技术特征：
技术总结
在一个一般方面中，一种设备可包含：第一激光子系统，其经配置以在一时间处将第一激光束发射到物体上的第一位置处；及第二激光子系统，其经配置以在所述时间处将第二激光束发射到所述物体上的第二位置处。所述设备可包含分析器，所述分析器经配置以基于响应于所述第一激光束从所述物体反射的第一所反射激光束而计算第一速度。所述分析器可经配置以基于响应于所述第二激光束从所述物体反射的第二所反射激光束而计算第二速度。所述第一位置可由所述第一激光子系统定为目标且所述第二位置可由所述第二激光子系统定为目标，使得所述第一速度与所述第二速度基本上相同。
技术研发人员：理查德·赛巴斯汀
受保护的技术使用者：DSCG史罗轩公司
技术研发日：2016.01.13
技术公布日：2017.10.13