一种清洗支架的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及点胶机清洁技术领域，特别是指一种清洗支架。
【背景技术】
[0002]现有LED点胶机中有点胶针筒、点胶针、点胶型腔、陶瓷阀、密封圈等由于跟胶水有直接接触，胶水上一般都粘有荧光粉，故清洗时候需要在清洗池的清洗液中利用超声波清洗机进行震动清洗。目前清洗方式是将所有部件一起放入超声波清洗机，然后设置清洗时间进行清洗。这种清洗方式的弊端为:
[0003]超声波清洗震动过程中会有各种零部件的相互撞击，由于点胶针、陶瓷阀等均属易损件，容易损坏机器零部件；
[0004]清洗结束后胶水中的荧光粉会迅速沉淀并覆盖在清洗剂底部的零件上面，使得清洗不够彻底。
【实用新型内容】
[0005]本实用新型提出一种清洗支架，解决了现有技术中点胶机零部件在清洗过程中容易损坏和清洗不够彻底的问题。
[0006]本实用新型的技术方案是这样实现的:
[0007]—种清洗支架，包括支架本体，所述支架本体下端面设有至少三个支撑脚，所述支架本体上端面上设有一倾斜面，所述倾斜面上设有点胶针筒清洗槽、点胶型腔清洗槽、螺丝清洗槽、点胶针清洗槽、陶瓷阀清洗槽和密封圈清洗槽。
[0008]进一步地，所述支架本体与所述支撑脚一体成型。
[0009]进一步地，所述支撑脚为均匀分布于所述支架本体下面四个角处的四个。
[0010]进一步地，所述点胶针筒清洗槽底部设有与所述支架本体下端面连通的第一连通孔，所述点胶型腔清洗槽底部设有与所述支架本体下端面连通的第二连通孔，所述螺丝清洗槽底部设有与所述支架本体下端面连通的第三连通孔，所述点胶针清洗槽底部设有与所述支架本体下端面连通的第四连通孔，所述陶瓷阀清洗槽底部设有与所述支架本体下端面连通的第五连通孔，所述密封圈清洗槽底部设有与所述支架本体下端面连通的第六连通孔。
[0011]进一步地，所述倾斜面分别与所述点胶针筒清洗槽底面、所述点胶型腔清洗槽底面、所述螺丝清洗槽底面、所述点胶针清洗槽底面、所述陶瓷阀清洗槽底面和所述密封圈清洗槽底面平行。
[0012]实施本实用新型的有益效果有:
[0013]本实用新型通过在支架本体设置点胶针筒清洗槽、点胶型腔清洗槽、螺丝清洗槽、点胶针清洗槽、陶瓷阀清洗槽和密封圈清洗槽来放置对应的零部件进行清洗，通过倾斜面可以使清洗后的荧光粉顺利的流到清洗池的底部，这样既可以防止点胶机零部件在清洗过程中容易损坏和提高清洗的质量。
【附图说明】
[0014]为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0015]图1为本实用新型一种清洗支架一个实施例的立体结构示意图；
[0016]1、支架本体；2、点胶针筒清洗槽；3、点胶型腔清洗槽；4、螺丝清洗槽；5、倾斜面；
6、点胶针清洗槽；7、陶瓷阀清洗槽；8、密封圈清洗槽；9、支撑脚。
【具体实施方式】
[0017]下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
[0018]参照图1，本实用新型提供的一种清洗支架，包括支架本体1，支架本体I下端面设有至少三个支撑脚9，支架本体I上端面上设有一倾斜面5，倾斜面5上设有点胶针筒清洗槽2、点胶型腔清洗槽3、螺丝清洗槽4、点胶针清洗槽6、陶瓷阀清洗槽7和密封圈清洗槽8。本实用新型通过在支架本体I设置点胶针筒清洗槽2、点胶型腔清洗槽3、螺丝清洗槽4、点胶针清洗槽6、陶瓷阀清洗槽7和密封圈清洗槽8来放置对应的零部件进行清洗，通过支撑脚9可以提升支架本体I的高度，防止在清洗后荧光粉粘附在零部件上。倾斜面5的倾斜角度为10°?30°为佳，本技术方案的倾斜面5的倾斜角度为20°，通过倾斜面5可以使清洗后的荧光粉顺利的流到清洗池的底部，这样既可以防止点胶机零部件在清洗过程中容易损坏和提尚清洗的质量。
[0019]支架本体I与支撑脚9 一体成型。通过一体成型可以防止在清洗中支撑脚9在清洗中脱落，从而保证清洗的质量。
[0020]支撑脚9为均匀分布于支架本体I下面四个角处的四个。当然，可以根据实际实际的情况将支撑脚9设置成三个、五个、六个或者其他的数量，而并不局限于优选实施例中的四个。
[0021]点胶针筒清洗槽2底部设有与支架本体I下端面连通的第一连通孔，点胶型腔清洗槽.底部设有与支架本体I下端面连通的第二连通孔，螺丝清洗槽4底部设有与支架本体I下端面连通的第三连通孔，点胶针清洗槽6底部设有与支架本体I下端面连通的第四连通孔，陶瓷阀清洗槽7底部设有与支架本体I下端面连通的第五连通孔，密封圈清洗槽8底部设有与支架本体I下端面连通的第六连通孔。通过第一连通孔、第一连通孔、第三连通孔、第四连通孔、第五连通孔和第六连通孔可以进一步防止荧光粉粘附在零部件上，从而提高清洗的质量。
[0022]倾斜面5分别与点胶针筒清洗槽2底面、点胶型腔清洗槽3底面、螺丝清洗槽4底面、点胶针清洗槽6底面、陶瓷阀清洗槽7底面和密封圈清洗槽8底面平行。这样更加利于荧光粉在清洗过程中沿着倾斜面5排到清洗池底部，防止荧光粉粘附在零部件上，从而提高清洗的质量。
[0023]综上所述，本实用新型通过在支架本体设置点胶针筒清洗槽、点胶型腔清洗槽、螺丝清洗槽、点胶针清洗槽、陶瓷阀清洗槽和密封圈清洗槽来放置对应的零部件进行清洗，通过倾斜面可以使清洗后的荧光粉顺利的流到清洗池的底部，这样既可以防止点胶机零部件在清洗过程中容易损坏和提高清洗的质量。
[0024]以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
【主权项】
1.一种清洗支架，其特征在于，包括支架本体，所述支架本体下端面设有至少三个支撑脚，所述支架本体上端面上设有一倾斜面，所述倾斜面上设有点胶针筒清洗槽、点胶型腔清洗槽、螺丝清洗槽、点胶针清洗槽、陶瓷阀清洗槽和密封圈清洗槽。2.根据权利要求1所述的清洗支架，其特征在于，所述支架本体与所述支撑脚一体成型。3.根据权利要求1或2所述的清洗支架，其特征在于，所述支撑脚为均匀分布于所述支架本体下面四个角处的四个。4.根据权利要求1所述的清洗支架，其特征在于，所述点胶针筒清洗槽底部设有与所述支架本体下端面连通的第一连通孔，所述点胶型腔清洗槽底部设有与所述支架本体下端面连通的第二连通孔，所述螺丝清洗槽底部设有与所述支架本体下端面连通的第三连通孔，所述点胶针清洗槽底部设有与所述支架本体下端面连通的第四连通孔，所述陶瓷阀清洗槽底部设有与所述支架本体下端面连通的第五连通孔，所述密封圈清洗槽底部设有与所述支架本体下端面连通的第六连通孔。5.根据权利要求1所述的清洗支架，其特征在于，所述倾斜面分别与所述点胶针筒清洗槽底面、所述点胶型腔清洗槽底面、所述螺丝清洗槽底面、所述点胶针清洗槽底面、所述陶瓷阀清洗槽底面和所述密封圈清洗槽底面平行。
【专利摘要】本实用新型公开了一种清洗支架，包括支架本体，所述支架本体下端面设有至少三个支撑脚，所述支架本体上端面上设有一倾斜面，所述倾斜面上设有点胶针筒清洗槽、点胶型腔清洗槽、螺丝清洗槽、点胶针清洗槽、陶瓷阀清洗槽和密封圈清洗槽。本实用新型通过在支架本体设置点胶针筒清洗槽、点胶型腔清洗槽、螺丝清洗槽、点胶针清洗槽、陶瓷阀清洗槽和密封圈清洗槽来放置对应的零部件进行清洗，通过倾斜面可以使清洗后的荧光粉顺利的流到清洗池的底部，这样既可以防止点胶机零部件在清洗过程中容易损坏和提高清洗的质量。
【IPC分类】B05B15/02
【公开号】CN204911917
【申请号】CN201520624755
【发明人】周正生
【申请人】珠海宏光照明器材有限公司
【公开日】2015年12月30日
【申请日】2015年8月18日