一种分散和反应组合的装置及制备纳米银颗粒的装置的制作方法

文档序号:20180775发布日期:2020-03-27 13:56阅读:163来源:国知局
一种分散和反应组合的装置及制备纳米银颗粒的装置的制作方法

【技术领域】

本实用新型涉及反应釜相关技术领域,具体涉及一种分散和反应组合的装置及制备纳米银颗粒的装置。



背景技术:

反应釜是化工厂常用的一种反应设备,其主要是通过电动机带动搅拌轴来搅拌反应物,使其充分反应以获得所需要的物质。随着化工领域的不断发展,人们对化工产品的原材料和化工产品的精度都提高了要求,相应的人们对化工反应中的重要设备--反应釜也提出了更高的要求。目前常用传统的反应釜加料口均是由人工进行加料,且很多固体原料不能直接加在反应釜中,需以液体形式增加,但现有的分散机、反应釜、纯水机等都是单独纯在,这样有以下几个问题,一、固体原料在塑料桶中,手动搅拌溶解或电动搅拌溶解,都会造成提取溶液精确度不够,影响最终产品的质量;二、在液体转移过程中,容易洒出,造成影响;三、人工添加液体,精确度不够。



技术实现要素:

针对现有技术中存在的上述技术问题,本实用新型提供了一种分散和反应组合的装置,通过将反应釜与分散机直接连接并分别与溶剂存储装置连接,使原材料经分散机内分散后直接进入反应釜内,减少了人工移液的操作,使反应釜内的反应组分配比更加精确。为了达到上述目的,本实用新型的主要技术方案如下:

一种分散和反应组合的装置,包括溶剂存储装置、分散机、反应釜、储液罐、第一管道、第二管道、第三管道、第四管道和控制装置,所述溶剂存储装置通过所述第一管道与所述分散机连接、通过所述第二管道与所述反应釜连接,所述分散机通过所述第三管道与所述反应釜连接,所述反应釜通过所述第四管道与所述储液罐连接;所述第一管道上设有第一电磁阀,所述第二管道上设有第二电磁阀,所述第三管道上设有第三电磁阀,所述第四管道上设有第四电磁阀,所述分散机内设有第一液位感应器,所述反应釜内设有第二液位感应器;所述控制装置为plc控制系统,所述分散机、第一电磁阀、第二电磁阀、第三电磁阀、第四电磁阀、第一液位感应器和第二液位感应器分别与所述控制装置连接。

进一步地,还包括第一物料泵,所述第一物料泵设于所述第四管道上且设于所述第四电磁阀与所述反应釜之间,所述第一物料泵与所述控制装置连接。

进一步地,还包括第五管道、第六管道和废液收集装置,所述废液收集装置通过所述第五管道与所述分散机连接、通过所述第六管道与所述反应釜连接。

进一步地,所述溶剂存储装置包括容纳溶剂的容腔、水泵和过滤装置,所述水泵设于所述容腔内且与所述第一管道连接,所述过滤装置设于所述水泵和所述第一管道之间。

进一步地,还包括第二物料泵,所述第二物料泵设于所述第四管道上且与所述控制装置连接。

进一步地,还包括第三物料泵和第四物料泵,所述第三物料泵和所述第四物料泵分别设于所述第五管道和第六管道上且分别与所述控制装置连接。

本实用新型还公开一种制备纳米银颗粒的装置,该装置包括如上所述分散和反应组合的装置。

相较于现有技术,本使用新型的有益效果如下:

本实用新型的工作原理为:所述溶剂存储装置通过所述第一管道与所述分散机连接、通过所述第二管道与所述反应釜连接,所述分散机通过第三管道与所述反应釜连接,所述反应釜与所述储液罐连接,所述分散机内设有第一液位感应器,所述反应釜内设有第二液位感应器,所述分散机、反应釜、第一电磁阀、第二电磁阀、第三电磁阀、第四电磁阀、第一液位感应器和第二液位感应器分别与所述控制装置连接,本实用新型的控制装置为plc控制系统;当使用本实用新型时,通过控制系统打开第一电磁阀和第二电磁阀,使溶剂储存装置内的溶剂分别进入分散机和反应釜,当分散机和反应釜内的溶剂达到指定高度时,第一液位感应器和第二液位感应器分别发出信号至控制系统,控制装置即自动控制第一电磁阀和第二电磁阀关闭;控制装置可控制分散机的搅拌速率和搅拌时间;当分散机内的物料分散完全形成溶液,控制装置可直接控制第三电磁阀打开,使分散机内的溶液进入反应釜中,根据第二液位感应器感应溶液的量,当进入反应釜内的溶液达到反应所需的量时,控制装置控制第三电磁阀关闭;打开反应釜进行反应,待反应釜内的物料反应完全后,通过控制装置控制打开第四电磁阀,使产物直接进入储液罐。

本实用新型运行过程实现自动或半自动运行,液体转移的过程中无需人工操作,可减少人工移液过程中出现误差的可能,使物料配比精度更高,通过在分散机和反应釜内置液位感应器,可实现自动控制,进一步减少人工操作,从而减少误差;另外,本实用新型清洗简单,废水可不对外排放,直接集中排放在专用的废水桶里,对环境无污染。

本实用新型通过管道将溶剂存储装置、分散剂、反应釜和储液槽直接连接,通过控制系统进行控制,整个操作流程自动化程度高、机械控制精确且操作简单。

【附图说明】

图1为本实用新型实施例1结构示意图;

图2为本实用新型实施例1中各个电磁阀、分散机、各个液面感应器与控制装置的连接结构图;

图3为本实用新型实施例2的结构示意图。

【具体实施方式】

为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅用以解释本实用新型,并不用于限定本实用新型。

实施例1

如图1-2所示,一种分散和反应组合的装置,包括溶剂存储装置1、分散机2、反应釜3、储液罐4、第一管道5、第二管道6、第三管道7、第四管道8和控制装置9,溶剂存储装置1通过第一管道5与分散机2连接、通过第二管道6与反应釜3连接,分散机2通过第三管道7与反应釜3连接,反应釜3通过第四管道8与储液罐4连接;第一管道5上设有第一电磁阀51,第二管道6上设有第二电磁阀61,第三管道7上设有第三电磁阀71,第四管道8上设有第四电磁阀81,分散剂2内设有第一液位感应器21,反应釜内设有第二液位感应器22,控制装置9为plc控制系统,分散剂2、第一电磁阀51、第二电磁阀61、第三电磁阀71、第四电磁阀81、第一液位感应器21和第二液位感应器31分别与控制装置9连接。

使用前,本实用新型的所有电磁阀呈关闭状态,当使用时,通过控制系统打开第一电磁阀和第二电磁阀,使溶剂储存装置内的溶剂分别进入分散机和反应釜,当分散机和反应釜内的溶剂达到指定高度时,第一液位感应器和第二液位感应器分别发出信号至控制系统,控制装置即控制第一电磁阀和第二电磁阀关闭;控制装置可控制分散机的搅拌速率和搅拌时间;当分散机内的物料分散完全形成溶液,控制装置可直接控制第三电磁阀打开,使分散机内的溶液进入反应釜中,根据第二液位感应器感应溶液的量,当进入反应釜内的溶液达到反应所需的量时,控制装置控制第三电磁阀关闭;打开反应釜进行反应,待反应釜内的物料反应完全后,通过控制装置控制打开第四电磁阀,使产物直接进入储液罐。

具体地,溶剂存储装置包括容纳溶剂的容腔、水泵(图中未标识)和过滤装置(图中未标识),水泵设于容腔内且与第一管道连接,便于将容腔内的溶剂输送至分散机和反应釜中;过滤装置设于水泵和第一管道之间,可起到过滤的作用,使进入分散机和反应釜的溶剂更纯净。

进一步地,在上述技术方案的基础上还可包括废液收集装置10、第一物料泵11、第二物料泵12、第三物料泵13、第四物料泵14、第五管道15、第六管道16、第五电磁阀17和第六电磁阀18,第一物料泵11、第二物料泵12、第三物料泵13和第四物料泵14分别与控制装置9连接,可通过控制装置9分别控制第一物料泵11、第二物料泵12、第三物料泵13和第四物料泵14的开关;第一物料泵11设于第三管道7上,用于将分散机2内的溶液输送至反应釜3中;第二物料泵12设于第四管道8上,用于将反应釜3内的液体产品输送至储液罐4中;废液收集装置10通过第五管道15和第六管道16分别与分散机2和反应釜3连接,使分散机内未使用的溶液(即废液)或反应釜内未使用的产品(即废液)直接排放至废液收集装置中,待达到一定量后送至有资质的单位处理;第三物料泵13和第四物料泵14分别设于第五管道15和第六管道16上,第三物料泵13和第四物料泵14分别用于将分散机2和反应釜3内的废液输送至废液收集装置10中,使分散机2和反应釜3内无残留废液;第五电磁阀17设于第五管道15上且位于第三物料泵和分散机之间,第六电磁阀18设于第六管道16上且位于第四物料泵和反应釜之间,第五电磁阀和第六电磁阀分别与控制装置连接。

本实用新型适用于形成单一液态产品的制备,包括但不限于纳米银颗粒的制备、纳米银线的制备等,可减少人工移液的操作,使组分配比更加精确,从而提高产品质量;另外,因plc控制系统的控制操作,可实现制备过程的自动化或半自动化,操作简单。

实施例2

图3为本实用新型另一优选的实施方式,如图3所示,本实施例与实施例1的区别在于,对管道的连接进行了优化,减少了物料泵和管道的使用,降低本实用新型的制作成本。

本实施例中,100为溶剂存储装置;200为分散机;300为反应釜;400为储液罐;110为第一电磁阀;120为第二电磁阀;130为第三电磁阀;140为第四电磁阀;150为第五电磁阀;160为第六电磁阀;170为第七电磁阀;210为第一物料泵;220为第二物料泵;其中,分散机200、第一电磁阀110、第二电磁阀120、第三电磁阀130、第四电磁阀140、第五电磁阀150、第六电磁阀160、第七电磁阀170、第一物料泵210和第二物料泵220分别与控制装置(图中未标识)连接,可通过控制装置控制以上零部件的开启和关闭,从而使操作更加方便。

以上内容是结合具体的优选技术方案对本实用新型所作的进一步详细说明,不能认定本实用新型的具体实施只局限于这些说明。对于本实用新型所属技术领域的专业技术人员来说,在不脱离本实用新型构思的前提下,还可以做出若干简单推演或替换,都应当视为属于本实用新型的保护范围。

当前第1页1 2 3 
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1