用于与温控浴槽一起使用的支架的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型大体上涉及温控浴槽并且更具体地讲涉及用于在温控浴槽中支承器皿的支架。
【背景技术】
[0002]诸如循环浴槽的温控浴槽在实验室环境中采用，以便将温控的诸如水的工作流体提供在储存器中。使用者可以通过将实验室环境的材料试样放置在储存器中或者通过使得工作流体在储存器与外界应用装置之间循环来利用所述温控浴槽。传统的温控浴槽应用包括将材料试样放置到药瓶、试管、烧杯等器皿中，并且然后将所述器皿放置在储存器内。器皿周围的工作流体的温度由温控浴槽控制，以控制材料试样的温度。例如，温控浴槽可以使得工作流体移动经过加热或冷却元件，从实现工作流体的期望的温度，并因而控制材料试样的温度。
[0003]支架有时被用于保持放置到温控浴槽内的器皿。例如，使用者可以将器皿置于支架中，并然后将支架放入到温控浴槽内以使得器皿与工作流体接触。当使用者期望取用容纳在器皿内的材料试样时，使用者将支架从温控浴槽取出。由于支架与器皿的一些部分已经与工作流体接触，所以使用者通常会将支架放到一容器内、或一托盘上、或一种吸收材料上，从而防止工作流体掉出支架和/或器皿并且防止工作流体污染实验室环境。另外，当支架从温控浴槽被取出后从储存器带出的工作流体会使得储存器内的工作流体的量减少。因而，工作流体必须被定期地添加至储存器从而替代被带走的工作流体。
[0004]因而，存在与温控浴槽及其一起使用的支架有关的改进需求。
【实用新型内容】
[0005]本实用新型克服了前述的问题以及针对温控浴槽的支架的其它不足、缺陷、以及挑战。尽管本实用新型将结合特定的实施例予以描述，但是应当理解本实用新型并不限于那些实施例。相反，本实用新型包括可以在本实用新型的精神和范围内包含的所有替代、改型以及等价物。
[0006]在本实用新型的一个实施例中，提供了一种用于与温控浴槽一起使用的支架，所述温控浴槽具有壳体，所述壳体包含供应有工作流体的储存器以及提供对所述储存器触用的开口。支架包括支架本体以及由支架本体支承的器皿支承件，所述器皿支承件被构造成支承至少一个器皿。支架还包括支承足组件，其由支架本体支承并包括多个支承足。每个支承足被构造成在收回位置与展开位置之间移动。
[0007]在本实用新型的另一个实施例中，温控浴槽与支架结合地被设置。温控浴槽包括壳体，所述壳体包含供应有工作流体的储存器以及提供对所述储存器触用的开口。支架包括支架本体以及由所述支架本体支承的器皿支承件，所述器皿支承件被构造成支承至少一个器皿。支架还包括支承足组件，其由支架本体支承并包括多个支承足。每个支承足被构造成在收回位置与展开位置之间移动。
[0008]在本实用新型的另一个实施例中，提供了将支架与温控浴槽一起使用的方法，其中所述温控浴槽具有壳体，所述壳体包含供应有工作流体的储存器以及提供对所述储存器触用的开口。支架支承至少一个器皿并且包括支承足组件，所述支承足组件包括多个支承足，各支承足能够在收回位置与展开位置之间移动。该方法包括使得支承足移动至收回位置，并且将支架降低到储存器内的工作流体中。
[0009]具体地讲，根据本实用新型的一个方面，提供了一种用于与温控浴槽一起使用的支架，其中所述温控浴槽具有壳体，所述壳体包括供应有工作流体的储存器以及提供对所述储存器触用的开口，其特征在于，所述支架包括:
[0010]支架本体；
[0011]器皿支承件，其中所述器皿支承件由所述支架本体支承并以支承至少一个器皿的方式被构造；以及
[0012]支承足组件，其中所述支承足组件由所述支架本体支承并包括多个支承足，每个支承足以适于在收回位置与展开位置之间移动的方式被构造。
[0013]优选地，所述支架还包括调整机构，所述调整结构适于使得至少一个支承足从所述展开位置移动至所述收回位置。
[0014]优选地，所述调整机构包括手指致动的杠杆件以及将所述杠杆件与所述至少一个支承足操作性相连的连杆。
[0015]优选地，所述支架还包括把手，所述手指致动的杠杆件位于所述把手附近。
[0016]优选地，每个支承足以适于自动地移动至所述展开位置的方式被构造。
[0017]优选地，每个支承足包括上表面、与所述上表面相反的底表面、以及自所述上表面朝向所述底表面延伸的斜表面。
[0018]优选地，所述支承足组件包括四个支承足。
[0019]优选地，每个支承足大体上位于所述支架的下角部附近。
[0020]优选地，所述支架本体包括底座、第一侧壁、以及第二侧壁，所述第一侧壁和第二侧壁自所述底座向上延伸并且支承所述器皿支承件，并且每个支承足在移动至所述展开位置时自所述第一侧壁和第二侧壁之一向外延伸。
[0021]优选地，所述支承足组件包括与所述第一侧壁相关联的两个支承足以及与所述第二侧壁相关联的两个支承足。
[0022]根据本实用新型的另一个方面，提供了一种组件，其特征在于，所述组件包括:
[0023]温控浴槽，其中所述温控浴槽具有壳体，所述壳体包括供应有工作流体的储存器以及提供对所述储存器触用的开口 ；以及
[0024]用于与所述温控浴槽一起使用的支架，所述支架包括:
[0025]支架本体；
[0026]器皿支承件，其中所述器皿支承件由所述支架本体支承并以支承至少一个器皿的方式被构造；以及
[0027]支承足组件，其中所述支承足组件由所述支架本体支承并包括多个支承足，每个支承足以适于在收回位置与展开位置之间移动的方式被构造。
[0028]优选地，在所述支承足移动至所述收回位置时，所述支架适于降低到所述储存器内的工作流体中；并且在所述支承足移动至所述展开位置时，所述支架被禁止降低到所述储存器内的工作流体中。
[0029]优选地，所述壳体具有上表面，并且每个支承足包括底表面，所述底表面以当所述支承足移动至所述展开位置时安坐在所述上表面上的方式被构造，所述底表面在所述展开位置处于大体水平的朝向并且在所述收回位置处于倾斜的朝向。
[0030]优选地，所述支架被限定为前述的支架。
【附图说明】
[0031]结合到申请文件中并构成其一部分的附图示出了本实用新型的实施例，并且与以上给出的【实用新型内容】的说明和以下给出的本实用新型的【具体实施方式】一起用于解释本实用新型的原理。
[0032]图1是立体图，示出了支架，所述支架包括支承足组件，用于相对于温控浴槽支承支架；支承足组件包括多个支承足，其中所述各支承足在图1中示出处于展开位置；
[0033]图1A是侧视图，示出了在图1的支架的支承足组件中使用的单个支承足；
[0034]图2是图1的支架的局部分解图，示出了与支架的侧壁分离的器皿支承件的上托架；
[0035]图3是图1的支架的立体图，其中支承足处于收回位置；
[0036]图4是图1的支架的沿局部横截面的示意性剖视图；
[0037]图5是立体图，示出了图1的支架承载多个器皿并且被置于温控浴槽的环境中，其中支承足处于收回位置；
[0038]图6A是示意性侧视图，示出了器皿被降入到图5的支架的器皿支承件中，并且所述支架被定位在温控浴槽的壳体中的开口上方，其中支承足处于展开位置；
[0039]图6B是示意性侧视图，示出了图5的带有器皿的支架被降入到温控浴槽的储存器中，并且其中支承足处于收回位置；
[0040]图6C是示意性侧视图，示出了图5的带有器皿的支架以及支架定位在储存器中，以使得器皿至少部分地由储存器中包含的工作流体所包围；
[0041]图6D是示意性侧视图，示出了图5的带有器皿的支架通过温控浴槽的壳体中的开口被提升；
[0042]图6E是示意性侧视图，示出了图5的带有器皿的支架，其中支承足处于展开位置并且安坐在温控浴槽的壳体的上表面上；并且
[0043]图7是图6E所示的结构的立体图。
【具体实施方式】
[0044]现在参看附图，支架10被示出在一个实施例中与温控浴槽12 —起使用。支架10将首先参照图1、IA以及2至4被描述，并且然后支架10与温控浴槽12 —起的使用将参照图5、6A至6E以及7被描述。
[0045]支架10大体上包括支架本体14，所述支架本体包括底座16以及两个相对的侧壁18a、18b。侧壁18a、18b被固定至底座16并且自所述底座大体向上地延伸。支架10还包括器皿支承件20，所述器皿支承件用于如下进一步详述地支承诸如试管的一个或多个器皿22。在所示的具体实施例中，器皿支承件20包括底托盘24以及上托盘26。支架10还包括把手28a、28b，它们相应地与侧壁18a、18b相关联。
[0046]器皿支承件20由侧壁18a、18b能够调整地支承。具体地，每个侧壁18a、18b包括定位调整槽30，其用于调整底托盘24和上托盘26的位置。每个调整槽30包括中央沟槽32以及多个自所述中央沟槽32延伸并与其相连的多个容槽34，所述容槽例如位于中央沟槽32的两侧。保持构件36与底托盘24和上托盘26接合，从而沿着