一种柱状同轴圆环纳米结构的制作方法与流程

技术特征：

技术总结
本发明提供了一种柱状同轴圆环纳米结构的制作方法，包括在基底表面形成图形刻蚀层的工序；对图形刻蚀层进行处理，在基底表面形成柱状同轴圆环纳米结构的工序；以基底表面的柱状同轴圆环纳米结构为掩膜，对基底进行刻蚀，将结构转移至基底，并去除基底表面结构的工序。该方法快速高效、可大面积制备；成本低廉，加工自由度高。

技术研发人员：黄广飞;张渊;胡治朋;朱圣科;刘柳
受保护的技术使用者：华南师范大学
技术研发日：2019.01.30
技术公布日：2019.06.28