轮设在电机的输出轴，甩轮设在转齿的下方，且与转齿配合连接，主要用作支撑转齿并驱使研磨后的物料排出。

根据本实用新型的另一种具体实施方式，电机的输出轴与转齿之间设有机械式密封件。

根据本实用新型的另一种具体实施方式，

抱箍构件包括相互连接的半圆形卡块，其中一个卡块设有凸起，另一个卡块设有连接片，并在连接片上设有与凸块相配合的凹槽。具体的，两个半圆形卡块之间采用铰接的方式相互连接。

根据本实用新型的另一种具体实施方式，端盖通过密封法兰设在磨座的上方。具体的，在端盖设置下密封法兰，在磨座设置上密封法兰，上密封法兰、下密封法兰之间设有密封片，保证连接的稳定性。

根据本实用新型的另一种具体实施方式，端盖设有泄漏孔，相应的，泄漏孔可以设置多个，例如两个。

根据本实用新型的另一种具体实施方式，在盖盘设有冷却水入口，冷却水入口设在盖盘的边缘位置，优选的，在定齿中设有冷却通道，该冷却通道是密闭的，且和冷却水入口相互连通，用来将加工中的热量带出去，实现降温的目的。

本实用新型中，通过设置相对固定的定齿、转齿进行研磨加工，是集粉碎、乳化、均质、分散、搅拌等功能为一身的湿式粉碎、乳化机械。粉碎、乳化可达微米级，可以广泛适用于食品工业、化学工业、日用化工、医疗工业、建筑工业、纺织工业等多个行业，由于在转齿距离电机有一定的位置，故设置长轴驱动，通过设置减震板可以很好的缓解设备运行中的振动问题。

与现有技术相比，本实用新型的有益之处在于：

1.通过设在减震板，可以很大程度缓解电机长轴驱动带来的震动问题，减震效果好，有利于提高设备整体的稳定性；

2.在料斗与盖盘的连接处设有抱箍进行紧固连接，结构稳固；

3.设备调试方便，通过调节套的刻度盘可以更好的控制研磨的精度，便于适用不同研磨工艺的要求。

下面结合附图对本实用新型作进一步的详细说明。

附图说明

图1是实施例1的胶体磨的整体结构示意图；

图2是实施例1的磨座部分的剖视图；

图3是实施例1的抱箍的结构示意图；

图4是实施例1的减震板的结构示意图。

具体实施方式

实施例1

本实施例提供了一种胶体磨。如图1-4所示，其包括：底座1、磨座2、料斗3、输出管路。

其中，在底座1上设有电机座11、电机12、端盖13，在电机座11中设有减震板14，具体的，电机12通过减震板14固定在电机座11上，端盖13设在电机12的顶部，优选的，在端盖13侧边设有多个泄漏孔16，例如两个。

参见图4，减震板14包括上减震板141、下减震板142、减震橡胶垫143，上减震板141、减震橡胶垫143、下减震板142依次从上到下设置；优选的，减震橡胶垫143为层状并设有多层，例如5层，且相邻的减震橡胶垫143之间相互接触，在设备使用过程中，通过减震橡胶垫143的变形，来抵消电机运动的震动，进而提高设备的稳定性。

参见图1，磨座2为中空的圆筒状，优选的，在磨座与端盖之间设有密封法兰，例如在磨座2的底部设有上密封法兰21，在端盖13上设有下密封法兰15，上密封法兰21和下密封法兰15之间采用例如螺栓的方式连接，将磨座2固定在端盖13的上方；进一步优选的，为了更稳固的连接，在上密封法兰21、下密封法兰15之间设有密封铜垫。

参见图2，磨座2设有转齿24、定齿25、调节套26和盖盘27；其中，电机输出轴22伸入磨座2的内部并和转齿24之间固定连接，优选的，在转齿24与电机输出轴22之间还设有机械密封件(密封连接件)28；进一步优选的，在电机输出轴22位于转齿24的下方还设有甩轮23。

盖盘27设在磨座2的顶部，调节套26设在盖盘27上，在调节套26的外圈设有刻度盘29；其中，定齿25与调节套26之间配合连接，定齿设在磨座2的内部，其中，定齿25、转齿24之间配合，形成了相比密封的研磨空间，相应的，越靠近磨座2的底部，研磨的粒度越小；具体的，可以通过转动调节套26可以改变定齿25的位置，例如顺时针转动，定齿25与转齿24之间的距离变小，反之变大。

在盖盘27的上方设有料斗3，优选的，料斗3优选为锥形料斗，如图1所示，在料斗3的内侧壁设有鼓形面结构36，该鼓形面可以是内陷式、也可以是凸起式，本实施例中采用凸起式的，目的在于快速将物料进行汇集至底部出口，以供研磨的使用。

相应的，在盖盘27上设有进料口，通过进料口与料斗3的底部出口连接；在料斗3的底部与盖盘27接触连接的位置，设置了抱箍构件31，以确保连接的稳固；一种优选的抱箍侯建31的方式如图3所示，抱箍构件31包括两个相互铰接的半圆形卡块32，其中一个卡块设有凸起33，另一个卡块设有连接片34，连接片设有凹槽35，凹槽35对应凸块33，实现卡扣式稳固连接。

再次参见图1，在磨座2的侧壁设有输出管路，用于输出研磨好的物料，优选的，输出管路的出口设有主输出管41、旋转接头42、出料管43、和循环管44；其中，研磨后的物料先传输至主输出管41，一种传输路径是经过旋转接头42传输至出料管43进行收集，例如在出料管43的下游设置集料仓，另一种传输路径是经过旋转接头42后传输至循环管44，研磨后的物料进行循环至料斗3中，进一步的研磨加工，具体根据不同的工艺需要进行选择。

进一步优选的，本实施例中的盖盘27还可以设有两个对置的手柄5，用来锁定定齿25的位置，或者锁定解除后，通过转动调节套26，来调节定齿25的位置。

再进一步优选的，在盖盘27设有冷却水入口6，具体的，冷却水入口6设在盖盘27的边缘位置，例如在定齿25中设有可以供水流通的冷却通道，冷却水入口6与上述冷却通道相连，将冷却水送入，给定齿25进行降温。

虽然本实用新型以较佳实施例揭露如上，但并非用以限定本实用新型实施的范围。任何本领域的普通技术人员，在不脱离本实用新型的发明型范围内，当可作些许的改进，即凡是依照本实用新型所做的同等改进，应为本实用新型的范围所涵盖。