光学设备标准检测仪的制作方法

文档序号:10156694阅读:461来源:国知局
光学设备标准检测仪的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种可作为棱镜(包括平镜)、透镜和其他光学材料(如晶体材料)的标准检测仪器,尤其涉及一种光学设备标准检测仪,属于光学检测设备领域。
【背景技术】
[0002]干涉现象是光的波动性的最严格、最有效的证明,这个现象是由于两束或多束光的重叠,使能量体密度在空间上规则分布的结果。光干涉测量方法作为检测高精密光学元件和系统的最传统、有效手段之一,已大量的应用于科学研究与工业生产之中。在实际使用过程中,现阶段干涉仪大多采用激光器作为照明光源,而激光器具有极强的时间和空间相干性,因此,在干涉检测过程中,并不需要考虑干涉腔长的限制,就可以使干涉条纹具有良好的对比度,并且随着电子与计算机技术的发展,产生的位相干涉检测技术,使测量极限由传统的λ/10提高了一个数量级以上,且具有很高的重复性。然而,正是由于激光具有的高度相干性,它虽然降低了干涉仪的使用难度,但由于光学干涉的极端灵敏性,在光学元件加工过程中产生的微观坑点等缺陷与元件表面污染所产生的散射光会发生相干叠加,在干涉图中会出现许多牛眼环或靶心等相干噪声,它们在一定程度上改变了干涉图的空间结构,从而引起了被测面面型或波前形状的测量误差。
【实用新型内容】
[0003]为了克服现有技术的不足,解决好现有技术的问题,弥补现有目前市场上现有产品的不足。
[0004]本实用新型提供了一种光学设备标准检测仪,主要包括光源、第一透镜、分光镜、第一反射镜、第二反射镜和第二透镜,其中,分光镜设置在中间位置,第一透镜、第一反射镜、第二反射镜和第二透镜分别设置在分光镜的四周,第一透镜和第二反射镜设置在光源的发射方向,第一反射镜和第二透镜设置在垂直光源的发射方向上。
[0005]优选的,光源为高相干性的激光光源。
[0006]优选的,上述第一透镜和第二透镜为准直透镜。
[0007]优选的,上述分光镜与第一透镜和第二反射镜形成一定的倾斜角度设置。
[0008]优选的,上述分光镜上贴设有半反半透膜。
[0009]优选的,上述待测光学元件设置在第二反射镜的前侧。
[0010]本实用新型提供的光学设备标准检测仪可作为棱镜(包括平镜)、透镜和其他光学材料(如晶体材料)的标准检测仪器,测量精度高,其测量形式灵活多样。
【附图说明】
[0011]图1为本实用新型结构示意图。
[0012]附图标记:1-光源;2_第一透镜;3_分光镜;4_待测光学元件;5_第一反射镜;6-第二反射镜;7_第二透镜;8_相干干涉面。
【具体实施方式】
[0013]为了便于本领域普通技术人员理解和实施本实用新型,下面结合附图及【具体实施方式】对本实用新型作进一步的详细描述。
[0014]当光源S不是扩展光源,而是以点光源经透镜准直形成平面波时,就构成了本实用新型提供的光学设备标准检测仪,如图1所示。由于入射波是平面波,故呈等厚干涉,得到的是明暗相间的平行干涉条纹族。测量臂中置入待测光学元件或光学材料,则根据干涉条纹的弯曲情况既可形象又可严格定量的给出待测光学元件的加工精度或光学材料的不均匀性,或者其他光学参数。
[0015]如图1所示,本实用新型提供的光学设备标准检测仪,主要包括光源1、第一透镜
2、分光镜3、第一反射镜5、第二反射镜6和第二透镜7,其中,分光镜3设置在中间位置,第一透镜2、第一反射镜5、第二反射镜6和第二透镜7分别设置在分光镜3的四周,第一透镜2和第二反射镜6设置在光源1的发射方向,第一反射镜5和第二透镜7设置在垂直光源1的发射方向上。
[0016]其中,光源1为高相干性的激光光源。第一透镜2和第二透镜7为准直透镜。分光镜3与第一透镜2和第二反射镜6形成一定的倾斜角度设置。分光镜3上贴设有半反半透膜。待测光学元件4设置在第二反射镜6的前侧。
[0017]其工作原理是:光源1发出的光经过第一透镜2准直后成为平行光,再经过分光镜3后分成两束,一束经过待测元件4到达第二反射镜6后反射,另一束经过第一反射镜5后再反射回来再经过分光镜3透射后到达第二透镜7,在相干干涉面8上形成干涉。
[0018]本实用新型提供的光学设备标准检测仪,由于采用相干性能优良的激光光源,并应用干涉图的计算机图像处理技术,可把其测量的精度提高到λ/50,特别是采用外差干涉技术,可使测量的精度达到λ/100。本实用新型提供的光学设备标准检测仪可作为棱镜(包括平镜)、透镜和其他光学材料(如晶体材料)的标准检测仪器,其测量形式灵活多样。
[0019]以上所述之【具体实施方式】为本实用新型的较佳实施方式,并非以此限定本实用新型的具体实施范围,本实用新型的范围包括并不限于本【具体实施方式】,凡依照本实用新型之形状、结构所作的等效变化均在本实用新型的保护范围内。
【主权项】
1.一种光学设备标准检测仪,其特征在于:所述检测仪主要包括光源(1)、第一透镜(2)、分光镜(3)、第一反射镜(5)、第二反射镜(6)和第二透镜(7),其中,分光镜(3)设置在中间位置,第一透镜(2)、第一反射镜(5)、第二反射镜(6)和第二透镜(7)分别设置在分光镜(3)的四周,第一透镜(2)和第二反射镜(6)设置在光源(1)的发射方向,第一反射镜(5)和第二透镜(7)设置在垂直光源(1)的发射方向上。2.根据权利要求1所述的光学设备标准检测仪,其特征在于:光源(1)为高相干性的激光光源。3.根据权利要求1所述的光学设备标准检测仪,其特征在于:所述第一透镜(2)和第二透镜(7)为准直透镜。4.根据权利要求2所述的光学设备标准检测仪,其特征在于:所述分光镜(3)与第一透镜(2)和第二反射镜(6)形成一定的倾斜角度设置。5.根据权利要求1所述的光学设备标准检测仪,其特征在于:所述分光镜(3)上贴设有半反半透膜。6.根据权利要求1-5之一所述的光学设备标准检测仪,其特征在于:待测光学元件(4)设置在第二反射镜出)的前侧。
【专利摘要】本实用新型涉及一种光学设备标准检测仪,主要包括光源(1)、第一透镜(2)、分光镜(3)、第一反射镜(5)、第二反射镜(6)和第二透镜(7),其中,分光镜(3)设置在中间位置,第一透镜(2)、第一反射镜(5)、第二反射镜(6)和第二透镜(7)分别设置在分光镜(3)的四周,第一透镜(2)和第二反射镜(6)设置在光源(1)的发射方向,第一反射镜(5)和第二透镜(7)设置在垂直光源(1)的发射方向上。本实用新型提供的光学设备标准检测仪可作为棱镜(包括平镜)、透镜和其他光学材料(如晶体材料)的标准检测仪器,测量精度高,其测量形式灵活多样。
【IPC分类】G01M11/02
【公开号】CN205067057
【申请号】CN201520276286
【发明人】林燕彬
【申请人】林燕彬
【公开日】2016年3月2日
【申请日】2015年4月27日
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