专利名称：测量装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及光刻掩模版制作领域，尤其涉及一种测量装置。
背景技术：
在半导体的光刻领域中，需要使用一种专用掩模板。请参阅图1，该专用掩模板包括掩模板本体11和两块导向块12，所述两块导向块12分别设置于所述掩模板的同侧的两端，每个所述导向块12块分别沿所述掩模板本体11的纵向和横向凸出，所述两块导向块12起到导向作用，使得该特制研磨板与其光刻机相匹配安装，所述掩模板本体11的表面上设有两个掩模板测量部13,两个掩模板测量部13与所述两块导向块12 对应。两块导向块12的设置位置对于该专用研磨板来说是非常关键的。如果两块导向块12的位置设置不合理，该专用掩模板将无法安装至光刻机中。因此，制造该专用掩模板时，需要测量导向块12上沿掩模板本体11的横向凸出的侧面至对应的掩模板测量部13的距离yl、y2,然后通过公式1000* (yl-y2)/100计算出该专用掩模板上导向块12的倾斜度。如果测量出来的倾斜度超出允许范围，就意味着该专用掩模板不能在该光刻机中安装并运行。现有的测量方法是:直接通过显微镜测量导向块12上沿掩模板本体11的横向凸出的侧面至对应的掩模板测量部13的距离yl、y2。但是，由于导向块12上沿掩模板本体11的横向凸出的侧面是外凸的曲面，使得这种测量方法所测得结果的精确度低且不稳定，故，经常出现由于测量失误使得应该修整的专用掩模板流通出去导致客户抱怨和退货的情况。因此，如何提供一种测量精度更高、更方便的测量装置是本领域技术人员亟待解决的一个技术问题。·
实用新型内容本实用新型的目的在于提供一种测量装置，可以精确获知导向块上沿掩模板本体的横向凸出的侧面至对应的掩模板测量部的距离yl、y2，提高专用掩模板的测量精度和测
量效率。为了达到上述的目的，本实用新型采用如下技术方案:一种测量装置，包括底座、测量辅助板、两块间隔设置的第一限位块和一块第二限位块，所述测量辅助板铺设于所述底座上，所述测量辅助板的一个表面上设间隔设有两个辅助测量部，所述辅助测量部与所述第一限位块一一对应，所述第二限位块的工作面与其中一块第一限位块的工作面垂直相交。优选的，在上述的测量装置中，所述测量辅助板和底座之间设有第一垫块。优选的，在上述的测量装置中，所述底座上还设有用于支撑被测掩模板的第二垫块。 优选的，在上述的测量装置中，所述辅助测量部呈“丰”字型。[0012]本实用新型提供的测量装置，包括底座、测量辅助板、两块间隔设置的第一限位块和一块第二限位块，所述测量辅助板铺设于所述底座上，所述测量辅助板的一个表面上间隔设有两个辅助测量部，所述辅助测量部与所述第一限位块一一对应，所述第二限位块的工作面与其中一块第一限位块的工作面垂直相交。在测量的时候，将专用掩模板平放在底座上，使得，两块导向块上沿掩模板本体横向凸出的侧面抵在所述第一限位块的工作面上，一块导向块上沿掩模板本体纵向凸出的侧面抵在所述第二限位块的工作面上，测量辅助测量部与对应的掩模板测量部之间的距离Yl、Y2，然后将该距离Yl、Y2减去对应的测量辅助测量部与对应的第一限位块的工作面之间的距离A1、A2(此为测量装置的固定参数，从厂家那里可以直接获得)，即可以精确获知导向块上沿掩模板本体的横向凸出的侧面至对应的掩模板测量部的距离yl、y2，最后，根据通过公式1000*(yl-y2)/100计算出该专用掩模板上导向块的倾斜度，由此，实现了专用掩模板的精确测量。
本实用新型的测量装置由以下的实施例及附图给出。图1是专用掩模板的结构示意图(俯视图)；图2是本实用新型一实施例的测量装置的结构示意图(俯视图)；图3是本实用新型一实施例的测量装置测量专用掩模板的使用状态示意图(俯视图)。图中，11-掩模板本体、12-导向块、13-掩模板测量部、21-底座、22-测量辅助板、23-第一限位块、24-第二限位块、25-辅助测量部、26-第一垫块、27-第二垫块。·具体实施方式
为使本实用新型的目的、特征更明显易懂，
以下结合附图对本实用新型的具体实施方式
作进一步的说明。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比率，仅用以方便、明晰地辅助说明本实用新型实施例的目的。请参阅图2，并请结合图1，一种测量装置，用于测量专用掩模板，所述测量装置包括底座21、测量辅助板22、两块间隔设置的第一限位块23和一块第二限位块24，所述测量辅助板22铺设于所述底座21上，所述测量辅助板22的一个表面上间隔设有两个辅助测量部25，所述辅助测量部25与所述第一限位块23 —一对应，所述第二限位块24的工作面与其中一块第一限位块23的工作面垂直相交。如图1所示，该专用掩模板包括掩模板本体11和两块导向块12，所述两块导向块12分别设置于所述掩模板的同侧的两端，每个所述导向块12块分别沿所述掩模板本体11的纵向和横向凸出，所述两块导向块12起到导向作用，使得该特制研磨板和其专用的光刻机相匹配安装，所述掩模板本体11的表面上设有两个掩模板测量部13,两个掩模板测量部13与所述两块导向块12 对应。在测量的时候，请参阅图3，并请结合图1和图2，将专用掩模板平放在底座21上，使得，两块导向块12上沿掩模板本体11横向凸出的侧面抵在所述第一限位块23的工作面上，一块导向块12上沿掩模板本体11纵向凸出的侧面抵在所述第二限位块24的工作面上，测量辅助测量部25与对应的掩模板测量部13之间的距离Yl、Y2，然后将该距离Y1、Y2减去对应的测量辅助测量部25与对应的第一限位块23的工作面之间的距离A1、A2 (此为测量装置的固定参数，从厂家那里可以直接获得)，即可以精确获知导向块12上沿掩模板本体11的横向凸出的侧面至对应的掩模板测量部13的距离yl、y2，最后，根据通过公式1000*(yl-y2)/100计算出该专用掩模板上导向块12的倾斜度，由此，实现了专用掩模板的精确测量。优选的，在上述的测量装置中，所述测量辅助板22和底座21之间设有第一垫块26。通过设置第一垫块26，可以使得测量辅助板22和底座21更加平稳的连接。优选的，在上述的测量装置中，所述底座21上还设有用于支撑被测掩模板即专用掩模板的第二垫块27。所述第二垫块27的数量例如为两块。通过设置第二垫块27，可以使得被测掩模板在测量时，受到平稳的支撑，提高测量精度。优选的，在上述的测量装置中，所述辅助测量部25优选呈“丰”字型，以便于测量。综上所述，本实用新型提供的测量装置，包括底座、测量辅助板、两块间隔设置的第一限位块和一块第二限位块，所述测量辅助板铺设于所述底座上，所述测量辅助板的一个表面上设间隔设有两个辅助测量部，所述辅助测量部与所述第一限位块一一对应，所述第二限位块的工作面与其中一块第一限位块的工作面垂直相交，在测量的时候，将专用掩模板平放在底座上，使得，两块导向块上沿掩模板本体横向凸出的侧面抵在所述第一限位块的工作面上，一块导向块上沿掩模板本体纵向凸出的侧面抵在所述第二限位块的工作面上，测量辅助测量部 与对应的掩模板测量部之间的距离Y1、Y2，然后将该距离Υ1、Υ2减去对应的测量辅助测量部与对应的第一限位块的工作面之间的距离Al、Α2 (此为测量装置的固定参数，从厂家那里可以直接获得)，即可以精确获知导向块上沿掩模板本体的横向凸出的侧面至对应的掩模板测量部的距离yl、y2，最后，根据通过公式1000*(yl-y2)/100计算出该专用掩模板上导向块的倾斜度，由此，实现了专用掩模板的精确测量。显然，本领域的技术人员可以对本实用新型进行各种改动和变型而不脱离本实用新型的精神和范围。这样，倘若本实用新型的这些修改和变型属于本实用新型权利要求及其等同技术的范围之内，则本实用新型也意图包含这些改动和变型在内。
权利要求1.一种测量装置，其特征在于，包括底座、测量辅助板、两块间隔设置的第一限位块和一块第二限位块，所述测量辅助板铺设于所述底座上，所述测量辅助板的一个表面上设有两个辅助测量部，所述辅助测量部与所述第一限位块一一对应，所述第二限位块的工作面与其中一块第一限位块的工作面垂直相交。
2.根据权利要求1所述的测量装置，其特征在于，所述测量辅助板和底座之间设有第一垫块。
3.根据权利要求1所述的测量装置，其特征在于，所述底座上还设有用于支撑被测掩模板的第二垫块。
4.根据权利 要求1所述的测量装置，其特征在于，所述辅助测量部呈“丰”字型。
专利摘要本实用新型公开了一种测量装置，包括底座、测量辅助板、两块间隔设置的第一限位块和一块第二限位块，所述测量辅助板铺设于所述底座上，所述测量辅助板的一个表面上设有两个辅助测量部，所述辅助测量部与所述第一限位块一一对应，所述第二限位块的工作面与其中一块第一限位块的工作面垂直相交。在测量的时候，先测量辅助测量部与对应的掩模板测量部之间的距离Y1、Y2，再将该距离Y1、Y2减去对应的测量辅助测量部与对应的第一限位块的工作面之间的距离A1、A2，即可以获知导向块上沿掩模板本体的横向凸出的侧面至对应的掩模板测量部的距离y1、y2，最后计算出该专用掩模板上导向块的倾斜度，由此，实现了专用掩模板的精确测量。
文档编号G01B21/16GK203100717SQ201320061818
公开日2013年7月31日 申请日期2013年2月1日 优先权日2013年2月1日
发明者姜巍 申请人:中芯国际集成电路制造(北京)有限公司