自动光学检测设备的校准方法及自动修复系统与流程

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种自动光学检测设备的校准方法及自动修复系统。

背景技术：

伴随着大尺寸TFT-LCD(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display，薄膜晶体管液晶显示器)的推广与普及，Glass母板(基板)逐步增大，为了更精准地检测出各制程缺陷，自动光学检测设备AOI(Automatic Optic Inspection，自动光学检测)通常采用多镜头分区域对Glass母板进行检查。由于AOI输出的缺陷信息是由多个镜头检测出来的，不同镜头的安装调试存在位置误差，造成各个镜头输出缺陷坐标与标准坐标值可能都存在差异，为了保证修复设备能够将AOI检测出的缺陷进行精准修复，需校准AOI的镜头位置，保证AOI的镜头检测出的缺陷在修复设备的镜头下可见。

在实际生产中，由于AOI的机械震动，或装机时的机械误差，导致AOI的各镜头位置发生偏移，降低了AOI输出缺陷位置的精度。当AOI的镜头位置偏离严重时，检测出缺陷的修复设备的镜头可能不可见，会直接影响缺陷修复。为了避免AOI输出缺陷坐标的精度降低，需定期对AOI的镜头进行补正。

相关技术中，AOI的镜头位置的补正方法为：选用制作有Mark(标记)的标准片，通过对比AOI检测出的Mark坐标与Mark的实际坐标进行比对，然后根据比对结果对AOI各镜头进行校准。但该方法不能保证相邻两次镜头位置确认期间，当AOI某个镜头出现偏移量较大，导致Auto Repair(自动修复设备)的镜头无法看到缺陷而不进行修复，降低产品良率。也就是，该方法不能绝对保证AOI各镜头检出缺陷在Auto Repair镜头中可见，校准精度低，且需对AOI的镜头反复调试，校准确认时间长。

技术实现要素：

本发明提供自动光学检测设备的校准方法及自动修复系统，以解决相关技术中的不足。

根据本发明实施例的第一方面，提供一种自动光学检测设备的校准方法，包括：

获取修复设备已修复的基板制程缺陷的偏移信息；所述偏移信息包括所述基板制程缺陷的坐标与所述修复设备的第一镜头的中心的坐标之间的偏移量；

统计所述偏移信息，得到平均偏移量；

根据所述平均偏移量校准所述自动光学检测设备中的第二镜头；所述第二镜头用于采集基板制程缺陷的坐标，所述第一镜头用于根据所述基板制程缺陷的坐标修复所述基板制程缺陷。

在一个实施例中，所述根据所述平均偏移量校准所述自动光学检测设备中的所述第二镜头，包括：

当所述平均偏移量的模小于或等于指定的校准极限值时，根据所述平均偏移量校准所述第二镜头采集的基板制程缺陷的坐标；

当所述平均偏移量的模大于指定的校准极限值时，输出提示信息；所述提示信息用于提示校准所述第二镜头的位置。

在一个实施例中，所述偏移信息中包括偏移量为空的数据；所述偏移量为空的数据指示对应的基板制程缺陷超出所述第一镜头的视野范围；所述方法，还包括：

统计所述偏移信息中偏移量为空的数据的数目；

当所述数目大于预设数目时，确定所述平均偏移量的模大于指定的校准极限值。

在一个实施例中，所述偏移信息中包括偏移量为空的数据；所述偏移量为空的数据指示对应的基板制程缺陷超出所述第一镜头的视野范围；所述方法，还包括：

统计所述偏移信息中偏移量为空的数据的占比；

当所述占比大于预设占比时，确定所述平均偏移量的模大于指定的校准极限值。

在一个实施例中，所述偏移信息中包括偏移量为空的数据；所述偏移量为空的数据指示对应的基板制程缺陷超出所述第一镜头的视野范围；所述统计所述偏移信息，得到平均偏移量，包括：

滤除所述偏移信息中偏移量为空的数据，得到过滤后的偏移信息；

基于所述过滤后的偏移信息进行统计，获得所述平均偏移量。

在一个实施例中，所述根据所述平均偏移量校准所述自动光学检测设备中的所述第二镜头之前，还包括：

确定当前时间符合指定的时间周期。

在一个实施例中，所述方法，还包括：

记录所述修复设备修复基板制程缺陷时基板制程缺陷的坐标的偏移量；

根据记录的基板制程缺陷的坐标的偏移量更新所述偏移信息。

根据本发明实施例的第二方面，提供一种自动修复系统，包括：修复设备与自动光学检测设备；

所述修复设备，用于获取已修复的基板制程缺陷的偏移信息，并统计所述偏移信息，得到平均偏移量；所述偏移信息包括所述基板制程缺陷的坐标与所述修复设备的第一镜头的中心的坐标之间的偏移量；

所述自动光学检测设备，用于根据所述平均偏移量校准所述自动光学检测设备中的所述第二镜头；所述第一镜头用于根据所述基板制程缺陷的坐标修复所述基板制程缺陷。

在一个实施例中，所述修复设备包括输出单元，所述自动光学检测设备包括接收单元与处理单元；

所述输出单元，用于在所述平均偏移量的模小于或等于指定的校准极限值时，将所述平均偏移量输出给所述自动光学检测设备，在所述平均偏移量的模大于指定的校准极限值时，输出提示信息；所述提示信息用于提示校准所述第二镜头的位置；

所述接收单元，用于接收所述平均偏移量；

所述处理单元，用于根据所述平均偏移量校准所述第二镜头采集的基板制程缺陷的坐标。

在一个实施例中，所述修复设备包括记录单元与更新单元；

所述记录单元，用于记录所述修复设备修复基板制程缺陷时基板制程缺陷的坐标的偏移量；

所述更新单元，用于根据记录的基板制程缺陷的坐标的偏移量更新所述偏移信息。

根据上述实施例可知，通过获取修复设备已修复的基板制程缺陷的偏移信息，对偏移信息进行统计得到平均偏移量，根据平均偏移量校准自动光学检测设备中的第二镜头。由于上述的平均偏移量可以体现自动光学检测设备中的第二镜头的偏移量的趋势，最接近第二镜头的实际偏移量，根据平均偏移量校准自动光学检测设备中的第二镜头，可以提高校准精度。而且，根据平均偏移量校准自动光学检测设备中的第二镜头，可以避免反复调试第二镜头位置，缩短校准确认时间。

应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本发明。

附图说明

此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本发明的实施例，并与说明书一起用于解释本发明的原理。

图1是根据本发明实施例示出的一种自动光学检测设备的校准方法的流程图；

图2是根据本发明实施例示出的一种基板制程缺陷的位置未被校准时基板制程缺陷在修复设备的镜头中的位置示意图；

图3是根据本发明实施例示出的一种基板制程缺陷的位置被校准后基板制程缺陷在修复设备的镜头中的位置示意图；

图4是根据本发明实施例示出的一种AOI未被校准时基板制程缺陷在修复设备的镜头中的位置示意图；

图5是根据本发明实施例示出的一种AOI被校准后基板制程缺陷在修复设备的镜头中的位置示意图；

图6是根据本发明实施例示出的另一种自动光学检测设备的校准方法的流程图；

图7是根据本发明实施例示出的另一种自动光学检测设备的校准方法的流程图；

图8是根据本发明实施例示出的另一种自动光学检测设备的校准方法的流程图；

图9是根据本发明实施例示出的一种自动修复系统的框图。

具体实施方式

这里将详细地对示例性实施例进行说明，其示例表示在附图中。下面的描述涉及附图时，除非另有表示，不同附图中的相同数字表示相同或相似的要素。以下示例性实施例中所描述的实施方式并不代表与本发明相一致的所有实施方式。相反，它们仅是与如所附权利要求书中所详述的、本发明的一些方面相一致的装置和方法的例子。

在介绍本发明实施例中的自动光学检测设备的校准方法及自动修复系统之前，先简要地介绍一下相关技术中的自动修复系统。

相关技术中，自动修复系统包括自动光学检测设备(AOI)以及修复设备(repair)。以修复TFT-LCD彩膜基板上的基板制程缺陷为例，在修复基板制程缺陷过程中，需要由AOI的第二镜头(可为CCD相机)识别TFT-LCD彩膜基板上的基板制程缺陷并确定基板制程缺陷的坐标，然后将基板制程缺陷的坐标输出至修复设备，修复设备的第一镜头根据基板制程缺陷的坐标定位基板制程缺陷的位置，并修复基板制程缺陷。如果基板制程缺陷的位置不在修复设备的第一镜头的视野的中心，修复设备需要将基板制程缺陷移动至第一镜头的视野的中心，并对基板制程缺陷进行修复。由于AOI确定的基板制程缺陷的坐标是以AOI的输出坐标系为参照坐标系，如果AOI的输出坐标系与修复设备的坐标系不一致的话，可能会导致修复设备的第一镜头根据基板制程缺陷的坐标定位基板制程缺陷时定位不到基板制程缺陷。为保证AOI的第二镜头检测出的基板制程缺陷在修复设备的第一镜头中可见，需要对AOI的第二镜头进行校准。

其中，由于TFT-LCD彩膜基板上像素图案具有周期性和规律性的特点，因此，AOI识别TFT-LCD彩膜基板上的基板制程缺陷的过程具体可如下：1、先将第二镜头捕获的彩色图片(也可程之为缺陷图像，Defect Image)转换成灰度图片。2、过滤(Smoothing)灰度图片中的噪点，使成像过渡平滑。其中，图像平滑的本质是低通滤波，它允许通过信号的低频部分，阻截高频的噪声信号实现降低噪声，改善图像质量。3、对过滤噪点后的灰度图片按像素周期性进行做差处理(Compare)，对比实现基板制程缺陷识别，对比正常区域显示为深色背景，异常区域显示为浅色背景，差异越大显示越白。4、做差处理得到的运算结果仍是灰度图片，需继续进行二值化处理(Binary)，具体过程为将灰阶值低于特定值的区域转换成黑色背景，将灰阶值高于特定值的区域转换成白色背景，这样白色背景区域即为基板制程缺陷所在位置，实现基板制程缺陷智能识别。5、基板制程缺陷识别完成后(Extraction Defect)，由修复设备对基板制程缺陷进行修复。

本发明实施例提供一种自动光学检测设备的校准方法及自动修复系统，具体请见下面的实施例。

图1是根据本发明实施例示出的一种自动光学检测设备的校准方法的流程图。如图1所示，该自动光学检测设备的校准方法包括以下步骤101～103：

在步骤101中，获取修复设备已修复的基板制程缺陷的偏移信息；所述偏移信息包括所述基板制程缺陷的坐标与所述修复设备的第一镜头的中心的坐标之间的偏移量。

在本实施例中，修复设备在修复基板制程缺陷时，当基板制程缺陷的位置不在修复设备的第一镜头的视野的中心时，需要将基板制程缺陷的位置调整到第一镜头的视野的中心。在将基板制程缺陷的位置调整到第一镜头的视野的中心时，需要确定基板制程缺陷的坐标与第一镜头的视野的中心的坐标之间的偏移量，然后，根据该偏移量对基板制程缺陷的位置进行调整，使基板制程缺陷的位置位于第一镜头的视野的中心。其中，基板制程缺陷的坐标是在修复设备的坐标系中的坐标。

在一个实施例中，如图2所示，基板制程缺陷21不在第一镜头22的视野的中心23时，可以确定基板制程缺陷21的坐标在X轴方向上的第一偏移量24以及在Y轴方向上的第二偏移量25，根据第一偏移量24与第二偏移量25得到基板制程缺陷的坐标与第一镜头22的中心的坐标之间的偏移量(第一偏移量24，第二偏移量25)。需要说明的是，本发明实施例中，偏移量为一个矢量。

在上述的实施例中，根据基板制程缺陷21的坐标与第一镜头22的中心的坐标之间的偏移量(第一偏移量24，第二偏移量25)，可以确定校准自动光学检测设备中的第二镜头时镜头的位移矢量。该位移矢量与偏移量(第一偏移量24，第二偏移量25)的大小相同，方向相反，具体为(-第一偏移量24，-第二偏移量25)。当按照位移矢量移动基板制程缺陷后，基板制程缺陷坐标与第一镜头的中心的坐标重合，即基板制程缺陷位于第一镜头的中心，具体请参阅图3。

在一个实施例中，修复设备可以利用Blob分析(Blob Analysis)方法确定上述的偏移量。Blob分析是机器视觉技术中的一种算法，其目的在于对图像中的基板制程缺陷位置进行检测和分析，并获取基板制程缺陷距目标位置(第一镜头22的中心)的偏移量。当然，本发明实施例对确定偏移量的方法不作限制。

在本实施例中，修复设备在确定基板制程缺陷的偏移量之后，可以将基板制程缺陷的偏移量进行存储。这样，修复设备在修复大量基板制程缺陷之后，可以积累大量已修复的基板制程缺陷的偏移量，得到上述的偏移信息。

在步骤102中，统计所述偏移信息，得到平均偏移量。

在本实施例中，可以采用大数据分析技术对偏移信息进行统计，求取上述大量基板制程缺陷的偏移量的平均值，作为平均偏移量。该平均偏移量可以体现自动光学检测设备中的第二镜头的偏移量的趋势，最接近第二镜头的实际偏移量。

在步骤103中，根据所述平均偏移量校准所述自动光学检测设备中的第二镜头。其中，所述第二镜头用于识别并采集基板制程缺陷的坐标，所述第一镜头用于根据所述基板制程缺陷的坐标定位并修复所述基板制程缺陷。

在本实施例中，根据平均偏移量可以确定校准自动光学检测设备中的第二镜头时镜头的位移矢量。该位移矢量与平均偏移量的大小相同，方向相反。例如，当平均偏移量为时，位移矢量为按照位移矢量可以校准第二镜头的位置，使校准后的第二镜头的输出坐标系与第一镜头的坐标系更匹配，提高了校准精度。这样，可以保证在第一镜头根据第二镜头确定的基板制程缺陷的坐标定位基板制程缺陷时，基板制程缺陷出现在第一镜头的视野中，且更接近第一镜头的视野的中心。

以上是针对自动光学检测设备中的一个第二镜头的校准进行介绍的。在实际应用时，自动光学检测设备中包括多个第二镜头，对所有的第二镜头，都可以采用上述的校准方法进行校准。例如，自动光学检测设备中包括8个第二镜头，这8个第二镜头各自检测到一个基板制程缺陷21，得到8个基板制程缺陷21，并将这8个基板制程缺陷21的坐标以DFS文件输出给修复设备，修复设备的8个第一镜头分别从DFS文件读取对应的基板制程缺陷21的坐标，以定位对应的基板制程缺陷。如图4所示，当8个基板制程缺陷21分别出现在8个第一镜头22中时，8个第一镜头22可以分别确定对应的基板制程缺陷21的坐标与第一镜头22的中心的坐标之间的偏移量，并分别进行存储，得到8个第一镜头22各自修复基板制程缺陷时对应的偏移信息，以供校准对应的8个第二镜头。在8个第二镜头校准后，8个第一镜头22根据8个第二镜头确定的基板制程缺陷坐标定位对应的基板制程缺陷时，可以保证8个基板制程缺陷的位置各自出现在对应的8个第一镜头的视野中，或者可以使得8个基板制程缺陷的位置都更接近于8个第一镜头的视野的中心，甚至可以使得8个基板制程缺陷的位置都几乎位于8个第一镜头的视野的中心，具体请参阅图5。这样，可以减少修复设备对基板制程缺陷的位置的调整，进而降低修复设备的运行负载，延长设备使用寿命。

在本发明实施例中，通过获取修复设备已修复的基板制程缺陷的偏移信息，对偏移信息进行统计得到平均偏移量，根据平均偏移量校准自动光学检测设备中的第二镜头。由于上述的平均偏移量可以体现自动光学检测设备中的第二镜头的偏移量的趋势，最接近第二镜头的实际偏移量，根据平均偏移量校准自动光学检测设备中的第二镜头，可以提高校准精度，可以避免修复设备无法定位基板制程缺陷而导致基板制程缺陷无法修复，提高产品良率。而且，根据平均偏移量校准自动光学检测设备中的第二镜头，可以避免反复调试第二镜头位置，缩短校准确认时间，进而可以避免影响设备稼动，提高工厂产能。

在一个实施例中，在步骤103之前，还可包括如下步骤：确定当前时间符合指定的时间周期。在确定当前时间符合指定的时间周期时，才根据平均偏移量校准自动光学检测设备中的第二镜头，可以避免因频繁校准而导致降低设备的运行负载，缩短设备使用寿命。

图6是根据另一实施例示出一种自动光学检测设备的校准方法的流程图。在图1所示的实施例的基础上，上述的步骤103包括以下步骤601～602：

在步骤601中，当所述平均偏移量的模小于或等于指定的校准极限值时，根据所述平均偏移量校准所述第二镜头采集的基板制程缺陷的坐标。

在步骤602中，当所述平均偏移量的模大于指定的校准极限值时，输出提示信息；所述提示信息用于提示校准所述第二镜头的位置。

在本实施例中，指定的校准极限值可以根据第一镜头的视野范围确定。例如，第一镜头的在X轴方向上的视野范围为(-100μm，100μm)，第一镜头的在Y轴方向上的视野范围为(-150μm，150μm)，则该指定的校准极限值可以根据μm设置，比如可以为180μm。

在本实施例中，当平均偏移量的模小于或等于指定的校准极限值时，可以根据平均偏移量校准第二镜头采集的基板制程缺陷的坐标，以使得第一镜头根据基板制程缺陷的坐标可以定位基板制程缺陷，换句话说，可以使基板制程缺陷出现在第一镜头的可见范围内。例如，当平均偏移量为(30,40)μm时，平均偏移量的模为50μm，小于指定的校准极限值180μm，则可以直接利用软件对第二镜头采集的基板制程缺陷的坐标进行校准。例如，当第二镜头采集的基板制程缺陷的坐标为(80,70)μm时，利用软件对(80,70)μm进行校准，得到校准后的基板制程缺陷坐标(50,30)μm。这样，可以避免对第一镜头的位置进行校准，可进一步缩短校准确认时间，避免影响设备稼动，提高工厂产能，还可以实现第二镜头的输出坐标系与第一镜头的坐标系的微米级匹配。而且，软件程序开发成本低。

在本实施例中，当所述平均偏移量的模大于指定的校准极限值时，输出用于提示校准第二镜头的位置的提示信息，以对第二镜头的位置进行校准，使基板制程缺陷出现在第一镜头的可见范围内。

在一个实施例中，当修复设备包括多个第一镜头时，当其中一个镜头确定的平均偏移量的模大于指定的校准极限值时，输出的提示信息中可包括对应的第二镜头的身份标识，以便定位需要校准位置的第二镜头。

在一个示例性实施例中，所述偏移信息中包括偏移量为空的数据；偏移量为空的数据指示对应的基板制程缺陷超出所述第一镜头的视野范围。具体地说，当第一镜头在视野范围内无法定位基板制程缺陷(基板制程缺陷在第一镜头的视野范围内不可见)时，第一镜头将基板制程缺陷的偏移量记为空，且不执行修复操作。这样，偏移信息中可能会存在偏移量为空的数据。

在上述的示例性实施例中，统计偏移信息中偏移量为空的数据的数目，当所述数目大于预设数目时，确定所述平均偏移量的模大于指定的校准极限值。由于偏移量为空的数据的数目大于预设数目时说明第二镜头的输出坐标系与第一镜头的坐标系之间的失配程度严重，在这种情况下，可以确定平均偏移量的模大于指定的校准极限值。

在另一个示例性实施例中，可以统计所述偏移信息中偏移量为空的数据的占比，当所述占比大于预设占比时，确定所述平均偏移量的模大于指定的校准极限值。由于偏移量为空的数据的占比大于预设占比时，说明第二镜头的输出坐标系与第一镜头的坐标系之间的失配程度严重，在这种情况下，可以确定平均偏移量大于指定的校准极限值。

本实施例中，可以根据平均偏移量的模与指定的校准极限值之间的大小关系选择校准自动光学检测设备的方式。尤其是，当平均偏移量的模小于或等于指定的校准极限值时，根据平均偏移量校准第二镜头采集的基板制程缺陷的坐标，可以避免对第一镜头的位置进行校准，可进一步缩短校准确认时间，避免影响设备稼动，提高工厂产能。

图7是根据另一实施例示出一种自动光学检测设备的校准方法的流程图。在图1所示的实施例的基础上，上述步骤103的方法还包括以下步骤701～702：

在步骤701中，滤除所述偏移信息中偏移量为空的数据，得到过滤后的偏移信息。

在步骤702中，基于所述过滤后的偏移信息进行统计，获得所述平均偏移量。

在本实施例中，所述偏移信息中包括偏移量为空的数据，偏移量为空的数据指示对应的基板制程缺陷超出所述第一镜头的视野范围。具体地说，当第一镜头在视野范围内无法定位基板制程缺陷(基板制程缺陷在第一镜头的视野范围内不可见)时，第一镜头将基板制程缺陷的偏移量记为空，且不执行修复操作。这样，偏移信息中可能会存在偏移量为空的数据。

在本实施例中，在统计偏移信息时，滤除偏移信息中偏移量为空的数据，得到过滤后的偏移信息，基于所述过滤后的偏移信息进行统计，获得所述平均偏移量。由于导致基板制程缺陷在第一镜头中不可见的原因也许并不是第二镜头的位置需要校准，或者，在偏移量为空的数据的数目小于预设数目或者偏移量为空的数据的占比小于预设占比的情况下，在统计偏移信息时，滤除偏移信息中偏移量为空的数据，可以提高本发明实施方式的容错能力。

图8是根据另一实施例示出的一种自动光学检测设备的校准方法的流程图。在图1所示的实施例的基础上，上述方法还包括以下步骤801～802：

在步骤801中，记录所述修复设备修复基板制程缺陷时基板制程缺陷的坐标的偏移量。

在步骤802中，根据记录的基板制程缺陷的坐标的偏移量更新所述偏移信息。

在本实施例中，可以记录修复设备修复基板制程缺陷时基板制程缺陷的坐标的偏移量，并将记录的基板制程缺陷的坐标的偏移量更新至所述偏移信息，这样，可以积累大量的偏移量以形成偏移信息，使基于偏移信息统计得到的平均偏移量更准确，有利于提高校准精度。

本发明的实施例还提出了一种自动修复系统，如图9所示，该自动修复系统包括：自动光学检测设备91与修复设备92。

所述修复设备92，用于获取已修复的基板制程缺陷的偏移信息，并统计所述偏移信息，得到平均偏移量；所述偏移信息包括所述基板制程缺陷的坐标与所述修复设备的第一镜头的中心的坐标之间的偏移量；

所述自动光学检测设备91，用于根据所述平均偏移量校准所述自动光学检测设备中的所述第二镜头；所述第一镜头用于根据所述基板制程缺陷的坐标修复所述基板制程缺陷。

在一个实施例中，所述修复设备92包括输出单元921，所述自动光学检测设备91包括接收单元911与处理单元912。

所述输出单元921，用于在所述平均偏移量的模小于或等于指定的校准极限值时，将所述平均偏移量输出给所述自动光学检测设备，在所述平均偏移量的模大于指定的校准极限值时，输出提示信息；所述提示信息用于提示校准所述第二镜头的位置；

所述接收单元911，用于接收所述平均偏移量；

所述处理单元912，用于根据所述平均偏移量校准所述第二镜头采集的基板制程缺陷的坐标。

在一个实施例中，所述修复设备92包括记录单元922与更新单元923；

所述记录单元922，用于记录所述修复设备修复基板制程缺陷时基板制程缺陷的坐标的偏移量；

所述更新单元923，用于根据记录的基板制程缺陷的坐标的偏移量更新所述偏移信息。

关于上述实施例中的系统，其中各单元执行操作的具体方式已经在有关该方法的实施例中进行了详细描述，此处将不做详细阐述说明。

其中，对于彩膜基板，上述基板制程缺陷包括用于制备BM(黑矩阵)、Red(红色像素)、Green(绿色像素)、Blue(蓝色像素)、OC(保护层)、PS(柱状隔垫物)等的制程中出现的缺陷。

在本发明中，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。术语“多个”指两个或两个以上，除非另有明确的限定。

本领域技术人员在考虑说明书及实践这里公开的公开后，将容易想到本发明的其它实施方案。本发明旨在涵盖本发明的任何变型、用途或者适应性变化，这些变型、用途或者适应性变化遵循本发明的一般性原理并包括本发明未公开的本技术领域中的公知常识或惯用技术手段。说明书和实施例仅被视为示例性的，本发明的真正范围和精神由下面的权利要求指出。

应当理解的是，本发明并不局限于上面已经描述并在附图中示出的精确结构，并且可以在不脱离其范围进行各种修改和改变。本发明的范围仅由所附的权利要求来限制。