一种用于化学滴定的新型装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及化学滴定技术领域，确切地说涉及一种用于化学滴定的新型装置。
【背景技术】
[0002]滴定速度控制系统、磁力搅拌系统在化学滴定分析中极为常见又占有重要的位置。目前有关滴定装置的专利有很多，大多数用于定量分析如申请号为201420770659.0、授权公告号为CN204320331U的实用新型专利“一种可以同时进行多个滴定操作的新型滴定装置”，申请号为201320077294.9、授权公告号为CN 201125262Y的实用新型专利“一种用于精密滴定的滴定装置”，申请号为201520182324.1、授权号为CN204495785U的实用新型专利“一种微量滴定装置”，有关磁搅拌装置的专利也有一些，主要是对搅拌原理进行改善如申请号为ZL94243206.1、授权公告号为CN2223137Y的实用新型专利“一种磁力搅拌器”，申请号为ZL201420473445.7、授权公告号为CN203990465U的实用新型专利“一种电磁搅拌装置”，申请号为ZL200720029573.2、授权公告号为CN201125262Y的实用新型专利，这些都有一个共同的缺点:由于在某些化学反应中不仅需要进行滴定同时还需要进行搅拌，上述专利只是单独地进行滴定或搅拌，没有将滴定与搅拌进行组合。
【实用新型内容】
[0003]本实用新型所要解决的技术问题是针对上述现有技术现状，而提供一种用于磁力搅拌系统与滴定速度控制系统可以同时进行并可以控制温度的装置。
[0004]本实用新型是通过采用下述技术方案实现的:
[0005]—种用于化学滴定的新型装置，其特征在于:包括滴定速度控制系统、化学反应容器(5 )、温度控制系统、磁力搅拌系统(7 )、底座(9 )和密封盖(12)，所述滴定速度控制系统位于所述化学反应容器(5)的上方，所述滴定速度控制系统包括盛反应物A的容器(I)、滴定速度控制装置(2)、转动装置(3)和支架(4)，所述温度控制系统呈环形设计并包括高温控制系统(10)、低温控制系统(11)、传热层(6)和隔热层(8)，所述高温控制系统(10)、低温控制系统(11)均螺旋分布在传热层(6)的外侧，所述隔热层(8)位于所述高温控制系统(10)、低温控制系统(11)的外侧，所述化学反应容器(5)位于所述传热层(6)的内腔，所述磁力搅拌系统(7)位于所述化学反应容器(5)的下方和所述底座(9)的上方。
[0006]与现有技术相比，本实用新型所达到的有益效果为:可以使化学反应容器中的反应物混合程度更均匀，反应物混合比例控制更准确，反应温度可调范围更宽，使化学反应的条件控制和反应目标产物得率的提高更易于实现。
【附图说明】
[0007]图1为本实用新型的结构不意图。
[0008]图中标记分别为:1.盛反应物A的容器；2.滴定速度控制装置；3.转动装置;4.支架;5.化学反应容器;6.传热层;7.磁力搅拌系统；8.隔热层;9.底座；10.高温控制系统；
11.低温控制系统；12.密封盖。
【具体实施方式】
[0009]作为本实用新型的最佳实施方式如下:在图1中，本实用新型包括化学反应容器(5 )、滴定速度控制系统、温度控制系统、磁力搅拌系统(7 )、底座(9)和密封盖(12)。所述滴定速度控制系统位于所述化学反应容器(5)的上方，所述滴定速度控制系统包括盛反应物A的容器(1)、滴定速度控制装置(2)、转动装置(3)和支架(4)，所述温度控制系统包括传热层
(6)、隔热层(8)、高温控制系统(10)和低温控制系统(11)，所述高温控制系统(10)和低温控制系统(11)均螺旋分布在传热层(6)的外侧，所述隔热层(8)位于所述高温控制系统(10)和低温控制系统(11)的外侧，所述传热层(6)、隔热层(8)、高温控制系统(10)和低温控制系统
(11)均呈环形设计，所述化学反应容器(5)位于所述传热层(6)的内腔，所述磁力搅拌系统
(7)位于所述化学反应容器(5)的下方和所述底座(9)的上方，所述支架(4)固定于所述隔热层外部。
[0010]所述滴定速度控制系统的设计应达到如下效果:有利于所述化学反应容器在反应前添加反应物体系B，也有利于在反应完成后将所述化学反应容器取出而便于收集反应产物。
[0011]所述化学反应容器、盛反应物A的容器、高温控制系统、低温控制系统、传热层、隔热层、磁力搅拌系统、滴定速度控制装置、转动装置、支架、底座和密封盖等设计均属于已有技术。
【主权项】
1.一种用于化学滴定的新型装置，包括化学反应容器(5)、磁力搅拌系统(7)、温度控制系统、滴定速度控制系统、底座(9)和密封盖(12)，其特征在于:所述磁力搅拌系统(7)位于所述化学反应容器(5)的下方和所述底座(9)的上方，所述温度控制系统呈环形设计并位于所述化学反应容器(5)的外侧，所述温度控制系统包括高温控制系统(10)、低温控制系统(11)、传热层(6)和隔热层(8)，所述高温控制系统(10)、低温控制系统(11)均螺旋分布在传热层(6)的外侧，所述隔热层(8)位于所述高温控制系统(10)、低温控制系统(11)的外侧，所述滴定速度控制系统位于所述化学反应容器(5)的上方，所述滴定速度控制系统包括盛反应物A的容器(I )、滴定速度控制装置(2)、转动装置(3)和支架(4)。
【专利摘要】本实用新型公开了一种用于化学滴定的新型装置，包括化学反应容器、磁力搅拌系统、温度控制系统、滴定速度控制系统、底座和密封盖，所述磁力搅拌系统位于所述化学反应容器的下方和所述底座的上方，所述温度控制系统位于所述化学反应容器的外侧，所述滴定速度控制系统位于所述化学反应容器的上方。采用本实用新型，可以使反应物混合均匀，同时可以控制反应物的浓度和控制反应温度，从而有利于反应产物的生成。
【IPC分类】B01J19/00
【公开号】CN205361298
【申请号】CN201521092406
【发明人】吕珍珍, 邬应龙, 罗松明, 严秋萍
【申请人】四川农业大学
【公开日】2016年7月6日
【申请日】2015年12月25日