本实用新型涉及一种均质器，更具体的说，它涉及一种带托盘的全自动均质器。
背景技术：
随着生物医药、石油化工、食品工业等领域的发展，越来越多的运用到均质器。而实验仪器行业的发展，也为上述行业的实验室提供了多种多样不同功能的均质器。
均质器的工作原理为：均质仪由高速电机和均质工具组成,均质工具由旋转杆、转子、定子和套筒精密构成，转子和定子锻件制造，呈爪式结构；工作时，将均质工具渗入到样品里，通过转子高速平稳的旋转，形成高频、强烈的圆周切线速度、角向速度等综合动能效能，将溶液吸入，再从定子的缝隙里挤压摔出。在定、转子合理狭窄的间隙中形成强烈、往复的液力剪切、摩擦、离心挤压、液流碰撞等综合效应。将实验样本破碎、与溶液或溶剂混合均匀。
按其均质器的工作方式可分为以下三类：
1、超声波破碎均质器
该类型的均质器主要用于各种组织捣碎/细胞裂解、细胞器、核酸、蛋白的提取，以及其他工业样品的乳化、均质。其优点是：使用方便，通过更换不同的探头，可以处理不同量的样品；乳化、均质效果好，适合单样品操作。对有特殊要求的生物样品具有一定的影响性。
2、探头旋刃式均质器
该类型是通过研磨杵在均质器内转动，达到分离、混匀、破碎、均质的目的，适合处理韧性强的样品。用于分散动物/植物组织，配合裂解液做核酸、蛋白等的抽提，也可用于工业上树脂、色素制造悬浮/乳浊液等。该类型的均质器的主要优点：具有低速、扭力大、无噪音等特点。使用方便，通过更换不同的探头，可以处理不同量的样品，操作简便，更适合单样品操作。缺点：不能同时处理多个样品，不同样品需要更换或清洗探头，增加样品间交叉污染的机会；对于细菌、酵母及其他真菌等厚壁样品的处理不考虑该类均质器。
3、拍击式均质器(也叫敲打式均质器、研磨珠均质器)
拍击式均质器通过捶击板不停地在袋上捶击。产生的压力可将袋中的物质击碎混匀。研磨珠均质器是将样品和相应的珠子放到试管里通过三维高速旋转、振动，靠研磨珠的高速敲打方式对样品进行研磨、均质将样品打碎，适用范围广。用于动物和植物组织、藻类、细菌、酵母、真菌或霉菌以及各类孢子体的破碎，DNA/RNA、蛋白的提取。其优点是能够高效地处理包括骨头、孢子、土壤等在内的顽固样品，均质器的每一个均质杯都带有一把均质刀可以避免交叉污染，操作简便、高效。处理脆性样品较好，缺点是不能处理大体积样品，单个样品单次处理量一般小于1.5ml，耗材和设备投入较高。
但是现在市面上无论哪种均质仪都没有一种防残留液体滴落交叉污染结构，在将均质分散、匀浆装置从样品瓶中提起移动时，均质分散、匀浆装置上的残留液体往往会滴落到其它样品瓶造成交叉污染。
技术实现要素：
针对现有技术存在的不足，本实用新型的目的在于提供一种带托盘的全自动均质器。
为实现上述目的，本实用新型提供了如下技术方案：一种带托盘的全自动均质器，其特征在于，所述带托盘的全自动均质器包括：
一均质仪本体；
一设置在所述均质仪本体上、能够沿着所述均质仪本体相对滑动的均质分散、匀浆组件；
一设置在所述均质分散、匀浆组件上、用于防止所述均质分散、匀浆组件上的残留液体滴落污染其他样品的防残留液体滴落交叉污染组件。
优选为，所述均质分散、匀浆组件包括：
一设置在所述均质仪本体上、横向设置的滑轨；
一设置在所述滑轨上、通过驱动装置控制进行横向移动的滑座；
一设置在所述滑座上、纵向设置的第二滑轨；
一设置在所述第二滑轨上、通过第二驱动装置控制进行纵向移动的均质分散、匀浆装置。
一与所述驱动装置、第二驱动装置、搅拌装置、防残留液体滴落交叉污染组件相连接、用于总控制的控制器。
优选为，所述均质分散、匀浆装置包括：
一与所述第二滑轨相配合连接的电机安装座；
一设置在所述电机安装座上、用于均质分散、匀浆的若干电机；
与所述电机传动连接、用于均质分散、匀浆的刀头组件；
所述刀头组件包括：
一与电机相连接的刀头安装装置；
一与所述刀头安装装置连接的刀头。
优选为，所述防残留液体滴落交叉污染组件包括：
一设置在所述滑块上、横向设置的第三滑轨；
一设置在所述第三滑轨上、通过第三驱动装置横向移动的托盘；
所述第三驱动装置与控制器相连接。
优选为，所述控制器包括：
一与所述驱动装置、第二驱动装置、第三驱动装置、均质分散、匀浆装置相连接的控制模块；
一与所述控制模块相连接、用于输入设置命令的控制面板。
优选为，所述带托盘的全自动均质器还包括：
一设置在所述均质仪本体一侧、用于均质分散、匀浆装置清洗的清洗槽；
所述清洗槽包括：清水清洗槽、有机溶剂清洗槽以及超声波清洗槽。
本实用新型具有下述优点：本实用新型包括一均质仪本体；一设置在所述均质仪本体上、能够沿着所述均质仪本体相对滑动的均质分散、匀浆组件；一设置在所述均质分散、匀浆组件上、用于防止所述均质分散、匀浆组件上的残留液体滴落污染其他样品的防残留液体滴落交叉污染组件；采用以上设计，当均质分散、匀浆组件从一个样品瓶上方移动到另一个样品瓶上方时，均质分散、匀浆装置上的残留液体就可以通过防残留液体滴落交叉污染组件进行收集，避免残留液体滴落造成交叉污染。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
下面详细描述本发明的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本发明，而不能理解为对本发明的限制。
在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
在本发明中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
在本发明中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
参照图1所示，本实施例的一种带托盘8的全自动均质器，其特征在于，所述带托盘8的全自动均质器包括：
一均质仪本体1；
一设置在所述均质仪本体1上、能够沿着所述均质仪本体1相对滑动的均质分散、匀浆组件；
一设置在所述均质分散、匀浆组件上、用于防止所述均质分散、匀浆组件上的残留液体滴落污染其他样品的防残留液体滴落交叉污染组件。
本实施例在使用时，当均质分散、匀浆组件从试剂或者液体样品提起横向移动时，为了避免残留液体滴落污染其他样品，在均质分散、匀浆组件下方设置一防残留液体滴落交叉污染组件，将滴落的液体进行回收，避免进行交叉污染。
所述均质分散、匀浆组件包括：
一设置在所述均质仪本体1上、横向设置的滑轨2；
一设置在所述滑轨2上、通过驱动装置(图中未标出)控制进行横向移动的滑座3；
一设置在所述滑座3上、纵向设置的第二滑轨4；
一设置在所述第二滑轨4上、通过第二驱动装置(图中未标出)控制进行纵向移动的均质分散、匀浆装置。
一与所述驱动装置(图中未标出)、第二驱动装置(图中未标出)、均质分散、匀浆装置、防残留液体滴落交叉污染组件相连接、用于总控制的控制器(图中未标出)。
这里需要说明的是，因为样品瓶之间的距离较小，要控制滑座3横向移动这么小的距离，为了方便控制，驱动控制装置为伺服电机，同样的，均质分散、匀浆装置的纵向移动也需要精确控制其距离，所以第二驱动装置(图中未标出)也为伺服电机，通过控制器(图中未标出)精确控制其转动转数，达到距离的精确控制。
在实际操作中，需要在控制器(图中未标出)上设置好驱动装置(图中未标出)、第二驱动装置(图中未标出)以及均质分散、匀浆装置的工作顺序，且需要设置好驱动装置(图中未标出)、第二驱动装置(图中未标出)的转动转数，以及均质分散、匀浆装置的转动时间与转动速度。
当开始操作时，首先控制器(图中未标出)需要将均质分散、匀浆组件复位到初始位置，初始位置可以自己设定，一般设置在第一组试剂管正上方，此时，控制器(图中未标出)控制第二驱动装置(图中未标出)向下运动，通过精确控制，使其插入到样品管内，且不与样品管底部相接触，同时控制均质分散、匀浆装置转动，当均质分散、匀浆转动时间达到控制器(图中未标出)设定的时间后，停止转动，第二驱动装置(图中未标出)向上运动到设定好的距离，当到位后，防残留液体滴落交叉污染组件根据控制器(图中未标出)设定好的距离进行移动，移动到均质分散、匀浆组件下方时，停止转动，此时驱动组件工作，根据设定好的命令进行移动，当移动到下一个工作位置正上方后，防残留液体滴落交叉污染组件根据控制器(图中未标出)设定的命令移动，从均质分散、匀浆组件正下方移开，此时第二驱动组件再次工作，循环上述过程。
所述均质分散、匀浆装置包括：
一与所述第二滑轨4相配合连接的电机安装座5；
一设置在所述电机安装座5上、用于均质分散、匀浆的若干电机；
与所述电机传动连接、用于均质分散、匀浆的刀头7组件；
所述刀头7组件包括：
一与电机相连接的刀头7安装杆6；
一与所述刀头7安装杆6固定连接的刀头7。
所述防残留液体滴落交叉污染组件包括：
一设置在所述滑块上、横向设置的第三滑轨(图中未标出)；
一设置在所述第三滑轨(图中未标出)上、通过第三驱动装置(图中未标出)横向移动的托盘8；
所述第三驱动装置(图中未标出)与控制器(图中未标出)相连接。
所述控制器(图中未标出)包括：
一与所述驱动装置(图中未标出)、第二驱动装置(图中未标出)、第三驱动装置(图中未标出)、均质分散、匀浆装置相连接的控制模块；
一与所述控制模块相连接、用于输入设置命令的控制面板。
所述带托盘的全自动均质器还包括：
一设置在所述均质仪本体一侧、用于均质分散、匀浆装置清洗的清洗槽；
所述清洗槽包括：清水清洗槽9、有机溶剂清洗槽10以及超声波清洗槽11。
以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，本实用新型的保护范围并不仅局限于上述实施例，凡属于本实用新型思路下的技术方案均属于本实用新型的保护范围。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理前提下的若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。