1.一种mems器件，其特征在于，所述mems器件包括：
检验质量块（1）；
感测梳（2），设为四组，分别设置于所述检验质量块（1）的四侧，每组所述感测梳（2）包括多个可移感测梳齿（21）、集成多个所述可移感测梳齿（21）的第一框架（22）、多个固定感测梳齿（23）以及集成多个所述固定感测梳齿（23）的第二框架（24），所述可移感测梳齿（21）和所述固定感测梳齿（23）相互交叉形成叉指结构，并沿着平行于其所在侧对应的所述检验质量块（1）边长的方向延伸，其中，所述固定感测梳齿（23）固定在第一衬底（4）上，所述第一框架（22）与所述检验质量块（1）弹性连接；
驱动梳（3），设为四组，一一对应设置于四个所述感测梳（2）远离所述检验质量块（1）的一侧，每组所述驱动梳（3）包括多个可移驱动梳齿（31）、集成多个所述可移驱动梳齿（31）的第三框架（32）、多个固定驱动梳齿（33）以及集成多个所述固定驱动梳齿（33）的第四框架（34），所述可移驱动梳齿（31）和所述固定驱动梳齿（33）相互交叉形成叉指结构，并沿着垂直于其所在侧对应的所述检验质量块（1）边长的方向延伸，其中，所述固定驱动梳齿（33）固定在所述第一衬底（4）上，所述第三框架（32）连接所述第一框架（22）。
2.如权利要求1所述的mems器件，其特征在于，所述mems器件还包括所述第一衬底（4），以及固定设置于所述第一衬底（4）上的第一传感平面电极（41），所述第一传感平面电极（41）设置于所述检验质量块（1）下方。
3.如权利要求2所述的mems器件，其特征在于，所述mems器件还包括固定设置于所述第一衬底（4）上的第一驱动平面电极（42），所述第一驱动平面电极（42）设置于所述检验质量块（1）下方。
4.如权利要求3所述的mems器件，其特征在于，所述mems器件还包括多个锚点（5），多个所述锚点（5）均固定在所述第一衬底（4）上，所述第一框架（22）和所述第三框架（32）均与一个或多个所述锚点（5）弹性连接。
5.如权利要求1所述的mems器件，其特征在于，部分所述可移驱动梳齿（31）和部分所述固定驱动梳齿（33）组成功能梳（35），其余所述可移驱动梳齿（31）和其余所述固定驱动梳齿（33）组成设于所述功能梳（35）侧方的一个或多个补偿梳（36）。
6.如权利要求4所述的mems器件，其特征在于，所述mems器件还包括设置于所述检验质量块（1）远离所述第一衬底（4）的一侧的第二衬底（6），所述第一衬底（4）和所述第二衬底（6）两端相连，形成放置所述检验质量块（1）、所述感测梳（2）、所述驱动梳（3）、所述锚点（5）、所述第一传感平面电极（41）及所述第一驱动平面电极（42）的空腔。
7.如权利要求6所述的mems器件，其特征在于，所述mems器件还包括设置于所述第二衬底（6）上的第二传感平面电极（61）和第二驱动平面电极（62），所述第一传感平面电极（41）和所述第二传感平面电极（61）、所述第一驱动平面电极（42）和所述第二驱动平面电极（62）两两相对设置。
8.如权利要求6所述的mems器件，其特征在于，所述检验质量块（1）内穿设有多个通孔（11）。
9.一种如权利要求1所述mems器件的形成方法，其特征在于，所述形成方法包括：
将基板（7）研磨到形成mems器件结构所需的厚度；
在所述基板（7）上刻蚀形成检验质量块（1）、感测梳（2）、驱动梳（3）及弹性悬架（8），其中，所述弹性悬架（8）弹性连接第一框架（22）与所述检验质量块（1）。
10.如权利要求9所述的形成方法，其特征在于，所述形成方法还包括：
在第一衬底（4）上蚀刻，形成第一传感平面电极（41）和第一驱动平面电极（42），在第二衬底（6）上蚀刻，形成第二传感平面电极（61）和第二驱动平面电极（62）；
将所述检验质量块（1）、感测梳（2）、驱动梳（3）及弹性悬架（8）封装在所述第一衬底（4）和所述第二衬底（6）围成的空腔内，并将所述第一衬底（4）和所述第二衬底（6）的两端相连接。