1.一种γ辐射场剂量检定用调控架，其特征在于:所述的调控架包括平衡嵌卡控制端（1）、水平固定板Ⅰ（2）、侧方位固定板Ⅰ（3）、滑动凹槽Ⅰ（41）、滑动凹槽Ⅱ（42）、磁吸嵌卡板（5）、脚架(6)，其中，所述的平衡嵌卡控制端(1)含有嵌卡棒(11)、嵌卡台(12)、气泡水平仪(13)、调控座(14)、手柄(15)，所述的脚架(6)含有支架Ⅰ、支架Ⅱ、支架Ⅲ；
其连接关系是，所述的平衡嵌卡控制端（1）顶部设置有嵌卡棒（11），嵌卡棒(11)的下方依次设置有嵌卡台（12）、调控座（14），所述的嵌卡台（12）上部通过螺钮与嵌卡棒（11）连接，嵌卡台（12）下部通过螺钮与调控座（14）连接；所述的气泡水平仪（13）位于嵌卡台（12）的下方，并嵌入调控座（14）一侧，手柄（15）固定连接在调控座（14）另一侧；
所述的水平固定板Ⅰ（2）位于调控座（14）底部，并通过调控座（14）底部的吸磁铁固定，水平固定板Ⅰ（2）的侧边对应设置有侧方位固定板Ⅰ（3）、侧方位固定板Ⅱ，水平固定板Ⅰ（2）与侧方位固定板Ⅰ（3）、侧方位固定板Ⅱ分别固定连接，水平固定板Ⅰ（2）的下方设置有滑动凹槽Ⅰ（41），水平固定板Ⅰ（2）与滑动凹槽Ⅰ（41）滑动连接；
所述的滑动凹槽Ⅰ（41）的下方设置有水平固定板Ⅱ（21），滑动凹槽Ⅰ（41）与水平固定板Ⅱ（21）滑动连接，水平固定板Ⅱ（21）的侧边对应设置有侧方位固定板Ⅲ（31）、侧方位固定板Ⅳ，水平固定板Ⅱ（21）与侧方位固定板Ⅲ、侧方位固定板Ⅳ分别固定连接；水平固定板Ⅱ（21）的下方设置有滑动凹槽Ⅱ（42），水平固定板Ⅱ（21）与滑动凹槽Ⅱ（42）滑动连接；
磁吸嵌卡板（5）固定在滑动凹槽Ⅱ（42）底部，脚架（6）的顶部通过磁吸嵌卡板（5）与滑动凹槽Ⅱ（42）相连接；
所述的脚架（6）上端沿中心轴线设置有一圆盘，在圆盘上均匀活动连接有支架Ⅰ、支架Ⅱ、支架Ⅲ，其中，支架Ⅰ包括两根滑杆Ⅰ（61）、两根滑杆Ⅱ（62）、一根滑杆Ⅲ（63）；所述的支架Ⅰ的中心设置有滑杆Ⅲ（63），两根滑杆Ⅱ（62）分别设置在滑杆Ⅲ（63）两侧，两根滑杆Ⅰ（61）分别设置在两根滑杆Ⅱ（62）两侧；三角支撑带（65）通过安装在支架Ⅰ上的活动钮扣(64)为支撑点设置在脚架(6)内侧，支架Ⅰ通过三角支撑带（65）、活动钮扣(64)分别与支架Ⅰ、支架Ⅱ相连。
2.根据权利要求1所述的γ辐射场剂量检定用调控架，其特征在于: 所述的支架Ⅱ、支架Ⅲ与支架Ⅰ的结构相同。
3.根据权利要求1所述的γ辐射场剂量检定用调控架，其特征在于: 所述的滑动凹槽Ⅰ（41）、滑动凹槽Ⅱ（42）的结构相同。
4.根据权利要求1所述的γ辐射场剂量检定用调控架，其特征在于：所述的磁吸嵌卡板（5）与脚架（6）顶部相对应设置。
5.根据权利要求1所述的γ辐射场剂量检定用调控架，其特征在于: 所述的水平固定板Ⅰ（2）、侧方位固定板Ⅰ（3）的结构相同。