喷涂治具、治具上盖的蚀刻工艺及使用治具的喷涂工艺的制作方法

文档序号:8535148阅读:714来源:国知局
喷涂治具、治具上盖的蚀刻工艺及使用治具的喷涂工艺的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及喷涂治具,特别是涉及了一种喷涂治具、该治具上盖的蚀刻工艺及使用该喷涂治具的喷涂工艺。
【背景技术】
[0002]在塑胶表面处理,需要喷涂治具来装载产品辅助喷涂,而目前现有的喷涂治具均为塑胶喷涂治具。然而,塑胶喷涂治具一直沿用设计模具结构、编辑刀路、CNC、车床、放电、线割、电镀或抛光、装配、检测、试模、注塑、装夹、喷涂等制作工程。随着喷涂市场的发展,喷涂技术和设备会越来越趋于成熟,在激烈的竞争环境下,市场对产品的喷涂效果和质量要求都大大提升,高质量的喷涂已经成为不可阻挡的发展趋势。塑胶喷涂治具制作工序复杂、造价昂高、生产效率低、产品侧面容易过度覆盖造成漏喷或积油、占用空间不利于存放、容易报废、不能重复利用。

【发明内容】

[0003]为了解决上述现有技术的不足,本发明提供了一种设计简便、工艺成熟,制作简单、成本低廉且生产效率高,存放方便又不易损坏,可以无限重复利用的喷涂治具,再复杂的产品都不会出现过度覆盖造成漏喷或积油等不良现象,克服了传统塑胶喷涂治具的纷繁设计制造、成本较高、生产效率低下且容易造成漏喷或积油,又较难多次重复利用的问题。本发明还提供了该喷涂治具的上盖的蚀刻工艺及使用该喷涂治具进行喷涂的喷涂工艺。
[0004]本发明所要解决的技术问题通过以下技术方案予以实现:
一种喷涂治具,包括上盖及下盖,所述下盖设置有多个第一定位柱,所述上盖设有多个与所述第一定位柱对应的第一定位孔,所述上盖还设有多个用于暴露待喷涂产品的喷涂槽及多个避空孔,所述治具还包括与所述第一定位柱构成锁紧结构的螺帽;所述上盖为金属材质,采用蚀刻成型制得。
[0005]优选地,所述金属为不锈钢、铜合金钛、钛合金、低碳钢、高碳钢、铜及其合金、铝及其合金中的任一种。
[0006]优选地,所述螺帽为软胶螺帽。
[0007]优选地,所述第一定位柱为阶梯式第一定位柱。
[0008]优选地,所述喷涂槽或避空孔的横截面为长方形、方形、圆形或不规则形状。
[0009]优选地,所述待喷涂产品为手机侧键。
[0010]一种上盖的蚀刻工艺,包括以下步骤:
O除油处理,用于将待蚀刻工件进行清洗、除油表面清洁;
2)涂布,在除油后的工件表面涂覆感光胶,再按所述上盖结构图样进行感光胶曝光并显影;
3)蚀刻,通过蚀刻液对所述工件暴露的金属部位进行蚀刻;
4)脱模,蚀刻后将所述工件表面剩余的胶膜去掉,再清洗干燥制得上盖。
[0011]一种所述喷涂治具的喷涂工艺,包括以下步骤:
1)将待喷涂产品组装到权利要求1所述的喷涂治具上;
2)用白电油清洗,保持清洁,无污渍;
3)对待喷涂产品进行UV底漆喷涂,60~75°C下热固化Ih ;
4)进行UV面漆喷涂后,先50~60°C高温流平3~5min,再25° C低温流平Imin ;再采用曝光能量800~900mj/Cm2的紫外光进行固化,该UV面漆的厚度为10~40 ym ;其中
5)喷涂时施工条件为喷枪角度45°±5°,湿度55~75%RH ;喷枪距离15~20cm ;喷枪口径 1.2—1.6mm。
[0012]本发明具有如下有益效果:该喷涂治具设计简便、工艺成熟,制作简单、成本低廉且生产效率高,存放方便又不易损坏,可以无限重复利用的,再复杂的产品都不会出现过度覆盖造成漏喷或积油的不良现象;该治具设置有避空孔,对待喷涂产品上的顶针位进行避空处理,以不影响上下盖锁紧;该治具采用第一定位柱与螺帽的锁紧结构,方便操作与固定,且锁紧牢固。通过蚀刻工艺制得不锈钢式的上盖,该工艺成熟,制作简单且成本较低,解决了现有塑胶喷涂治具制作工序复杂、造价高昂、生产效率低的问题;使用了本发明的喷涂治具进行喷涂时不会出现过度覆盖造成漏喷或积油的不良现象,特别是对复杂产品来说,有效提高了喷涂效率及喷涂质量。
【附图说明】
[0013]图1为本发明一实施例的结构分解示意图;
图2为图1中A处的放大图;
图3为本发明下盖的底部示意图。
【具体实施方式】
[0014]下面结合附图和实施例对本发明进行详细的说明。
[0015]请参考图1至3,其显示了一种喷涂治具,包括相对设置的上盖2及下盖1,所述上盖2及下盖I之间用于容纳待喷涂的产品3,所述下盖I朝向上盖2 —侧设置有多个第一定位柱11,所述上盖2设有多个与所述第一定位柱11对应的第一定位孔211,所述上盖2还设有多个用于暴露待喷涂产品3的喷涂槽22及多个避空孔23。所述上盖2的材质为金属材质,优选但不限定为不锈钢材质,还可以是钛、钛合金、低碳钢、高碳钢、铜及其合金、铝及其合金,优选通过蚀刻成型制得。所述下盖可以是塑胶,但不局限于此。
[0016]所述治具还包括与所述第一定位柱11构成锁紧结构的螺帽14,通过该锁紧结构将待喷涂产品3固定在上下盖I之间。待喷涂产品3上具有多个顶针位及模具注塑的进胶口,所述避空孔23包括第一避空孔231及第二避空孔232,所述第一、第二避空孔231、232分别与进胶口和顶针位对应避空,以免该顶针位及进胶口影响上下盖I的锁紧固定。待喷涂产品3还包括多个第二定位柱31,优选为四个第二定位柱31,分布于所述待喷涂产品的四角。所述上盖2还包括多个与所述第二定位柱31对应的第二定位孔212,待喷涂产品3的第二定位柱31穿过所述第二定位孔212并套上螺帽进行锁紧固定。
[0017]优选但不限定地,所述第一定位柱11为阶梯式第一定位柱,所述螺帽14为软胶螺帽14,在进行锁紧固定时,将所述螺帽14摁压在所述第一定位柱11上即可实现锁紧固定,方便操作固定。
[0018]优选但不限定地,所述多个第一定位柱11为6个第一定位柱11。
[0019]优选但不限定地,所述喷涂槽22或避空孔23横截面为长方形、方形、圆形或不规则形状。
[0020]优选但不限定地,所述下盖I底部设置有卡位13,方便实施该治具在喷涂线上喷涂。
[0021]优选但不限定地,所述下盖I设有多个用于定位待喷涂产品3的第三定位孔12。
[0022]优选但不限定地,该治具用于喷涂手机侧键(优选为连体键),该治具可设有两排用于喷涂的喷涂槽22,每一排可设有4对喷涂槽22,即一次性可喷涂16个手机侧键。所述喷涂槽图样可根据具体情况进行设计。
[0023]具体操作如下:喷涂前,待喷涂产品上的第二定位柱穿过上盖的第二定位并用螺帽套在第二定位柱上摁压后,即将待喷涂产品锁紧固定在上盖上,上盖的喷涂槽用于暴露产品需要喷涂的部位,而待喷涂产品的多个进胶口及顶针位可分别穿过上盖的第一及第二避空孔,避免顶针位的存在影响上盖与待喷涂产品的锁紧;通过下盖的第三定位孔把将待喷涂产品固定套在下盖的上方;再把上盖第一定位孔套在下盖的第一定位柱上,接着将螺帽套在第一定位柱上并摁压,即实现将待喷涂产品和喷涂治具的上盖与下盖装配锁紧固定好后,通过下盖底部的卡位将下盖固定放置在喷涂流水线上,输送到喷房内,实现一次喷涂16个或更多产品,有效减少了作业工序,节约人力,降低了生产成本,提高产品品质,提高生产效率;而且该治具可以无限重复利用的,再复杂的产品都不会出现过度覆盖造成漏喷或积油的不良现象。
[0024]本发明还提供了一种所述上盖的蚀刻工艺,包括以下步骤:
(I)除油处理,用于将待蚀刻工件在50~60°C进行清洗、除油等表面清洁;所述工件优选为不锈钢工件,但不局限于此。
[0025](2)涂布,在除油后的工件表面涂覆感光胶,再按所述上盖结构图样进行感光胶曝光并显影;其中,涂布时总气压为6~8kg/cm2,速度3~6格,75°C下烘烤1min ;曝光条件为真空度大于70cmHg,曝光尺6~8 (格);显影条件为显影点40~50%,显影速度18~35 (调频),显影缸液体温度28~32°C ;显影段上下喷压力1.5-2.5kg/cm2;显影液浓度Na 2C03:0.8-1.2% ;循环水洗压力l~2kg/cm2。
[0026](3)蚀刻,通过蚀刻液对所述工件暴露的金属部位进行蚀刻;优选但不限定,对于铜合金工件,采用氯化铁蚀刻液,该蚀刻液包括180~220g/L FeCl3^20~80ml/L HC1,蚀刻温度40~50°C,蚀刻同时采用水泵循环搅拌;蚀刻约50~120min ;对于铝合金工件,采用碱性氯化铜蚀刻液,该蚀刻液包括100~150g/L CuCl2,70~120g/L NH3, pH值保持在8.0-8.8之间,蚀刻温度45~55°C,蚀刻约30~80min ;对于不锈钢工件,采用酸性氯化铜蚀刻液,该蚀刻液包括 180~220g/L CuCl2U00~180ml/L HC1,蚀刻温度 45~55°C,蚀刻约 30~80min ;蚀刻压力均为 1.6—2.6kg/cm2。
[0027](4)脱膜,蚀刻后将所述工件表面剩余的胶膜通过浓度15~20%的溶解液(包括但不限于脱漆水)去掉(溶解温度60~80°C),再清洗并在60~80°C干燥制得所述上盖。
[0028]以下结合具体实施例进一步说明该蚀刻工艺。
[0029]实施例1 本实施例采用不锈钢工件进行蚀刻成型制得所述上盖。
[0030](I)将待蚀刻工件在50°C下进行清洗、除油等表面清洁;
(2)涂布,在除油后的工件表面涂覆感光胶,再按所述上盖结构图样进行感光胶曝光并显影;其中,涂布时总气压为6kg/cm2,速度3格,75°C下烘烤1min ;曝光条件为真空度大于70cmHg,曝光尺6 (格);显影条件为显影点40%,显影速度18 (调频),显影缸液体温度28°C ;显影段上下喷压力1.5kg/cm2;显影液浓度Na 2C03:0.8% ;循环水洗压力lkg/cm2。
[0031](3)蚀刻,通过蚀刻液对所述工件暴露的金属部位进行蚀刻;采用酸性氯化铜蚀刻液,该蚀刻液包括180g/L CuCl2'100ml/L HC1,蚀刻温度45°C,蚀刻约80min ;压力1.6kg/cm2;氨水洗压力1.2kg/cm2;
(4)脱模,蚀刻后将所述工件表面剩余的胶膜通过浓度15%的溶解液去掉(溶解温度60°C),再清洗并在80°C干燥制得所述上盖。
[0032]实施例2
本实施例采用不锈钢工件进行蚀刻成型制得所述上盖。
[0033](I)除油处理,将待蚀刻工件在60°C下进行清洗、除油等表面清洁;
(2)涂布,在除油后的工件表面涂覆感光胶,再按所述上盖结构图样进行感光胶曝光并显影;其中,涂布时总气压为8kg/cm2,速度6格,75°C下烘烤1min ;曝光条件为真空度大于70cmHg,曝光尺8 (格);显影条件为显影点50%,显影速度35 (调频),显影缸液体温度32°C ;显影段上下喷压力2.5kg/cm2;显影液浓度Na 2C03:1.2% ;循环水洗压力2kg/cm2。
[0034](3)蚀刻,通过蚀刻液对所述工件暴露的金属部位进行蚀刻;采用酸性氯化铜蚀刻液,该蚀刻液包括200g/L CuCl2' 150ml/L HCl,蚀刻温度50°C,蚀刻约50min ;压力2.6kg/cm2;氨水洗压力3.0kg/cm2;
(4)脱模,蚀刻后将所述工
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