用于光学测量的设备及相关方法

用于光学测量的设备及相关方法
【专利摘要】一种用于光学测量可选地光滑的目标对象(106，206)的表面(例如，表面形状和/或相关的表面缺陷)的设置(101，201)，包括：限定空心的优选弯曲的表面形状的漫射半透明照明结构(102，202，302)，被配置为至少部分地优选至少大致半球状地包围所述目标对象，所述表面进一步具有至少两个优选地大致针孔状并且可选地具有透镜的光圈(212)；若干光源(208)，光学耦合至该漫射照明结构，用于通过所述照明结构的表面照亮目标对象；至少两个成像装置(104，204)，每个成像装置被配置为通过所述至少两个光圈中的一个光圈对目标对象成像；以及控制实体(210)，被配置为指示所述若干光源形成通过所述照明结构的表面照亮目标对象的一系列预定的照明图案(即，在目标对象上投射的图像的视频序列)，指示所述至少两个成像装置获得目标对象的相对于每个照明图像的图像，并且通过利用所利用的所述图形以及所获得的图像，获得目标对象的预定的与表面相关的性能。还提出了一种相应的测量方法。
【专利说明】用于光学测量的设备及相关方法
【技术领域】
[0001]大体上，本发明涉及光学器件。尤其地，但并非排它地，本发明涉及用于确定目标对象的地形的光学测量。
【背景技术】
[0002]已经证实，在很多情况下，难以测量与各种对象相关的高曲率表面的地形。传统的光学方法限于平面。对于小型平面，例如，可使用干涉仪，但是干涉仪昂贵、速度慢并且提供的精度不可接受。
[0003]包括与目标对象进行物理接触的不同方法通常冗长，提供较差的水平分辨率，甚至在进行分析时划伤或损坏可能精致的表面。根据通常使用的逐点扫描方法，这种缺点相当容易理解。替换的基于机器视觉的设置也运行不太好，尤其是对于光滑的表面。
[0004]至少可以说，实际上通常需要高曲率的光滑对象的形状测量。目前，例如，在明亮的照明中使用外观检查，手动进行光滑的对象的质量控制。这种检查的结果高度取决于特定的负责检查人员的专业知识，并且还随着时间和制造工艺本身变化。使用人工检查，仅仅可获得相当模糊的定性结果；更具有特征地，或者至少更确切地说，表示缺陷或3d形状的数值实际上依然是秘密。然而，很多光滑的产品被视为高质量或‘高端’产品，因此，在其制造期间或者紧接在制造之后，应优选地识别甚至很小的缺陷。
[0005]跟踪光滑表面的一种光学方法是基于使用平板数字显示器(例如，TFT显示器)和照相机。显示器可被设置为显示条纹图案，并且照相机可观察通过测试表面反射的图案。然后，关于在原始和反射版本之间的图案的相变的分析可相当精确地并且在总体的执行时间显示表面的斜率，但是对象的最大适用曲率相当有限，即，为了获得适当精度的综合分析结果，对象依然应当比较平坦。

【发明内容】

[0006]目标在于，至少缓解一个或多个上述问题并且提供一种用于测量可选地具有光滑表面的目标对象的形状的设备和相关方法。
[0007]该目的通过用于光学测量可选地光滑目标对象的表面(例如，表面形状和/或表面缺陷)的设备的不同实施方式实现，该设备包括:
[0008]漫射半透明照明结构，限定空心(优选地，弯曲的)表面形状，被配置为至少部分包围所述目标对象，优选地至少大致半球状地包围所述目标对象，所述表面进一步配备有至少两个优选大致针孔状并且可选地具有透镜的光圈，
[0009]多个光源，光学耦合至所述照明结构，用于通过所述照明结构的表面照亮目标对象，
[0010]至少两个成像装置，每个成像装置被配置为通过该至少两个光圈中的一个光圈对目标对象成像，以及
[0011]控制实体，被配置为指示所述多个光源在照明结构的表面上形成预定照明图案的图像序列，以便使用通过所述表面投射的图案照亮目标对象，指示至少两个成像装置获得目标对象的相对于每个照明模式的图像，并且通过利用所利用的所述图像以及所获得的图像，获得目标对象的预定表面相关性能。
[0012]在一个实施方式中，该设备(尤其是例如控制实体)可被配置为应用多个图像的图像数据，通过确定包括两个成像装置中的每一个的成像元素的成像元素(例如，像素)对，来确定目标对象的表面元素的位置和/或方向，其中，鉴于所述照明结构的两个发射光表面位置以及从目标对象的表面元素反射的相关光线，所述表面元素相对于这两个成像元件成镜像角(mirroring angle)。
[0013]因此，该设置可被配置为基于所发现的镜像角来推断表面元素的实际方向。
[0014]可选地，该设置可进一步被配置为基于所述成像元件对以及关于所述两个成像装置之间的不同成像元素的关系的校准信息，确定目标对象的表面元件的位置，所述信息优选地指示关于在成像装置的成像元件之间的潜在光线交叉点(例如，交叉位置)的知识。
[0015]在另一个补充或替换的实施方式中，该设置被配置为
[0016]基于所获得的多个图像的图像数据，为第一成像装置的第一成像元素(例如，像素)确定所述照明结构的匹配的第一发射光表面位置，所述第一光传输表面位置通过目标对象的实际的镜像表面(mirroring surface,镜面)元件将光提供给第一成像元件，
[0017]利用所述第一成像元件和所述照明结构的相关的第一光圈，确定第一线路，第一线路限定了多个潜在的表面元素，每个潜在的表面元素具有确定的(certain，某个)方向并且相对于所述第一表面位置和所述第一成像元素成镜像角，所述多个潜在的表面元素还包含所述实际的镜像表面元素，
[0018]基于所获得的多个图像的图像数据，通过照明结构的匹配的第二发射光表面位置，确定第二成像装置的第二成像元件(例如，像素)，其中，所述第二图像元件和照明结构的相关的第二光圈限定第二线路，所述第二线路与所述第一线路在所述多个潜在的表面元件中的一个潜在的表面元素有成交叉点，第二线路还相对于所述第二表面位置和所述第二成像元素成镜像角，因此，所述多个潜在的表面元素中的所述一个表示包括其方向的所述实际的镜像表面元素，以及
[0019]利用与所述设备有关的成像装置的第一成像元件、第二成像元件以及相关的相互校准信息，确定所述实际的镜像表面元件的位置。
[0020]可选地，该设备可被配置为通过所述元素的表面法线的表示来模制和/或指示包括所述实际的镜像表面元件的潜在的表面元件的方向。
[0021]在进一步的补充或替换的实施方式中，至少一个成像装置包括照相机，该照相机优选地包括光敏辐射传感器表面或传感器矩阵。例如，可利用基于CMOS(互补金属氧化物半导体)或CCD (电荷耦合装置)技术的解决方案。可使用特定的场景，确定测量波长，并且可相应地选择适用的光源/成像机构(gear，齿轮)。
[0022]在又一个补充或替换的实施方式中，至少一个光源已经在物理上连接至照明结构，与该照明结构可选地集成。可选地，至少一个光源已经至少部分嵌入照明结构内。适当的模制技术(例如，注射成型)可用于该目的。照明结构可配备有多个预定义的表面形式，例如，用于容纳所述至少一个光源的至少一部分的槽。
[0023]在又一个补充或替换的实施方式中，至少一个光源包括LED (发光二极管)，例如，LED芯片或LED封装。或者/此外，至少一个光源可包括投影仪装置，例如，所谓的数据投影仪装置或幻灯片投影装置。
[0024]在进一步的补充或替换的实施方式中，照明结构单独地或者与用于目标对象的载体表面一起大致限定从由球形、圆顶形、半球形、圆锥形、截锥形以及圆柱形构成的组中选择的至少一个形状。
[0025]在进一步的补充或替换的实施方式中，至少一个光源通过驱动电压或电流控制、脉冲宽度控制或脉冲密度调制控制来控制。
[0026]在进一步的补充或替换的实施方式中，照明结构的材料包括塑料或玻璃材料。
[0027]在进一步的补充或替换的实施方式中，该设备被配置为确定目标对象的至少一个与表面相关的性能，所述至少一个与表面相关的性能选自由在经测量的表面性能中(例如，在表面方向或表面法线方向)的断裂、表面方向、表面形状、表面尺寸以及目标对象的尺寸、大小或体积或其一部分。例如，这种性能(例如，断裂)可指示表面缺陷。
[0028]在进一步的补充或替换的实施方式中，该设置被配置为应用至少一个照明图案(图像)，该照明图案包括线性强度斜坡或正弦图案，例如，具有正弦改变的强度的正弦条纹图案。形成在照明结构上的模式图案优选地具有周期性并且包含多个周期，周期的总数量可选地在从大约十个到大约一百个周期的范围内。
[0029]在进一步的补充或替换的实施方式中，该设备被配置为应用由至少四个(优选地至少六个)照明图案的序列，以至少获得相应数量的图像，用于确定期望的表面性能。
[0030]在进一步的补充或替换的实施方式中，至少一个成像装置与照明结构集成一体，例如，可选地与其活动地连接。例如，该集成可促使在实际测量之前采取所需要的校准措施。
[0031]另一方面，一种用于光学测量目标对象的测量的方法，包括:
[0032]获得限定空心(优选地弯曲的)表面形状的漫射半透明照明结构，所述漫射半透明照明结构被配置为至少部分包围所述目标对象，优选地至少大致半球状地包围所述目标对象，所述表面进一步具有至少两个优选地大致针孔状并且可选地具有透镜的光圈，其中，多个光源光学耦合至所述照明结构，用于通过所述照明结构的表面照亮目标对象，
[0033]获得至少两个成像装置，每个成像装置均被配置为通过所述至少两个光圈中的一个光圈对目标对象成像，
[0034]控制所述多个光源，以在照明结构的表面上形成预定的照明图案的图像序列，以便使用通过所述表面投射的所述图案照亮所述目标对象，并且指示所述至少两个成像装置获得目标对象的相对于每个照明图案的图像，以及
[0035]通过利用所利用的所述图案以及所获得的图像，获得预定的与表面相关的性能，例如，目标对象的形状和/或尺寸或者其至少一部分。
[0036]技术人员会理解的是，关于该设置的各种实施方式的上述考虑可灵活地应用于已做适当修改的方法的实施方式。
[0037]根据该实施方式，由多个不同的问题引起本发明的效用。所设计的解决方案能够测量各种光滑物品和相关表面(例如，水龙头、瓷器、餐具、玻璃、镜子以及各种其他例如镀铬、喷漆或涂漆表面)的3d形状、方向以及尺寸。甚至可检测小的断裂/缺陷。
[0038]所提供的技术设备进一步能够形成各种照明图案，用于不同目标对象的光滑(镜面)和散射(漫射)的表面的不同测量方法中。通过利用甚至无光泽的光度成像，即，可分析高度散射的表面，例如，结合本发明检测的表面缺陷。所实现的测量精度良好并且结果通
常非常可靠。
[0039]能够制造所提供的设置，并且可与经测试的可容易获得的硬件一起使用。硬件控制和图像分析的相关程序快速，并且也不需要特别的硬件。普通的计算元件(例如，微控制器、微处理器和/或DSP (数字信号处理器))可与合适的外部存储器芯片或集成内存一起使用。例如，当代膝上型计算机或台式计算机可被配置为控制该设备和/或分析所获得的图像。
[0040]表达式“若干(a number of)”在本文中表示从1(1)开始的任何正整数，例如，1、2或3。
[0041]表达式“多个”在本文中表示从2 (2)开始的任何正整数，例如，2、3或4。
[0042]术语“表面元素”在本文中可表示由所提出的光学测量装置检查的目标对象的表面点或区域。因此，表面元素可表示基本单元，从该基本单元中，根据测量，目标对象被视为至少在逻辑上形成。在很多测量中，这种表面元素的位置和方向适合于测量员。表面元素的尺寸或大小总体上可随着测量设备的分辨率变化，包括所应用的成像装置的分辨率、光源的间距和性质、照明结构的配置等。
[0043]术语“大致针孔状光圈”在本文中表示优选地大约为针孔或者略微更大的光圈。例如，该光圈可具有大约几百微米或更小。该光圈可选地由光学元件(例如，透镜)补充，即，具有小光圈的透镜可用于实现本发明的至少一个大致针孔状光圈。例如，透镜可适用于补偿由光圈提供给成像装置的传感器的不充足的曝光。提供透镜的光圈优选地具有大约几毫米或更小(在直径上)。
[0044]在本文中使用的术语“a”和“an”限定为一个或多于一个。
[0045]在所附权利要求中还公开了本发明的各种不同的实施方式。
【专利附图】

【附图说明】
[0046]接下来，参照附图更详细地描述本发明，其中
[0047]图1示出了根据本发明的设备的实施方式的基本原理；
[0048]图2示出了根据本发明的设备的实施方式的各种元件；
[0049]图3描述了与本发明的各实施方式相结合的可行角度定义和计算的一个实例。
[0050]图4a示出了根据本发明的表面测量的实施方式的工序；
[0051]图4b示出了上述表面测量的实施方式的另外的方面；
[0052]图5为根据本发明的用于测量目标对象的表面的方法的实施方式的流程图；
[0053]图6更详细地示出了与图2的实施方式大致相似的设备的一个实施方式；
[0054]图7示出了用于成像的适用的针孔光学器件的实施方式；
[0055]图8进一步示出了与针孔光学器件相结合的适用透镜配置的一个实施方式。
【具体实施方式】
[0056]在图1中，示出了照明结构，尤其是圆顶结构，102的一个实施方式，该照明结构用于朝着设置在诸如普通桌面或薄板的预定载体表面上并且由照明结构102呈大致半球形地包围，即，位于载体表面的水平之上的基本上自由形态的目标对象或‘样品’ 106，投射由多个嵌入式或者至少光学耦合的光源提供的光。在一些其他实施方式中，根据照明结构的性质，对象106可悬挂在例如细绳下或者可由诸如底座的特定支撑结构支撑。
[0057]对象106可位于照明结构102的大致中心。照明结构102可大致具有对称形状，如图中所示。在很多实施方式中，两个光敏传感器装置或‘成像装置’ 104(例如，数码照相机)相对于照明结构102定位，以便捕捉由光源发射并且由样品106朝结构102反射回的光线。有利地，成像装置104对准，以使相同的样品区域(或样品空间)从不同的角度成像。例如，可将称为光圈的小开口提供给结构102，以便能够通过该光圈朝成像装置104传输光。
[0058]成像装置104均可包含通常称为‘像素’的多个成像元素的大致平面光敏矩阵。该矩阵可包括例如1000x1000个像素或更多。
[0059]在一些其他实施方式中，从本发明的角度来看，单个外壳或单个主机设备可包含多个成像装置104，例如，多个照相机传感器。
[0060]由结构102发射并且从样品106的表面朝结构102尤其朝相关的成像装置104反射回的各种光线已经在图中被描述为实线和虚线，用于进行说明。
[0061]该设备通过识别和分析在照明结构102和成像装置104的光敏传感器表面之间传播的光线，可测量在大致面向照明结构102的样品106的顶部表面明确限定的基本上所有或至少大部分点，该传播包括在样品106表面上的反射现象。
[0062]适用于形状检测的由样品106表面提供的反射率优选地为镜面反射，或者至少包括充足的镜面元素。还可包含漫射元件。在狭义上，如下文所提出的，可由该设备分析甚至高度散射的表面(无光泽表面)。
[0063]图2描绘了所建议的用于进行光学测量(例如，形状和/或尺寸测量)的设备的实施方式的更详细的示图。
[0064]潜在的高曲率样品206置于载体表面212上,例如,该载体表面可由光滑的、平板(例如，桌子上表面)提供。照明结构202包括几乎封装该照明结构与载体表面212之间的样品206的大致圆顶状形态。该形态优选地包含或者由半透明的漫射(半透明)材料构成。可选地至少在功能上被组织为LED矩阵的诸如LED208的多个光源已经被布置为光学耦合至照明结构202，使得结构202可建立期望的照明模式并且朝样品206传送，用于随后进行成像。
[0065]可选地，诸如LED芯片或LED封装的光源已经嵌入照明结构202的材料内。例如，为了该目的，可利用适当的模制技术和/或预先雕刻容纳至少部分光源208的槽。或者/此外，数据投影仪或者例如幻灯片投影系统可用作光源。光源208还可为照明结构202的外部和/或非接触元件。
[0066]已经在照明结构202的外部提供诸如CMOS或CXD照相机的两个成像装置204，以便通过检测从样品206中反射的光，通过各个针孔212对样品成像。每个成像装置204优选地被配置为通过专用的针孔型开口对样品成像。在一些其他实施方式中，根据各种因素，例如，相关视场的期望覆盖范围、照明结构的配置和尺寸以及目标对象的几何形状，可利用不同数量的成像装置204，例如，三个装置。
[0067]?’ 210表示用于进行控制(例如，同步)的控制电子器件，例如，处理装置210b、存储器210c以及I/O元件210a(例如，数据传输或通信接口、数据可视化元件(例如，显示器、打印机或绘图机)、数据输入元件(例如，键盘、鼠标等))，这些测量程序涉及光源208和成像装置204。例如，涉及光源控制的照明模式变化可相对于成像装置204的成像动作同步，以提高测量速度。
[0068]控制实体210可构成也适合于其他用途的更通用的计算机装置或者可由更通用的计算机装置构成。例如，处理装置210b可包括微处理器、微控制器、DSP、可编程逻辑阵列或所期望的多个任何上述元件。存储器210c可包括至少一个专用存储器芯片或与处理器210b集成的存储器。存储器210c可被配置为容纳计算机程序，该计算机程序包括具有计算机可执行指令和相关的其他数据的形式的代码元件，用于控制该设备。进一步地，存储器210c可用于托管测量数据和相关的分析结果。计算机程序可包含在诸如存储卡或光盘的承载介质上。
[0069]关于LED208或其他光源的尺寸和间距，理论上，LED等越小并且位置越接近，可越精确地在样品206上产生和投射照明图案。在光源之间的最小理论距离为O。在那种情况下，不需要额外的漫射照明结构，并且光源矩阵本身可用作例如圆顶状显示器或‘照明结构’，用于照亮样品。然而，由于所需要的光源的数量以及该设置的所需布线、复杂性以及所产生的总体价格大幅增大，所以在实际情况下，这种零幅度的间距有时不能实行。
[0070]然而，在光源之间的间距增大时，由于其光点照明性质，所以在照明模式和拍摄的图像中可见单光源。这通常可使用在光源与样品之间的更有效地漫射的照明结构材料来解决，以使照明平滑。例如，在很多实施方式中，在例如LED型光源之间的适用距离可在从大约2mm到大约1mm的范围内。随着间距增大，照明结构(例如，圆顶)的漫射功率需要增大。根据要成像的对象以及期望的解决方案的其他因素，照明结构的形状可自然地变化。除了圆顶或者具体而言例如半球形以外，理论上还可利用实心球、圆柱形、圆锥形或基本上几乎任何自由形式的形状。
[0071]鉴于不同的样品尺寸以及例如光源，照明结构的尺寸可伸缩。为了一次获得所测量的整个样品，应定位为保持在所有成像装置204的观察区域内，S卩，在照相机视图内，并且在由照明结构202限定的围绕形状内部。照明结构202的材料可包括塑料、玻璃等，优选地包括半透明的材料。
[0072]例如，利用例如电流控制或者更精确的脉冲宽度或脉冲密度调制，可实现对光源208发射的光的强度的控制。通过例如根据行和列扫描光源矩阵，可灵活地实现对诸如LED的光源的特定控制。
[0073]参照图3，接下来，简要地回顾利用图像数据的3d计算的原理。该图尤其示出了在所公开的计算方法中利用的角度定义α和φ。
[0074]在所示出的具有圆顶状照明结构302的场景中，X轴表示水平轴，Y轴表示垂直轴。下面的表I描述了所利用的潜在照明图案。例如，使用不同的照明图案，采用6个图像，可计算圆顶上的从对象表面(表面元素)向照相机像素反射的点或位置。图案I和2可用于限定高度角α，然而，图案3到6可用于限定旋转角度Φ。
[0075]表1:照明图案
[0076]
【权利要求】
1.一种用于光学测量可选的光滑目标对象(106,206)的表面的设备(101,201,601),测量例如表面形状和/或相关的表面缺陷，所述设备包括: 漫射半透明照明结构(102，202，302)，其限定空心表面形状，优选弯曲表面形状，所述漫射半透明照明结构被配置为至少部分包围所述目标对象，优选地至少大致半球状地包围所述目标对象，所述表面进一步配备有优选大致针孔状并且可选地配备有透镜的至少两个光圈(212，712)， 若干光源(208)，光学耦合至所述照明结构，用于通过所述照明结构的所述表面照亮所述目标对象， 至少两个成像装置(104,204),均被配置为通过所述至少两个光圈中的一个光圈对所述目标对象成像，以及 控制实体(210)，被配置为指示所述若干光源在所述照明结构的所述表面上形成预定的照明图案的图像序列，以便使用通过所述表面投射的所述图案照亮所述目标对象，指示所述至少两个成像装置获得所述目标对象的相对于每个照明图案的图像，并且通过利用所利用的所述图案以及所获得的图像，获得所述目标对象的预定的与表面相关的性能。
2.根据权利要求1所述的设备，被配置为应用多个图像的图像数据，通过确定包括两个成像装置(104，204)中的每一个的成像元素的成像元素对(404，405)，确定所述目标对象的表面元素(406)的位置和/或方向，其中所述成像元素对例如为像素对，其中，鉴于所述照明结构的两个发射光表面位置(408，409)以及从目标对象的表面元素反射的相关光线，所述表面元素相对于这两个成像元素成镜像角。
3.根据权利要求2所 述的设备，被配置为基于在所述成像元素对确定期间发现的所述镜像角来确定所述表面兀素(406)的方向(406a)。
4.根据权利要求2或3所述的设备，被配置为基于所述成像元素对和关于所述两个成像装置之间的不同成像元素的关系的校准信息，确定所述目标对象的所述表面元素(406)的位置，所述信息优选地指示关于所述成像装置的所述成像元素之间的诸如交叉位置的潜在光线交叉点的知识，任选地指示关于交叉点与如同所述成像装置的多个参考点相距的距离的知识。
5.根据前述权利要求中任一项所述的设备，被配置为 基于所获得的多个图像的图像数据，为第一成像装置的诸如像素的第一成像元素(404)确定所述照明结构的匹配的第一发射光表面位置(408),所述匹配的第一发射光表面位置通过所述目标对象的实际的镜像表面元素(406)将光提供给所述第一成像元素， 通过利用所述第一成像元素和所述照明结构的相关的第一光圈确定第一线路(410)，所述第一线路限定多个潜在的表面元素，每个所述潜在的表面元素具有确定的方向(406a)并且相对于所述第一表面位置和所述第一成像元素成镜像角，所述多个潜在的表面元素还包含所述实际的镜像表面元素(406)， 基于所获得的多个图像的图像数据，通过所述照明结构的匹配的第二发射光表面位置(409)，确定第二成像装置的诸如像素的第二成像元素(405)，其中，所述第二成像元素和所述照明结构的相关的第二光圈限定第二线路，所述第二线路与所述第一线路在所述多个潜在的表面元素中的一个潜在的表面元素有交叉点，所述第二线路还相对于所述第二表面位置和所述第二成像元素成镜像角，因此，所述多个潜在的表面元件中的所述一个潜在的表面元素表示包括其方向的所述实际的镜像表面元素，以及 利用与所述设备有关的所述成像装置的所述第一成像元素、第二成像元素以及相关的相互校准信息，确定所述实际的镜像表面元素(406)的位置。
6.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中，至少一个成像装置包括诸如基于CMOS (互补金属氧化物半导体)或CCD(电荷耦合装置)技术的照相机的照相机。
7.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中，至少一个光源包括LED(发光二极管)芯片、LED封装或诸如OLED (有机LED)的其他基于LED的或与LED相关的光源。
8.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中，至少一个光源已经与所述照明结构集成为一体，可选地至少部分在所述照明结构内部模制。
9.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中，所述照明结构大致限定从由球形、圆顶形、半球形、圆锥形、截锥形以及圆柱形构成的组中选择的至少一个形状。
10.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中，至少一个所述光圈(712)与透镜设备(604a，604b，701，801)相关联，所述透镜设备包括多个透镜(706、708)，可选地包括至少一个单或双透镜。
11.根据权利要求10所述的设备，其中，所述透镜设备包括串行排列的多个透镜，并且在光路上设置在所述多个透镜中的至少一个其他透镜(708)之前的所述多个透镜中的一个透镜(706)具有比所述其他透镜(708)小的直径。
12.根据权利要求10或11所述的设备，其中，所述透镜设备(801)包括具有斜边(716)的面向所述光圈(712)的主体部(714)，用于减少所述透镜设备的相对于所述照明结构(712)的遮蔽效应。
13.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中，至少一个光源通过脉冲宽度或脉冲密度调制来控制。
14.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中，所述照明结构包含塑料或玻璃材料或者基本由塑料或玻璃材料组成。
15.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中，所述设备被配置为确定目标对象的至少一个与表面相关的性能，所述至少一个与表面相关的性能选自由表面方向、在经测量的表面性能中例如在表面方向的表示中的空间断裂、表面形状、表面尺寸、对象尺寸、对象大小以及对象体积构成的组。
16.根据前述权利要求中任一项所述的设备，被配置为应用至少一个优选地周期性的照明图案，所述周期性的照明图案包括线性强度斜坡或者诸如具有正弦改变的强度的正弦条纹图案的正弦图案。
17.根据前述权利要求中任一项所述的设备，被配置为应用至少四个优选地至少六个照明图案的序列，以优选地为每个成像装置至少获得相应数量的图像，用于确定期望的表面性能。
18.根据前述权利要求中任一项所述的设备，被配置为应用光度立体照明图案和成像，用于测量目标物体的散射表面的诸如潜在地表示表面缺陷的断裂的预定表面性能。
19.根据前述权利要求中任一项所述的设备，包括作为至少一个光源的投影仪装置。
20.—种用于光学测量目标对象的表面的方法,包括: 获得(504)限定空心表面形状优选弯曲表面形状的漫射半透明照明结构，所述漫射半透明照明结构被配置为至少部分包围所述目标对象，优选地至少大致半球状地包围所述目标对象，所述表面进一步配备有优选大致针孔状并且可选地配备有透镜的至少两个光圈，其中，若干光源光学耦合至所述照明结构，用于通过所述照明结构的所述表面照亮所述目标对象， 获得(504，506)至少两个成像装置，每个所述成像装置都被配置为通过所述至少两个光圈中的光圈对所述目标对象成像， 控制(508，510)所述多个光源，以在所述照明结构的所述表面上形成预定的照明图案的图像序列，以便使用通过所述表面投射的所述图案照亮所述目标对象，并且指示所述至少两个成像装置获得所述目标对象的相对于每个照明图案的图像，以及 通过利用所利用的所述图案以及所获得的图像，获得(512)所述目标对象的诸如形状和/或尺寸或者至少形状和/或尺寸的一部分的预定的与表面相关的性能。
21.一种包括代码装置的计算机程序，适于在计算机设备上运行时，其适合于与测量设备对目标对象的表面的分析相结合，执行根据权利要求20所述的控制和获得的条目，其中，限定空心表面形状优选弯曲表面形状的漫射半透明照明结构被配置为至少部分包围所述目标对象，优选地至少大致半球状地包围所述目标对象，所述表面进一步配备有至少两个大致针孔状光圈，进一步地，其中，若干光源光学耦合至该漫射照明结构，用于通过所述照明结构的表面照亮所述目标对象，并且其中，至少两个成像装置被配置为通过所述至少两个光圈中的对应光 圈对所述目标对象成像。
22.—种承载介质，例如存储卡、存储棒或光盘，被配置为包含根据权利要求21所述的计算机程序。
【文档编号】G01B11/245GK104040287SQ201280066177
【公开日】2014年9月10日 申请日期:2012年12月20日 优先权日:2012年1月5日
【发明者】海莫·凯雷宁, 彼得里·莱赫托宁 申请人:合欧米成像公司