1.一种双折射晶体快拍穆勒矩阵成像测偏系统，包括光源（1），所述光源（1）发射光线一侧依次设置有第一准直透镜（2）、第一成像镜（4）、第二准直透镜（5）、第二成像镜（7）和图像获取装置（8），其特征在于：所述第一准直透镜（2）和第一成像镜（4）之间设置有第一偏振调制模块（3），所述第二准直透镜（5）和第二成像镜（7）之间设置有第二偏振调制模块（6），所述光源（1）、第一准直透镜（2）、第一成像镜（4）、第二准直透镜（5）、第二成像镜（7）、图像获取装置（8）的中心点与所述第一偏振调制模块（3）、第二偏振调制模块（6）的中心点均位于同一直线上；
所述第一准直透镜（2）与所述光源（1）的距离为第一准直透镜（2）的焦距f，所述第一成像镜（4）与所述第二准直透镜（5）的距离为第二准直透镜（5）焦距f的两倍2f，所述第二成像镜（7）与所述图像获取装置（8）的距离为第二成像镜（7）的焦距f。
2.根据权利要求1所述的一种双折射晶体快拍穆勒矩阵成像测偏系统，其特征在于：所述第一偏振调制模块（3）包括两块相同且重叠设置的改进型萨瓦偏光镜ⅰ，分别为第一改进型萨瓦偏光镜ⅰ（11a）和第二改进型萨瓦偏光镜ⅰ（11b），所述第一改进型萨瓦偏光镜ⅰ（11a）的出光面和第二改进型萨瓦偏光镜ⅰ（11b）的进光面之间设置有第一半波片（12），所述第一改进型萨瓦偏光镜ⅰ（11a）的进光面还设置有起偏器（10）。
3.根据权利要求1所述的一种双折射晶体快拍穆勒矩阵成像测偏系统，其特征在于：所述第二偏振调制模块（6）包括两块相同且重叠设置的改进型萨瓦偏光镜ⅱ，分别为第一改进型萨瓦偏光镜ⅱ（14a）和第二改进型萨瓦偏光镜ⅱ（14b），所述第一改进型萨瓦偏光镜ⅱ（14a）的出光面和第二改进型萨瓦偏光镜ⅱ（14b）的进光面之间设置有第一半坡片（12），所述第二改进型萨瓦偏光镜ⅱ（14b）的出光面还设置有检偏器（15）。
4.根据权利要求2所述的一种双折射晶体快拍穆勒矩阵成像测偏系统，其特征在于：所述改进型萨瓦偏光镜ⅰ包括重叠布置的第一萨瓦板（16）和第二萨瓦板（17），所述第一萨瓦板（16）和第二萨瓦板（17）之间设置有第二半波片（13），所述第一萨瓦板（16）和第二萨瓦板（17）厚度相等，所述第一萨瓦板（16）光轴和第二萨瓦板（17）光轴位于同一平面内，以第二半波片（13）为对称轴，呈对轴分布且两者夹角为90°。
5.根据权利要求3所述的一种双折射晶体快拍穆勒矩阵成像测偏系统，其特征在于：所述改进型萨瓦偏光镜ⅱ包括重叠布置的第三萨瓦板（18）和第四萨瓦板（19），所述第三萨瓦板（18）和第四萨瓦板（19）之间设置有第三半波片（20），所述第三萨瓦板（18）和第四萨瓦板（19）厚度相等且为第一萨瓦板（16）厚度的2倍，所述第三萨瓦板（18）光轴和第四萨瓦板（19）光轴位于同一平面内，以第三半波片（20）为对称轴，呈对轴分布且两者夹角为90°。
6.根据权利要求2或3所述的一种双折射晶体快拍穆勒矩阵成像测偏系统，其特征在于：所述第一半坡片（12）的偏振方向角为22.5°。
7.根据权利要求4所述的一种双折射晶体快拍穆勒矩阵成像测偏系统，其特征在于：所述第二半波片（13）的偏振方向角为45°。
8.根据权利要求5所述的一种双折射晶体快拍穆勒矩阵成像测偏系统，其特征在于：所述第三半坡片（20）的偏振方向角为45°。
9.根据权利要求2或3所述的一种双折射晶体快拍穆勒矩阵成像测偏系统，其特征在于：所述起偏器（10）和检偏器（15）的透振方向角为45°。
10.根据权利要求1所述的一种双折射晶体快拍穆勒矩阵成像测偏系统，其特征在于：所述第一准直透镜（2）、第一成像镜（4）、第二准直透镜（5）、第二成像镜（7）均为焦距相同的凸透镜。