1.一种用于晶圆处理设备的进气管，其特征在于，包括：
管体，包括内壁和外壁；
保护层，覆盖所述内壁和/或外壁，所述保护层的机械强度大于所述管体的机械强度。
2.根据权利要求1所述的进气管，其特征在于，所述管体的一端作为密封端口，所述密封端口具有一定长度，用于与外部管路密封连接；所述保护层覆盖所述密封端口以外的管壁。
3.根据权利要求2所述的进气管，其特征在于，所述密封端口外壁表面覆盖有过渡层，所述过渡层表面光滑度大于所述保护层的表面光滑度。
4.根据权利要求1所述的进气管，其特征在于，所述保护层为碳化硅层。
5.根据权利要求1所述的进气管，其特征在于，所述管体为硅管。
6.根据权利要求3所述的进气管，其特征在于，所述过渡层为氧化硅层。
7.根据权利要求1所述的进气管，其特征在于，所述保护层的热膨胀系数大于所述管体的热膨胀系数。
8.根据权利要求1所述的进气管，其特征在于，所述保护层具有朝向所述管体的压应力。
9.根据权利要求1所述的进气管，其特征在于，所述保护层的厚度为0.195mm～0.39mm；所述保护层与管体的总厚度为1mm～2mm。
10.一种晶圆处理设备，其特征在于，包括：
如权利要求1至9中任一项所述的进气管。