本实用新型涉及一种水分测定仪，更具体地说，涉及一种卤素快速水分测定仪。
背景技术：
传统的水分测定一般时采用烘箱干燥法，一个样品的测试需要两三个甚至三四个小时，而且还需要通过天平称重、人工计算，才能得出样品的水分值，测定效率低，不够适应高节奏的企业生产需要。
技术实现要素：
本实用新型要解决的技术问题在于，针对现有技术的上述缺陷，提供一种卤素快速水分测定仪。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：构造一种卤素快速水分测定仪，该测定仪包括下本体、以及与该下本体可转动连接并用于盖住该下本体顶端表面的上盖体，该下本体顶端表面设有用于盛放样品的电子称重托盘、以及设置于该下本体顶端表面上围住该电子称重托盘的第一环形护栏，该下本体内设有与该电子称重托盘电连接的控制芯片，该下本体侧表面还设有与该控制芯片电连接的显示屏及控制面板；该上盖体内设有可盖住该电子称重托盘和第一环形护栏的加热腔，该加热腔包括第二环形护栏、设置于该第二环形护栏内的第一卤素环状加热灯、设置于该第二环形护栏内的第二卤素环状加热灯、以及设置于该第二环形护栏表面用于罩住该第一卤素环状加热灯和第二卤素环状加热灯的第一玻璃保护罩、设置于该第二环形护栏底面用于罩住该第一卤素环状加热灯和第二卤素环状加热灯的第二玻璃保护罩，该第一玻璃保护罩中部设有第一通孔、该第二玻璃保护罩中部设有与该第一通孔位置对应的第二通孔，该加热腔内还设有与该控制芯片电连接的温度传感器。
在本实用新型所述的卤素快速水分测定仪中，该下本体内还设有与该控制 芯片电连接的定时模块。
在本实用新型所述的卤素快速水分测定仪中，该第一卤素环状加热灯和第二卤素环状加热灯分别与该控制芯片电连接。
在本实用新型所述的卤素快速水分测定仪中，该下本体与该上盖体第一端通过转轴可转动连接，该下本体与该上盖体第二端设有连接该下本体与该上盖体第二端的卡合装置。
在本实用新型所述的卤素快速水分测定仪中，该上盖体表面设有供用户转动开启该上盖体的握把。
实施本实用新型的卤素快速水分测定仪，具有以下有益效果：使用本实用新型的卤素快速水分测定仪时，可将样品放置于电子称重托盘内，称取并记录初始重量，然后将上盖体盖设于下本体上，加热腔内的第一卤素环状加热灯和第二卤素环状加热灯开始对样品进行快速加热，待加热完成后，电子称重托盘再次称取样品的最终重量，控制芯片根据初始重量和最终重量计算出水分值并将水分值在显示屏上进行显示，用户即可读取到该样品的水分值。
附图说明
下面将结合附图及实施例对本实用新型作进一步说明，附图中：
图1是本实用新型卤素快速水分测定仪的结构示意图。
具体实施方式
为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本实用新型实施方式作进一步地详细描述。
如图1所示，在本实用新型的卤素快速水分测定仪第一实施例中，该测定仪1包括下本体2、以及与该下本体2可转动连接并用于盖住该下本体2顶端表面的上盖体3，该下本体2顶端表面设有用于盛放样品的电子称重托盘4、以及设置于该下本体2顶端表面上围住该电子称重托盘4的第一环形护栏5，该下本体2内设有与该电子称重托盘4电连接的控制芯片，该下本体2侧表面还设有与该控制芯片电连接的显示屏12及控制面板13；该上盖体3内设有可 盖住该电子称重托盘4和第一环形护栏5的加热腔6，该加热腔6包括第二环形护栏7、设置于该第二环形护栏7内的第一卤素环状加热灯8、设置于该第二环形护栏7内的第二卤素环状加热灯9、以及设置于该第二环形护栏7表面用于罩住该第一卤素环状加热灯8和第二卤素环状加热灯9的第一玻璃保护罩、设置于该第二环形护栏7底面用于罩住该第一卤素环状加热灯8和第二卤素环状加热灯9的第二玻璃保护罩，该第一玻璃保护罩中部设有第一通孔、该第二玻璃保护罩中部设有与该第一通孔位置对应的第二通孔10，该加热腔6内还设有与该控制芯片电连接的温度传感器11。
使用本实用新型的卤素快速水分测定仪1时，可将样品放置于电子称重托盘4内，称取并记录初始重量，然后将上盖体3盖设于下本体2上，加热腔6内的第一卤素环状加热灯8和第二卤素环状加热灯9开始对样品进行快速加热，待加热完成后，电子称重托盘4再次称取样品的最终重量，控制芯片根据初始重量和最终重量计算出水分值并将水分值在显示屏12上进行显示，用户即可读取到该样品的水分值。
进一步的，该下本体2内还设有与该控制芯片电连接的定时模块。
进一步的，该第一卤素环状加热灯8和第二卤素环状加热灯9分别与该控制芯片电连接。
进一步的，该下本体2与该上盖体3第一端通过转轴可转动连接，该下本体2与该上盖体3第二端设有连接该下本体2与该上盖体3第二端的卡合装置。优选的，该卡合装置包括设置于上盖体上的卡勾、以及设置于下本体供该卡勾卡入的扣孔。
进一步的，该上盖体3表面设有供用户转动开启该上盖体3的握把。
以上所述仅为本实用新型的实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。