真空管的制作方法
【专利摘要】本发明涉及一种PECVD设备的【技术领域】，尤其是一种真空管。其包括外管、内管、真空腔、端部密封板和吸热层，外管与内管连接，外管与内管之间设有真空腔，外管一端设有端部密封板，内管外壁上设有一层吸热层，内管长度大于外管，内管伸出外管一端上设有螺纹。这种真空管结构简单、紧凑并且合理，装配方便快捷，连接可靠，保温效果和密封效果好，抗腐蚀性高，提高了热利用效率，延长了真空管的使用寿命，大大提高了真空管工作的可靠性，易于使用推广。
【专利说明】真空管
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种PECVD设备的【技术领域】，尤其是一种真空管。
【背景技术】
[0002]现有的真空管保温效果和密封效果比较差，抗腐蚀性比较低，降低了热利用效率，缩短了真空管的使用寿命，大大降低了真空管工作的可靠性。
【发明内容】
[0003]为了克服现有的真空管保温效果差、热利用效率低、使用寿命短以及工作可靠性低的不足，本发明提供了 一种真空管。
[0004]本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:一种真空管，包括外管、内管、真空腔、端部密封板和吸热层，外管与内管连接，外管与内管之间设有真空腔，外管一端设有端部密封板，内管外壁上设有一层吸热层。
[0005]根据本发明的另一个实施例，进一步包括内管长度大于外管，内管伸出外管一端上设有螺纹。
[0006]本发明的有益效果是，这种真空管结构简单、紧凑并且合理，装配方便快捷，连接可靠，保温效果和密封效果好，抗腐蚀性高，提高了热利用效率，延长了真空管的使用寿命，大大提高了真空管工作的可靠性，易于使用推广。
【专利附图】
【附图说明】
[0007]下面结合附图和实施例对本发明进一步说明。
[0008]图1是本发明的结构示意图。
[0009]图中1.外管，2.内管，3.真空腔，4.端部密封板，5.吸热层，6.螺纹。
【具体实施方式】
[0010]如图1是本发明的结构示意图，一种真空管，包括外管1、内管2、真空腔3、端部密封板4、吸热层5和螺纹6,外管I与内管2连接,夕卜管I与内管2之间设有真空腔3,外管I一端设有端部密封板4，内管2外壁上设有一层吸热层5，内管2长度大于外管1，内管2伸出外管I 一端上设有螺纹6。
[0011]使用时，外管I与内管2的一端密封连接，另一端通过密封板4密封，内管2的长度大于外管1，内管2伸出外管I 一端上设有螺纹，外管I与内管2之间为真空腔3，内管2外壁上设有一层吸热层5。这种真空管结构简单、紧凑并且合理，装配方便快捷，连接可靠，保温效果和密封效果好，抗腐蚀性高，提高了热利用效率，延长了真空管的使用寿命，大大提高了真空管工作的可靠性，易于使用推广。
【权利要求】
1.一种真空管，包括外管(I)、内管(2)、真空腔(3)、端部密封板(4)和吸热层(11)，夕卜管(I)与内管(2)连接，其特征是，外管(I)与内管(2)之间设有真空腔(3)，外管(I) 一端设有端部密封板(4 )，内管(2 )外壁上设有一层吸热层(11)。
2.根据权利要求1所述的真空管，其特征是，内管(2)长度大于外管(1)，内管(2)伸出外管(I) 一端上设有螺纹(6)。
【文档编号】F16L59/02GK103511795SQ201210217130
【公开日】2014年1月15日 申请日期:2012年6月28日 优先权日:2012年6月28日
【发明者】沈文伟 申请人:沈文伟