缓冲底座的制作方法
【专利摘要】本发明公开了一种缓冲底座，包括本体，所述本体上均匀设置有若干余量槽，所述本体是横截面为C形的旋转体结构，所述本体上设置有定位孔；本发明机构简单，能够利用本体的回缩实现缓冲作用，体积小，重量轻，安装方便，易于推广使用。
【专利说明】缓冲底座
【技术领域】
[0001]本发明涉及机械领域，尤其是涉及一种缓冲底座。
【背景技术】
[0002]传统的缓冲底座结构复杂，利用弹簧等缓冲装置的配合实现缓冲作用，这种结构重量大，安装费力，成本高。
【发明内容】
[0003]本发明为解决目前缓冲底座体结构复杂，重量大的问题，为此提供了一种缓冲底座，包括本体，所述本体上均匀设置有若干余量槽，所述本体是横截面为C形的旋转体结构，所述本体上设置有定位孔。
[0004]本发明的有益效果是:本发明机构简单，能够利用本体的回缩实现缓冲作用，体积小，重量轻，安装方便，易于推广使用。
【专利附图】
【附图说明】
[0005]本发明将通过例子并参照附图的方式说明，其中:
图1是本发明的立体示意图；
图2是本发明的全剖示意图；
图3是具体实施例2的意图；
图中:1、本体；1.1、定位孔；2、余量槽。
【具体实施方式】
[0006]本说明书中公开的所有特征，或公开的所有方法或过程中的步骤，除了互相排斥的特征和/或步骤以外，均可以以任何方式组合。
[0007]本说明书(包括任何附加权利要求、摘要和附图)中公开的任一特征，除非特别叙述，均可被其他等效或具有类似目的的替代特征加以替换。即，除非特别叙述，每个特征只是一系列等效或类似特征中的一个例子而已。
[0008]具体实施例1，如图1和图2所示的一种缓冲底座，包括本体I，所述本体I上均匀设置有若干余量槽2，所述本体I是横截面为C形的旋转体结构，所述本体I上设置有定位孔 1.1。
[0009]所述余量槽2为矩形结构。
[0010]具体实施例2,如图3所示的一种缓冲底座,包括本体1，所述本体I上均勻设置有若干余量槽2，所述本体I是横截面为C形的旋转体结构，所述本体I上设置有定位孔1.1。
[0011]所述余量槽2为圆弧形结构。
[0012]本发明机构简单，能够利用本体的回缩实现缓冲作用，体积小，重量轻，安装方便，易于推广使用。
[0013]本发明并不局限于前述的【具体实施方式】。本发明扩展到任何在本说明书中披露的新特征或任何新的组合，以及披露的任一新的方法或过程的步骤或任何新的组合。
【权利要求】
1.一种缓冲底座，其特征在于，包括本体(I)，所述本体(I)上均匀设置有若干余量槽(2)，所述本体(I)是横截面为C形的旋转体结构，所述本体(I)上设置有定位孔(1.1)。
【文档编号】F16F7/00GK104455150SQ201410778900
【公开日】2015年3月25日 申请日期:2014年12月17日 优先权日:2014年12月17日
【发明者】张兴良 申请人:江阴市盛园铜材有限公司