专利名称：光学分析装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及光谱分析装置等光学分析装置。
背景技术：
如专利文件I (日本专利公开公报特开2002-82050号)所示，已知现有的光谱分析装置包括光源；聚光透镜，对来自该光源的光进行聚光；光谱分析部，具有多通道检测器，对来自所述光源的光进行光谱分析；以及测量单元，设置在聚光透镜和光谱分析部之间。所述光谱分析装置的浓度测量采用吸收光谱法。通常，所述吸收光谱法通过在由校正预先得到的校准线Mi上乘以吸光度光谱Abs (Ai),计算出浓度c (参照下式)。公式I
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权利要求
1.一种光学分析装置，其特征在于包括聚光光学系统，对光源发出的光进行聚光；检测光学系统，设置在由所述聚光光学系统聚光后的光的光路上，对所述光进行检测；测量单元，能在位于所述聚光光学系统和所述检测光学系统之间的光路上的测量位置、以及从所述测量位置退避开的退避位置之间移动；基准修正构件，能在位于所述聚光光学系统和所述检测光学系统之间的光路上的基准位置、以及从所述基准位置退避开的退避位置之间移动，并且使在所述基准位置上通过的光的焦点位置与通过位于所述测量位置上的测量单元的光的焦点位置基本相同；以及移动机构，用于移动所述测量单元和所述基准修正构件，选择性地使所述测量单元移动到所述测量位置或者使所述基准修正构件移动到所述基准位置，至少所述基准修正构件的在所述基准位置上与光路相交的外表面部分，由对腐蚀性气体具有耐腐蚀性的耐腐蚀性材料形成。
2.根据权利要求I所述的光学分析装置，其特征在于，所述基准修正构件包括光学玻璃；所述耐腐蚀性材料构成的耐腐蚀性板材，与所述光学玻璃的光入射面和光射出面分别相对设置；以及密封构件，对所述光学玻璃和所述耐腐蚀性板材之间进行密封。
3.根据权利要求I所述的光学分析装置，其特征在于，通过至少对光学玻璃的光入射面和光射出面涂布所述耐腐蚀性材料，构成所述基准修正构件。
4.根据权利要求I所述的光学分析装置，其特征在于，通过隔着垫片重叠由所述耐腐蚀性材料组成的多枚耐腐蚀性板材，构成所述基准修正构件。
全文摘要
本发明提供一种光学分析装置，通过降低腐蚀性气体对焦点位置修正用的基准修正构件的影响，在降低光学分析装置的测量误差的同时，解决伴随更换基准修正构件所产生的各种问题。本发明的光学分析装置包括基准修正构件(6)，该基准修正构件(6)能在位于聚光光学系统(3)和检测光学系统(4)之间的光路(L)上的基准位置(R)、以及从该基准位置(R)退避开的退避位置(S)之间移动，使在基准位置(R)上通过的光的焦点位置与通过位于测量位置(P)上的测量单元(5)的光的焦点位置基本相同，基准修正构件(6)的在基准位置(R)上与光路(L)相交的外表面部分(6A)，由对腐蚀性气体具有耐腐蚀性的材料构成。
文档编号G01N21/31GK102608029SQ20111043245
公开日2012年7月25日 申请日期2011年12月21日 优先权日2010年12月24日
发明者有本公彦, 横山一成 申请人:株式会社堀场制作所