基于周期性干涉膜系FP腔扫描的高光谱成像装置的制作方法

文档序号:15144875发布日期:2018-08-10 20:19阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种基于周期性干涉膜系FP腔扫描的高光谱成像装置,其特征在于:包括带通滤光片、衬底、上层周期性干涉膜系、FP腔、下层周期性干涉膜系、成像探测器、压电陶瓷芯片和用于封装的外壳;所述上层周期性干涉膜系制备在衬底上,所述下层周期性干涉膜系制备在成像探测器像元表面,两者彼此独立,衬底上有上层周期性干涉膜系的一面和成像探测器上有下层周期性干涉膜系的一面相对,与外壳相连构成一个封闭的空腔,即FP腔;成像探测器无膜的另一面与压电陶瓷芯片连接,或者衬底无膜的另一面与压电陶瓷芯片连接,或者衬底无膜的另一面与中间通孔的压电陶瓷芯片连接。

2.根据权利要求1所述的基于周期性干涉膜系FP腔扫描的高光谱成像装置,其特征在于,所述衬底采用石英、硅片或者柔性材料。

3.根据权利要求1所述的基于周期性干涉膜系FP腔扫描的高光谱成像装置,其特征在于,所述上层周期性干涉膜系通过镀膜手段直接镀在衬底上,所述下层周期性干涉膜系通过镀膜手段直接镀在裸的成像探测器每个像元表面。

4.根据权利要求1所述的基于周期性干涉膜系FP腔扫描的高光谱成像装置,其特征在于,所述FP腔为真空。

5.根据权利要求1所述的基于周期性干涉膜系FP腔扫描的高光谱成像装置,其特征在于,所述带通滤光片和上层周期性干涉膜系、下层周期性干涉膜系采用离子溅射镀膜完成制备。

6.根据权利要求1所述的基于周期性干涉膜系FP腔扫描的高光谱成像装置,其特征在于,所述带通滤光片和上层周期性干涉膜系集成镀在一个衬底上。

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