技术总结
本发明公开了一种基体表面连续气膜的发生结构。在基体的一个表面设置若干内凹的槽体，每个槽体底部设置若干贯穿至基体另一表面的离散孔；槽体为异形槽，沿深度方向至少由两部分组成，自槽体底部深度为H1的部分为第一部分，剩余部分为第二部分，并且第二部分的至少一侧壁是由第一部分的同侧壁横向扩张形成。气体自离散孔喷出后在槽体的第一部分充分发展，形成连续、均匀的正压气体，然后经第二部分传输至开口端偏向基体表面一侧流出，在基体表面形成连续的均匀贴附的气膜。
技术研发人员：张文武;郭春海;王玉峰;张天润
受保护的技术使用者：中国科学院宁波材料技术与工程研究所;宁波大艾激光科技有限公司
技术研发日：2018.06.13
技术公布日：2018.09.28