专利名称：一种生箔液喷淋管的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及铜箔生产设备技术领域，尤其涉及一种生箔液喷淋管。
背景技术：
目前，毛箔生产是利用硫酸铜溶液作为电解液，其主要成分有Cu2+、H+和0H_、 SO42-等离子。在直流电的作用下，阳离子移向阴极，阴离子移向阳极。生产中，阴极辊通电 成阴极，而电解槽里的阳极板通电后成阳极，电解槽中的Cu2+不断得到电子在阴极辊表面 电化结晶，合理调整阴极辊转速，就能得到不同厚度的铜箔。阴极辊入电解槽前及出电解槽 后，都有一道液喷淋程序，电解液的温度一般为左右，入槽前的液喷淋为预喷淋，出槽 后的液喷淋一方面是酸洗，为了清洗箔面，另一方面是为了防止箔面瞬间氧化，但目前的设 备生产中生产人员发现产出的毛箔箔面出现了间距约20mm的纵向条纹，并且在条纹处可 以用手摸到很明显的凸起，这说明毛箔局部质重出现了大的偏差。在铜箔生产中，铜箔的厚 度均勻性(即质重)是一个重要的质量指标，这不得不引起全厂上下的高度重视。生产的机列全部出现间距越20mm的条纹，是一个共性问题，技术人员通过仔细比 对，并借鉴一期的生产经验，判断问题应该出在液喷淋上。二期的液喷淋设备中包括长约 1600mm的Φ25Χ2πιπιΡνε喷淋管道1，见图1，在该喷淋管道1上横向均勻布置一条直径为 Φ 3mm,间距20mm的圆型喷淋孔2，硫酸铜溶液从该喷淋管道1的一端进入管内，从该喷淋管 道1管壁上均勻布置的喷淋孔2喷至尚未剥离的箔面上。生箔生产过程实际上是在电场作 用下，硫酸铜溶液离子的定向运动过程。电解槽内，阴极辊与阳极板间距极小，离子运动活 跃，但阴极辊出槽后，电位差仍存在，因间距很大，电场作用势能很小，有电势又有硫酸铜溶 液，铜离子会继续向阴极移动电镀，若液喷淋不均勻，就会造成电镀不勻，质重偏差的情况。 如果能提供一种喷淋均勻的生箔液喷淋管，将解决目前的问题。实用新型内容本实用新型的目的是提供一种生箔液喷淋管，液喷淋相对现有技术更加均勻。一种生箔液喷淋管，包括喷淋管道，喷淋管道的管壁上设置有一排沿轴向间距等 距排列的喷淋孔，其中所述的喷淋孔规格形同，直径范围为广2毫米；两两相邻喷淋孔之 间的中心距离范围为5 15毫米。所述的生箔液喷淋管，其中所述的喷淋孔直径为1. 5毫米，两两相邻喷淋孔之间 的中心距离均为10毫米。本实用新型采用上述技术方案后将达到如下的技术效果本实用新型的生箔液喷淋管，缩小喷淋孔的直径，并减小两两相邻喷淋孔之间的 中心间距，使喷出的喷淋液顺箔面流下的均勻度大大提高，在阴极辊电势的作用下形成的 条纹不明显，使生产出来的毛箔表观质量得到了提高，使铜箔产品局部质重偏差引起的毛 箔缺陷问题得到了解决，保证了毛箔质量，减少了费箔量，提高了成品率。
图1为现有技术中生箔液喷淋管的示意图；图2为本实用新型的生箔液喷淋管的示意图。[0015]具体实施方式
本实用新型的生箔液喷淋管，见图2，包括喷淋管道1，喷淋管道1的管壁上设置有 一排沿轴向间距等距排列的喷淋孔2，其中所述的喷淋孔2规格形同，直径范围为广2毫 米；两两相邻喷淋孔2之间的距离范围为5 15毫米。本实施例的生箔液喷淋管，所述的喷淋孔2直径为1. 5毫米，两两相邻喷淋孔2之 间的距离均为10毫米。经实际验证，采用本实施例的生箔液喷淋管，喷淋的溶液顺箔面流下的均勻度也 比现有技术好很多，间隔20毫米的条纹也消失了，毛箔表观质量得到了提高，使因局部质 重偏差引起的毛箔缺陷的问题得到了解决，保证了毛箔质量，减少了废箔量，提高了成品率。
权利要求1.一种生箔液喷淋管，包括喷淋管道，喷淋管道的管壁上设置有一排沿轴向间距等距 排列的喷淋孔，其特征在于所述的喷淋孔规格形同，直径范围为广2毫米；两两相邻喷淋 孔之间的中心距离范围为5 15毫米。
2.如权利要求1所述的生箔液喷淋管，其特征在于所述的喷淋孔直径为1.5毫米，两 两相邻喷淋孔之间的中心距离均为10毫米。
专利摘要一种生箔液喷淋管，包括喷淋管道，喷淋管道的管壁上设置有一排沿轴向间距等距排列的喷淋孔，其特征在于所述的喷淋孔规格形同，直径范围为1~2毫米；两两相邻喷淋孔之间的距离范围为5~15毫米。本实用新型的生箔液喷淋管，缩小喷淋孔的直径，并减小两两相邻喷淋孔之间的间距，使喷出的喷淋液顺箔面流下的均匀度大大提高，在阴极辊电势的作用下形成的条纹不明显，使生产出来的毛箔表观质量得到了提高，使铜箔产品局部质重偏差引起的毛箔缺陷问题得到了解决，保证了毛箔质量，减少了费箔量，提高了成品率。
文档编号C25D1/04GK201864788SQ201020606209
公开日2011年6月15日 申请日期2010年11月15日 优先权日2010年11月15日
发明者何成群, 全德镐, 孟社超, 张婵婵, 李应恩, 贾佩, 赵原森 申请人:灵宝华鑫铜箔有限责任公司