自动供给式激光显微系统的制作方法

文档序号:16114958发布日期:2018-11-30 20:17阅读:132来源:国知局

本实用新型属于显微成像技术领域,尤其是涉及自动供给式激光显微系统。



背景技术:

激光显微技术是用激光作为光源,对微观尺度的介质进行成像的技术。传统光学显微镜的分辨率受光波长的限制,因此多年来,采用波长较短的粒子(如电子)和波长较短的光子(如X射线)等方法提高分辨率。X射线是由于原子中的电子在能量相差悬殊的两个能级之间的跃迁而产生的粒子流,是波长介于紫外线和γ射线之间的电磁波。波长较短的X射线能量较大,称为硬X射线,其波长范围约为0.01纳米~0.1纳米;波长较长的X射线能量较小,称为软X射线,波长范围为0.1纳米~10纳米。例如,波长10纳米的软X射线能量约为100电子伏,波长0.01纳米的硬X射线能量高达约10000电子伏。生物单分子是指一些与生命有着密切关系的有机低相对分子量化合物,包括氨基酸、脂肪酸、糖、嘌呤、嘧啶、单核苷酸、卟啉、ATP等高能化合物,由于生物分子结构上1纳米~10纳米范围内的结构细节需进一步阐明,因而出现了多种基于X射线的显微设备。

尽管现如今出现多种激光显微设备,但目前最高分辨率的激光显微镜对样品(即生物分子,也称为待测对象)的细节结构一般也只能通过难以聚焦的超短硬X射线获得,并且容易破坏样品。这样,利用自由电子激光产生的X射线、X射线衍射方法(不需要对样品进行散射后成像)受到青睐。

相比之下,使用软X射线的低分辨率激光显微镜更接近于常规的显微镜。相干软X射线可以通过各种不同的方法产生,而较低的能量往往对样品的破坏性较小。软X射线经过样品散射后,可以通过各种方法(如各种相位波带片法)聚焦,从而产生更常规的样品放大图像。但现有的X射线激光显微镜的性能易受其它因素影响,如因使用环境中存在的残留空气分子导致衰减以及因热效应导致的功率损失等,因而使用效果较差。

另外,实践中发现,经常需要采用激光显微系统对多个同一类型或不同类型的待测对象进行分析,这就需要对激光显微系统进行进一步改进,以便能简便、快速对多个同一类型或不同类型的待测对象分析。



技术实现要素:

本实用新型所要解决的技术问题在于针对上述现有技术中的不足,提供自动供给式激光显微系统,其结构设计合理且使用操作简便、使用效果好,采用外侧光处理装置将激光束聚焦于待测对象后的光线分为外侧光线和中部光束以便分别进行处理,利用同时获取的外侧光线和中部光束能进一步在提高激光显微系统性能,同时采用通过自动供给装置将待测对象逐一送至待检位,能满足简便、连续且快速对多个待测对象进行分析的实际需求。

为解决上述技术问题,本实用新型采用的技术方案是:一种自动供给式激光显微系统,其特征在于:包括将待测对象逐一送至待检位的自动供给装置、用于将激光束聚焦于被检对象上的后侧激光聚焦装置和位于后侧激光聚焦装置前方的后续激光处理装置,所述被检对象为位于所述待检位上的待测对象;所述待检位为后侧激光聚焦装置的聚焦点;所述待检位位于后侧激光聚焦装置前侧,所述后续激光处理装置位于所述待检位的正前方;所述自动供给装置位于所述待检位的一侧;

所述后续激光处理装置包括对所述激光束聚焦于所述被测对象后产生的外侧光线进行处理的外侧光处理装置、对所述激光束聚焦于所述被测对象后产生的中部光束进行聚焦的前侧激光聚焦装置和经前侧激光聚焦装置聚焦后的光束进行检测的激光探测装置,所述外侧光处理装置位于所述被测对象的正前方,所述前侧激光聚焦装置位于外侧光处理装置的正前方或正后方,所述激光探测装置位于前侧激光聚焦装置的正前方;所述外侧光处理装置为衍射装置。

上述自动供给式激光显微系统,其特征是:所述外侧光处理装置的后侧面为光接收面,所述光接收面为曲面或呈竖直向布设的平面;

当所述光接收面为曲面时,所述待检位与所述光接收面上各位置处的间距均相同。

上述自动供给式激光显微系统,其特征是:所述自动供给装置为将置于测试架上的待测对象逐一送至所述待检位的测试架供给装置或将处于悬空状态的待测对象逐一送至所述待检位的对象直接供给装置,所述测试架为供一个所述待测对象布设的支架。

上述自动供给式激光显微系统,其特征是:所述测试架供给装置为同步移动式供给装置或架体移动式供给装置;

所述同步移动式供给装置包括能带动多个所述测试架同步移动并将多个所述测试架上的待测对象逐一送至所述待检位的架体位置调节机构,多个所述测试架均固定安装在所述架体位置调节机构上,所述架体位置调节机构位于所述待检位的一侧;

所述架体移动式供给装置包括供多个所述测试架放置的架体放置机构和对所述架体放置机构上的测试架进行逐一移动并将所移动测试架上的待测对象移送至所述待检位的架体移动机构,所述架体移动机构位于所述待检位的一侧,所述架体移动机构位于所述架体放置机构的一侧。

上述自动供给式激光显微系统,其特征是:所述对象直接供给装置为喷射供给装置;

所述喷射供给装置为固定式喷射供给装置、平移式喷射供给装置、旋转式喷射供给装置或混合式喷射供给装置;

所述固定式喷射供给装置为单对象喷射供给装置或多对象喷射供给装置;

所述单对象喷射供给装置包括一个将多个所述待测对象逐一喷射至所述待检位的第一喷射机构,所述第一喷射机构位于所述待检位一侧,所述第一喷射机构的喷射口与所述待检位正对;

所述多对象喷射供给装置包括固定环和多个将待测对象逐一由外向内喷射至所述待检位的第二喷射机构,多个所述第二喷射机构沿圆周方向布设在同一竖直面上,多个所述第二喷射机构均安装在所述固定环上,所述固定环呈竖直向布设;每个所述第二喷射机构的喷射口均朝内,每个所述第二喷射机构的喷射口与所述待检位正对;所述待检位位于所述固定环的中心轴线上;

所述平移式喷射供给装置包括平移结构和多个布设于同一直线上且将待测对象逐一喷射至所述待检位的第三喷射机构,多个所述第三喷射机构均呈平行布设且其喷射口均朝向所述待检位,多个所述第三喷射机构均安装在所述平移结构上且其均位于同一平面上;所述平移结构位于所述待检位一侧,所述平移结构为带动多个所述第三喷射机构同步进行直线移动并将一个所述第三喷射机构的喷射口移动至与所述待检位正对的直线移动机构;

所述旋转式喷射供给装置包括多个将待测对象逐一由内向外喷射至所述待检位的第四喷射机构和带动多个所述第四喷射机构同步进行旋转并将一个所述第四喷射机构的喷射口移动至与所述待检位正对的第一旋转机构,多个所述第四喷射机构沿圆周方向布设在所述第一旋转机构的同一横断面上,多个所述第四喷射机构均安装在所述第一旋转机构上,每个所述第四喷射机构的喷射口均朝外,所述第一旋转机构位于所述待检位一侧,多个所述第四喷射机构均与所述待检位布设于同一平面上;

所述混合式喷射供给装置包括多组将待测对象逐一由内向外喷射至所述待检位的第五喷射机构、带动多组所述第五喷射机构同步进行旋转的第二旋转机构和带动所述第二旋转机构沿其旋转轴线进行前后移动的第一前后平移机构,多组所述第五喷射机构均安装在所述第二旋转机构上,多组所述第五喷射机构沿所述第二旋转机构的旋转轴线由前至后布设,每组所述第五喷射机构均包括多个沿圆周方向布设在所述第二旋转机构的同一横断面上的所述第五喷射机构,每个所述第五喷射机构的喷射口均朝外,所述第二旋转机构位于所述待检位一侧;所述第二旋转机构安装在所述第一前后平移机构上且二者组成将一个所述第五喷射机构的喷射口移动至与所述待检位正对的组装式移动机构。

上述自动供给式激光显微系统,其特征是:所述对象直接供给装置为将待测对象在重力作用下下落至所述待检位的重力供给装置;

所述重力供给装置为固定式重力供给装置、平移式重力供给装置或旋转式重力供给装置;

所述固定式重力供给装置包括将多个所述待测对象逐一下放并使各待测对象在重力作用下下落至所述待检位的固定式下放机构,所述第一下放机构位于所述待检位一侧,所述固定式下放机构为L形且其包括第一竖向下放机构和位于所述第一竖向下放机构底部一侧的水平通道,所述水平通道位于所述待检位一侧且二者位于同一平面上,所述水平通道的出口与所述待检位正对;所述第一竖向下放机构内设置有一个或多个呈平行布设的第一竖向下放通道,所述第一竖向下放通道的底部出口均与所述水平通道的进口连通;

所述平移式重力供给装置包括呈水平布设且左右两侧均开口的平移通道、带动所述平移通道沿其中心轴线进行水平直线移动的平移驱动机构和多个均安装在所述平移通道上的第二竖向下放机构,每个所述第二竖向下放机构均为将多个所述待测对象逐一下放并使各待测对象在重力作用下下落至所述待检位的下放机构,每个所述第二竖向下放机构内均开有一个第二竖向下放通道,所述第二竖向下放通道的底部出口与所述平移通道内部相通;多个所述第二竖向下放机构均布设于同一竖直面上且其沿所述平移通道的中心轴线由前至后布设,所述待检位位于所述平移通道的中心轴线上;

所述旋转式重力供给装置为竖向旋转重力供给装置或水平旋转重力供给装置;

所述水平旋转重力供给装置包括一个带有多个竖向下放通道的第一旋转式供给机构和布设于所述第一旋转式供给机构上方且将多个所述待测对象逐一送入一个所述竖向下放通道的第一对象存放机构,所述第一对象存放机构呈竖直向布设;所述第一旋转式供给机构呈水平布设且其位于所述待检位上方,所述第一旋转式供给机构为能绕其中心轴线进行水平旋转并将一个所述竖向下放通道移动至所述待检位正上方的旋转机构,所述第一对象存放机构的底部出口位于所述待检位的正上方;多个所述竖向下放通道沿圆周方向均匀布设且其均布设于同一水平面上,所述竖向下放通道为将供待测对象逐一下放并使各待测对象在重力作用下下落至所述待检位的下放通道;

所述竖向旋转重力供给装置为单对象供给装置或多对象供给装置;

所述单对象供给装置包括一个带有多个直线下放通道的第二旋转式供给机构和布设于所述第二旋转式供给机构上部且将多个所述待测对象逐一送入一个所述直线下放通道的第二对象存放机构,所述第二对象存放机构呈竖直向布设且其位于所述第二旋转式供给机构的正上方;所述第二旋转式供给机构呈竖直向布设,所述第二旋转式供给机构为能绕其中心轴线进行竖向旋转的旋转机构,多个所述直线下放通道沿圆周方向均匀布设且其均布设于同一竖直面上,所述直线下放通道为将供待测对象逐一下放并使各待测对象在重力作用下下落至所述待检位的下放通道;所述第二对象存放机构的底部出口和每个所述直线下放通道的进口均位于所述第二旋转式供给机构的外边缘上;所述待检位位于所述第二旋转式供给机构的中心轴线上,每个所述直线下放通道的出口均与所述待检位正对;

所述多对象供给装置包括多个将待测对象逐一下放并使各待测对象在重力作用下下落至所述待检位的第三对象存放机构和带动多个所述第三对象存放机构同步进行旋转并将一个所述第三对象存放机构的底部出口移动至所述待检位正上方的竖向旋转机构,多个所述第三对象存放机构沿圆周方向布设在所述竖向旋转机构的同一横断面上,多个所述第三对象存放机构均安装在所述竖向旋转机构上,所述竖向旋转机构为布设在所述待检位外侧的空心结构,所述待检位位于所述竖向旋转机构的中心轴线上,多个所述第三对象存放机构均与所述待检位布设于同一平面上。

上述自动供给式激光显微系统,其特征是:还包括真空室,所述真空室上设置有供所述激光束穿过的激光入射口;所述后侧激光聚焦装置、测试架和所述后续激光处理装置均位于真空室内,所述后侧激光聚焦装置位于激光入射口的正前方;

所述自动供给装置位于真空室内或位于真空室外侧;

当自动供给装置位于真空室外侧时,所述真空室上设置有供待测对象输送的输送通道。

上述自动供给式激光显微系统,其特征是:所述前侧激光聚焦装置为位于外侧光处理装置正后方的后聚焦装置,所述外侧光处理装置的中部开有供所述中部光束通过的第一通孔。

上述自动供给式激光显微系统,其特征是:所述前侧激光聚焦装置为位于外侧光处理装置正前方的前聚焦装置,所述激光探测装置为位于外侧光处理装置正后方的第一激光探测装置和安装于外侧光处理装置上的第二激光探测装置;

当激光探测装置为所述第一激光探测装置时,所述外侧光处理装置的中部开有供经前侧激光聚焦装置聚焦后的光束通过的第二通孔;

当激光探测装置为所述第二激光探测装置时,所述外侧光处理装置的中部开有供前侧激光聚焦装置安装的第三通孔。

上述自动供给式激光显微系统,其特征是:还包括上位机、对外侧光处理装置处理后的光线进行探测的激光探测设备、与所述激光探测设备连接的衍射测量装置、与激光探测装置连接的成像设备、位于真空室外侧且用于产生所述激光束的激光发生器和与真空室连接的抽真空设备,所述激光探测设备位于外侧光处理装置后侧,所述衍射测量装置和所述成像设备均与上位机连接。

本实用新型与现有技术相比具有以下优点:

1、结构设计合理且使用操作简便,投入成本较低。

2、所采用的前侧激光聚焦装置结构简单、设计合理且加工制作简便、使用操作简便,能简便、快速对衍射光栅的温度以及外壳内的真空度进行调节,并且使用效果好,能简便实现激光聚焦,能简便实现激光聚焦,并能有效减少激光聚焦过程中的功率损失。

3、所采用的真空室、后侧激光聚焦装置和前侧激光聚焦装置均设置有冷却部件,通过冷却能有效减少激光聚焦过程中的功率损失。

4、所采用的自动供给装置结构简单、设计合理且投入成本较低,安装布设方式灵活,既可以位于真空室内,也可以位于真空室外侧。

5、所采用的自动供给装置使用操作简便且使用效果好,能将待测对象逐一送至待检位,能满足简便、连续且快速对多个待测对象进行分析的实际需求。

6、使用效果好且实用价值高,采用外侧光处理装置将激光束聚焦于待测对象后的光线分为外侧光线和中部光束以便分别进行处理,利用同时获取的外侧光线和中部光束能进一步在提高激光显微系统性能,同时采用通过自动供给装置将待测对象逐一送至待检位,能满足简便、连续且快速对多个待测对象进行分析的实际需求。

因而,采用本实用新型能简便、连续且快速完成同一类型的多个所述待测对象的激光显微分析过程,也可以简便、连续且快速完成不同类型的多个所述待测对象的激光显微分析过程。因而,为同一类型待测对象的综合研究与不同类型待测对象的综合研究均能提供直接、可靠的分析依据,如对同一类型待测对象的平均结构研究、多个不同类型待测对象的对比研究等。

下面通过附图和实施例,对本实用新型的技术方案做进一步的详细描述。

附图说明

图1为本实用新型除抽真空设备外的结构示意图。

图2-1为本实用新型除自动供给装置外的结构示意图。

图2-2为本实用新型的电路原理框图。

图3为本实用新型实施例1中激光显微处理装置的工作原理示意图。

图4为本实用新型后侧激光聚焦装置的结构示意图。

图5为本实用新型前侧激光聚焦装置的结构示意图。

图6为本实用新型实施例2中自动供给装置的结构示意图。

图7为本实用新型实施例3中自动供给装置的结构示意图。

图8为本实用新型实施例4中自动供给装置的结构示意图。

图9为本实用新型实施例5中自动供给装置的结构示意图。

图10为本实用新型实施例6中自动供给装置的结构示意图。

图11为本实用新型实施例7中自动供给装置的使用状态参考图。

图12为本实用新型实施例8中自动供给装置的使用状态参考图。

图13为本实用新型实施例9中自动供给装置的使用状态参考图。

图14为本实用新型实施例10中自动供给装置的使用状态参考图。

图15-1为本实用新型实施例11中自动供给装置的使用状态参考图。

图15-2为本实用新型实施例11中自动供给装置的使用状态参考图。

图16为本实用新型实施例12中激光显微处理装置的工作原理示意图。

图17为本实用新型实施例13中激光显微处理装置的工作原理示意图。

图18为本实用新型实施例14中激光显微处理装置的工作原理示意图。

图19为本实用新型实施例15中测试架的使用状态参考图。

图20为本实用新型实施例16中衍射光栅的结构示意图。

图21为本实用新型实施例17中衍射光栅的结构示意图。

附图标记说明:

1—外壳; 2—衍射光栅; 3—激光入射窗;

4—激光出射窗; 5—冷却管道; 6—环形罩壳;

7—第一温度检测单元; 8—第二温度检测单元; 9—流量控制阀;

10—主控器; 11—压力检测单元; 12—流量检测单元;

13—真空泵; 14—衍射测量装置; 15—上位机;

16—液压泵; 17—激光探测设备; 18—X射线成像设备;

102—后侧激光聚焦装置; 104—准直器; 105—保护罩;

106—外侧光处理装置; 108—待测对象; 110—测试架;

114—前侧激光聚焦装置; 126—激光探测装置; 300—冷却管;

400—真空室; 402—激光入射口;

410—冷却液流通通道; 411—激光发生器; 500—水平圆形转盘;

501—圆柱形通道; 502—第一水平腔;

503—第一竖向下放管道; 504—圆形输送通道;

505—竖直向下放机构; 506—水平固定通道; 507—水平平移通道;

508—第二竖向下放管道; 509—转动圆环;

510—第二水平腔; 511—三角形输送板; 512—竖向转盘;

513—平直通孔; 514—竖向转动环; 515—竖向存放腔;

516—水平旋转盘; 517—水平旋转轴; 518—水平旋转机构;

519—水平放置架; 520—运送机器人; 521—喷射器;

522—竖向固定环。

具体实施方式

实施例1

如图1、图2-1及图3所示,本实用新型包括将待测对象108逐一送至待检位的自动供给装置、用于将激光束聚焦于被检对象上的后侧激光聚焦装置102和位于后侧激光聚焦装置102前方的后续激光处理装置,所述被检对象为位于所述待检位上的待测对象108;所述待检位为后侧激光聚焦装置102的聚焦点;所述待检位位于后侧激光聚焦装置102前侧,所述后续激光处理装置位于所述待检位的正前方;所述自动供给装置位于所述待检位的一侧;

所述后续激光处理装置包括对所述激光束聚焦于所述被测对象后产生的外侧光线进行处理的外侧光处理装置106、对所述激光束聚焦于所述被测对象后产生的中部光束进行聚焦的前侧激光聚焦装置114和经前侧激光聚焦装置114聚焦后的光束进行检测的激光探测装置126,所述外侧光处理装置106位于所述被测对象的正前方,所述前侧激光聚焦装置114位于外侧光处理装置106的正前方或正后方,所述激光探测装置126位于前侧激光聚焦装置114的正前方;所述外侧光处理装置106为衍射装置。

实际使用时,所述自动供给装置为将置于测试架110上的待测对象108逐一送至所述待检位的测试架供给装置或将处于悬空状态的待测对象108逐一送至所述待检位的对象直接供给装置,所述测试架110为供一个所述待测对象108布设的支架。

本实施例中,所述自动供给装置为将处于悬空状态的待测对象108逐一送至所述待检位的对象直接供给装置。

为测试简便,可以在所述待检位的正下方布设一个测试架110,如图2-1所示;也可以不布设测试架110,如图1所示。

为操作简便,所述对象直接供给装置为将待测对象108在重力作用下下落至所述待检位的重力供给装置。并且,所述重力供给装置为旋转式重力供给装置,所述旋转式重力供给装置为竖向旋转重力供给装置或水平旋转重力供给装置。本实施例中,所述旋转式重力供给装置为水平旋转重力供给装置。实际使用时,所述对象直接供给装置也可以采用其它类型的自动供给装置,只需能将待测对象108逐一送至所述待检位即可。

如图1所示,所述水平旋转重力供给装置包括一个带有多个竖向下放通道的第一旋转式供给机构和布设于所述第一旋转式供给机构上方且将多个所述待测对象108逐一送入一个所述竖向下放通道的第一对象存放机构,所述第一对象存放机构呈竖直向布设;所述第一旋转式供给机构呈水平布设且其位于所述待检位上方,所述第一旋转式供给机构为能绕其中心轴线进行水平旋转并将一个所述竖向下放通道移动至所述待检位正上方的旋转机构,所述第一对象存放机构的底部出口位于所述待检位的正上方;多个所述竖向下放通道沿圆周方向均匀布设且其均布设于同一水平面上,所述竖向下放通道为将供待测对象108逐一下放并使各待测对象108在重力作用下下落至所述待检位的下放通道。

本实施例中,如图1所示,所述第一旋转式供给机构为水平圆形转盘500,所述竖向下放通道为上下均开口的圆柱形通道501,多个所述圆柱形通道501的高度均与水平圆形转盘500的高度相同。

实际使用时,所述第一旋转式供给机构也可以采用其它类型的水平旋转机构。

本实施例中,所述第一对象存放机构包括供待测对象108存放的第一水平腔502和安装第一水平腔502下方的第一竖向下放管道503,所述第一竖向下放管道503的上部开口与第一水平腔502底部所开的出口连通,所述第一竖向下放管道503底部装有对其底部出口进行开启或关闭控制的第一开关控制机构,通过所述第一开关控制机构实现对待测对象108进行逐一下放。所述第一竖向下放管道503位于所述待检位的正上方。

实际使用时,所述第一对象存放机构也可以采用其它类型的存放机构,只需能对多个所述待测对象108进行暂时存放并能对待测对象108进行逐一下放即可。

所述第一对象存放机构内所存放的待测对象108既可以为同一类型,也可以为不同类型。实际使用时,多个所述圆柱形通道501既可以为分别对多个不同类型的待测对象108进行下放的通道,也可以为对同一类型的待测对象108进行下放的通道。

由上述内容,本实施例中,采用本实用新型能简便、连续且快速完成同一类型的多个所述待测对象108的激光显微分析过程,也可以简便、连续且快速完成不同类型的多个所述待测对象108的激光显微分析过程。因而,为同一类型待测对象108的综合研究与不同类型待测对象108的综合研究均能提供直接、可靠的分析依据,如对同一类型待测对象108的平均结构研究、多个不同类型待测对象108的对比研究等。

所述后侧激光聚焦装置102、测试架110和所述后续激光处理装置组成激光显微处理装置。

实际使用时,所述前侧激光聚焦装置114位于外侧光处理装置106的正前方或正后方。

本实施例中,所述前侧激光聚焦装置114为位于外侧光处理装置106正后方的后聚焦装置,所述外侧光处理装置106的中部开有供所述中部光束通过的第一通孔。

如图2-1所示,本实用新型还包括真空室400,所述真空室400上设置有供所述激光束穿过的激光入射口402;所述后侧激光聚焦装置102、测试架110和所述后续激光处理装置均位于真空室400内,所述后侧激光聚焦装置102位于激光入射口402的正前方。

本实施例中,所述真空室400呈水平布设且其为圆柱形或正方体形状,所述激光入射口402位于真空室400的后侧壁中部。

为减少激光的功率损耗,所述真空室400的壳体上设置有冷却单元。

本实施例中,所述冷却单元为布设于真空室400的外壳上的冷却液流通通道410。

本实施例中,所述真空室400的壳体为双层壳体,所述冷却液流通通道410位于所述双层壳体之间的空腔内。

由于所述激光光源的光束尺寸明显大于待测对象108的尺寸,因而采用后侧激光聚焦装置102对所述激光束进行聚焦。为进一步减少激光功率损耗,所述后侧激光聚焦装置102的外侧布设有冷却管300,详见图4。

所述冷却液流通通道410的一端为进液端且其另一端为出液端,所述冷却管300的一端为进液端且其另一端为出液端,所述冷却液流通通道410和冷却管300的进液端均与冷却液存储装置的出液口连接且二者的出液端与所述冷却液存储装置的进液口连接。

如图5所示,所述前侧激光聚焦装置114包括外壳1和安装在外壳1内的激光聚焦组件,所述外壳1上设置有激光入射窗3和激光出射窗4,所述激光出射窗4和激光入射窗3分别位于所述激光聚焦组件的前后两侧;所述激光聚焦组件包括衍射光栅2和对衍射光栅2进行冷却的冷却装置,所述衍射光栅2为透射光栅且其为圆光栅;所述冷却装置包括布设在衍射光栅2周侧的冷却管道5。

本实施例中,所述冷却管道5的两端均伸出至外壳1外侧,所述冷却管道5的一端为进液端且其另一端为出液端,所述冷却管道5的进液端与冷却液存储装置的出液口连接,所述冷却管道5的出液端与所述冷却液存储装置的进液口连接。

本实施例中,所述冷却管道5沿衍射光栅2的外边缘线布设,所述激光聚焦组件还包括安装在衍射光栅2外侧的环形罩壳6,所述冷却管道5罩装在环形罩壳6内,所述环形罩壳6底部开有两个供冷却管道5两端穿出的通孔。

并且,所述外壳1底部开有两个供冷却管道5两端穿出的管道安装孔。

本实施例中,所述激光聚焦组件的数量为一个。

本实施例中,所述激光聚焦组件卡装在外壳1内,拆装非常简便。

实际使用时,所述激光聚焦组件也可以采用紧固件固定在外壳1内。

本实施例中,所述激光聚焦组件与外壳1呈垂直布设,所述激光入射窗3位于所述激光聚焦组件的正后方,所述激光出射窗4位于所述激光聚焦组件的正前方。

本实施例中,所述衍射光栅2包括光栅板,所述光栅板上设置有多道呈同心布设的圆形栅线;所述光栅板为圆形或正方形。

实际使用时,所述自动供给装置位于真空室400内或位于真空室400外侧。

本实施例中,所述自动供给装置位于真空室400外侧,所述真空室400上设置有供待测对象108输送的输送通道。

并且,所述输送通道呈竖直向布设且其位于所述待检位的正上方。

本实施例中,所述输送通道为与述第一竖向下放管道503呈同轴布设的圆形输送通道504,所述第一旋转式供给机构位于第一竖向下放管道503与圆形输送通道504之间。所述第一竖向下放管道503、所述第一旋转式供给机构和所述圆形输送通道504由上至下进行布设。

如图2-2所示,本实用新型还包括三个第一温度检测单元7和三个第二温度检测单元8,三个所述第一温度检测单元7分别对真空室400内部温度、后侧激光聚焦装置102的外侧壁温度和衍射光栅2的外侧温度分别进行实时检测,三个所述第二温度检测单元8分别对冷却液流通通道410、冷却管300和冷却管道5的出液端的冷却液温度进行实时检测。三个所述第一温度检测单元7和三个所述第二温度检测单元8均与主控器10,所述冷却液流通通道410、冷却管300和冷却管道5上均安装有由主控器10进行控制的电磁控制阀和液压泵16。

为减少热效应对激光带来的不良影响,将真空室400内部温度控制在20℃以下;并将后侧激光聚焦装置(102)的外侧壁温度和衍射光栅2的外侧温度均控制在4K~20K(即开尔文),在该温度下,能有效减少聚焦过程中对激光造成的损害,提高聚焦效果,以进一步提高激光显微的分辨率。

本实施例中,所述冷却液为液氮,也可以采用其它类型的冷却液。

为进一步减少激光的功率损耗,本实用新型还包括位于真空室400外侧且用于产生所述激光束的激光发生器411和与真空室400连接的抽真空设备,所述抽真空设备包括与真空室400上所开通孔连接的抽真空管道和多个由前至后安装于所述抽真空管道的真空泵13。

本实施例中,所述真空泵13的数量为三个。

实际使用时,可根据具体需要,对真空泵13的数量进行相应调整。

多个所述真空泵13组成多级抽真空系统,并将真空室400内的真空度进行调整为10Torr~13Torr,这样在保证聚焦后激光光斑尺寸为几纳米的同时,能有效减少激光聚焦过程中的功率损失

本实施例中,本实用新型还包括对外壳1内压力进行实时检测的压力检测单元11,所述冷却液流通通道410、冷却管300和冷却管道5上均装有流量检测单元12,所述压力检测单元11和流量检测单元12均与主控器10连接。

实际使用时,所述激光束照射在待测对象108上的照射时间为10s-17s,这样既可以使待测对象108向外爆炸,以便对内部细节结构进行阐明;并且爆炸持续时间内不会发生移动,同时也不会完全破坏待测对象108。

本实施例中,本实用新型还包括位于后侧激光聚焦装置102与测试架110之间的准直器104。

并且,所述准直器104位于真空室400内且其为针孔准直器。

同时,本实用新型还包括位于真空室400外侧且用于产生所述激光束的激光发生器411。

所述激光发生器411为激光光源,所述激光光源为利用激发态粒子在受激辐射作用下发光的电光源且其为一种相干光源。

实际使用时,所述激光光源可以为发生平行光线的平行光源,也可以为点光源,使用方式灵活。进入激光入射口402的所述激光束为平行光。

结合图2-2,本实用新型还包括对外侧光处理装置106处理后的光线进行探测的激光探测设备17,所述激光探测设备17位于外侧光处理装置106后侧。

所述激光探测设备17位于真空室400内。

并且,本实用新型还包括与所述激光探测设备17连接的衍射测量装置14。

所述外侧光处理装置106的后侧面为光接收面。本实施例中,所述光接收面为呈竖直向布设的平面。

本实施例中,所述外侧光处理装置106为衍射装置,并且外侧光处理装置106为衍射镜,所述衍射镜为平板镜且其呈竖直向布设。

同时,本实用新型还包括上位机15和与激光探测装置126连接的成像设备;

所述衍射测量装置14和所述成像设备均与上位机15连接。

相应地,所述主控器10与上位机连接。

本实施例中,所述激光发生器411为X射线发生器。

因而,所述激光束为X射线束。实际使用时,也可以采用其它类型的激光束。

本实施例中,所述X射线激光器为自由电子激光器、毛细管放电软X射线激光器、固体板条激光器、等离子体激光器等。实际使用时,所述激光发生器411也可以采用其它类型的软X射线激光器和硬X射线激光器。

本实施例中,所述激光探测设备17和激光探测装置126均为X射线探测设备,所述衍射测量装置14为X射线衍射测量装置,所述成像设备为X射线成像设备18;

本实施例中,所述测试架110呈竖直向布设。

由上述内容可知,采用本实用新型可同时获取所述激光束聚焦于待测对象108后产生的外侧光线和所述激光束聚焦于待测对象108后产生的中部光束,并能对所获取的外侧光线和所述中部光束分别进行处理。所述外侧光线和所述中部光束均为经待测对象108衍射或散射的光线。对比可知,由于所述外侧光线为经的衍射或散射角度更大,相应能传递待测对象108中较小尺度的细节结构信息;而完全穿过待测对象108且衍射或散射角度较小的所述中部光束,能传递待测对象108中较大尺度的结构信息,更倾向于用于获得低分辨率的影像数据。因而,所述衍射测量装置14将所获得的衍射数据同步传送至上位机15,同时所述成像设备将所获得的影像数据同步传送至上位机15,技术人员综合所接收到的衍射数据和影像数据,能更细致、完全地了解待测对象108的结构,从而提高激光显微系统性能。而现有的激光显微设备通常仅对所述中部光束进行处理,而忽略所述外侧光线,而性能差。

实施例2

如图6所示,本实施例中,与实施例1不同的是:所述重力供给装置为固定式重力供给装置。

所述固定式重力供给装置包括将多个所述待测对象108逐一下放并使各待测对象108在重力作用下下落至所述待检位的固定式下放机构,所述第一下放机构位于所述待检位一侧,所述固定式下放机构为L形且其包括第一竖向下放机构和位于所述第一竖向下放机构底部一侧的水平通道,所述水平通道位于所述待检位一侧且二者位于同一平面上,所述水平通道的出口与所述待检位正对;所述第一竖向下放机构内设置有一个或多个呈平行布设的第一竖向下放通道,所述第一竖向下放通道的底部出口均与所述水平通道的进口连通。

如图6所示,本实施例中,所述第一竖向下放机构为竖直向下放机构505,所述竖直向下放机构505的内腔通过隔板分隔为多个所述第一竖向下放通道。所述水平通道为水平固定通道506。每个所述第一竖向下放通道的上部均设置有对其进行开启或关闭控制的第二开关控制机构,通过所述第二开关控制机构实现对待测对象108进行逐一下放。

本实施例中,所述第一竖向下放通道的数量为三个。实际使用时,可根据具体需要,对所述第一竖向下放通道的数量进行相应调整。

实际使用时,多个所述第一竖向下放通道既可以为分别对多个不同类型的待测对象108进行下放的通道,也可以为对同一类型的待测对象108进行下放的通道。

本实施例中,所述自动供给装置位于真空室400内。

本实施例中,其余部分的结构、连接关系和工作原理均与实施例1相同。

实施例3

如图7所示,本实施例中,与实施例1不同的是:所述重力供给装置为平移式重力供给装置。

所述平移式重力供给装置包括呈水平布设且左右两侧均开口的平移通道、带动所述平移通道沿其中心轴线进行水平直线移动的平移驱动机构和多个均安装在所述平移通道上的第二竖向下放机构,每个所述第二竖向下放机构均为将多个所述待测对象108逐一下放并使各待测对象108在重力作用下下落至所述待检位的下放机构,每个所述第二竖向下放机构内均开有一个第二竖向下放通道,所述第二竖向下放通道的底部出口与所述平移通道内部相通;多个所述第二竖向下放机构均布设于同一竖直面上且其沿所述平移通道的中心轴线由前至后布设,所述待检位位于所述平移通道的中心轴线上。

实际使用时,通过水平移动所述平移通道,将一个所述第二竖向下放通道移动至所述待检位的正上方。

如图7所示,所述平移通道为水平平移通道507,所述水平平移通道507的直径足够大且其不影响所述激光束照射在位于所述待检位上的待测对象108上,并且水平平移通道507不影响所述激光束聚焦于待测对象108后产生的外侧光线和所述中部光束的传播。

本实施例中,所述第二竖向下放通道为第二竖向下放管道508且其数量为三个。

实际使用时,可根据需要,对所述第二竖向下放通道的数量进行相应调整。

实际使用时,多个所述第二竖向下放通道既可以为分别对多个不同类型的待测对象108进行下放的通道,也可以为对同一类型的待测对象108进行下放的通道。

本实施例中,所述自动供给装置位于真空室400内。

本实施例中,其余部分的结构、连接关系和工作原理均与实施例1相同。

实施例4

如图8所示,本实施例中,与实施例1不同的是:所述重力供给装置为所述旋转式重力供给装置,并且所述旋转式重力供给装置为竖向旋转重力供给装置。

本实施例中,所述竖向旋转重力供给装置为单对象供给装置。

所述单对象供给装置包括一个带有多个直线下放通道的第二旋转式供给机构和布设于所述第二旋转式供给机构上部且将多个所述待测对象108逐一送入一个所述直线下放通道的第二对象存放机构,所述第二对象存放机构呈竖直向布设且其位于所述第二旋转式供给机构的正上方;所述第二旋转式供给机构呈竖直向布设,所述第二旋转式供给机构为能绕其中心轴线进行竖向旋转的旋转机构,多个所述直线下放通道沿圆周方向均匀布设且其均布设于同一竖直面上,所述直线下放通道为将供待测对象108逐一下放并使各待测对象108在重力作用下下落至所述待检位的下放通道;所述第二对象存放机构的底部出口和每个所述直线下放通道的进口均位于所述第二旋转式供给机构的外边缘上;所述待检位位于所述第二旋转式供给机构的中心轴线上,每个所述直线下放通道的出口均与所述待检位正对。

本实施例中,如图8所示,所述第二旋转式供给机构为转动圆环509,所述待检位位于转动圆环509的中心轴线上;所述直线下放通道为均安装在转动圆环509内的三角形输送板511,多个所述三角形输送板511沿圆周方向均匀布设且其围成圆环状下放机构,所述圆环状下放机构的中部留有圆孔,所述待检位位于所述圆孔内。

实际使用时,通过竖向旋转所述转动圆环509,将一个所述三角形输送板511移动至所述待检位的正上方。

本实施例中,所述第二对象存放机构包括供待测对象108存放的第二水平腔510,所述第二水平腔510底部装有对其底部出口进行开启或关闭控制的第三开关控制机构,通过所述第三开关控制机构实现对待测对象108进行逐一下放。所述第二水平腔510的底部出口位于所述待检位的正上方。

实际使用时,所述第二对象存放机构也可以采用其它类型的存放机构,只需能对多个所述待测对象108进行暂时存放并能对待测对象108进行逐一下放即可。

所述第二对象存放机构内所存放的待测对象108既可以为同一类型,也可以为不同类型。实际使用时,多个所述直线下放通道既可以为分别对多个不同类型的待测对象108进行下放的通道,也可以为对同一类型的待测对象108进行下放的通道。

本实施例中,所述自动供给装置位于真空室400内。

本实施例中,其余部分的结构、连接关系和工作原理均与实施例1相同。

实施例5

如图9所示,本实施例中,与实施例4不同的是:所述第二旋转式供给机构为竖向转盘512,所述直线下放通道为竖向转盘512所开设的平直通孔513,所述竖向转盘512的中部开有圆形通孔,所述待检位位于所述圆形通孔内,多个所述平直通孔513均与所述圆形通孔连通。

为下放简便,每个所述平直通孔的外侧均设置有弧形进口。

实际使用时,通过竖向旋转所述竖向转盘512,将一个所述平直通孔513移动至所述待检位的正上方。

所述第二对象存放机构内所存放的待测对象108既可以为同一类型,也可以为不同类型。实际使用时,多个所述平直通孔513既可以为分别对多个不同类型的待测对象108进行下放的通道,也可以为对同一类型的待测对象108进行下放的通道。

本实施例中,其余部分的结构、连接关系和工作原理均与实施例4相同。

实施例6

如图10所示,本实施例中,与实施例4不同的是:所述竖向旋转重力供给装置为多对象供给装置;

所述多对象供给装置包括多个将待测对象108逐一下放并使各待测对象108在重力作用下下落至所述待检位的第三对象存放机构和带动多个所述第三对象存放机构同步进行旋转并将一个所述第三对象存放机构的底部出口移动至所述待检位正上方的竖向旋转机构,多个所述第三对象存放机构沿圆周方向布设在所述竖向旋转机构的同一横断面上,多个所述第三对象存放机构均安装在所述竖向旋转机构上,所述竖向旋转机构为布设在所述待检位外侧的空心结构,所述待检位位于所述竖向旋转机构的中心轴线上,多个所述第三对象存放机构均与所述待检位布设于同一平面上。

本实施例中,如图10所示,所述竖向旋转机构为竖向转动环514,多个所述第三对象存放机构呈均匀布设且其均位于竖向转动环514外侧,多个所述第三对象存放机构和所述竖向转动环514均位于同一竖直面上。

本实施例中,所述第三对象存放机构包括供待测对象108存放的竖向存放515,所述竖向存放腔515底部装有对其底部出口进行开启或关闭控制的第四开关控制机构,通过所述第四开关控制机构实现对待测对象108进行逐一下放。

实际使用时,通过竖向旋转所述竖向转动环514,将一个所述第三对象存放机构(即竖向存放腔515)移动至所述待检位的正上方,此时该竖向存放腔515的底部出口与所述待检位正对。

每个所述第三对象存放机构内所存放的待测对象108均为同一类型;多个所述第三对象存放机构内所存放的待测对象108既可以为同一类型,也可以为不同类型。

本实施例中,其余部分的结构、连接关系和工作原理均与实施例4相同。

实施例7

如图11所示,本实施例中,与实施例1不同的是:所述自动供给装置为将置于测试架110上的待测对象108逐一送至所述待检位的测试架供给装置。

所述测试架供给装置为同步移动式供给装置或架体移动式供给装置。本实施例中,所述测试架供给装置为同步移动式供给装置。

所述同步移动式供给装置包括能带动多个所述测试架110同步移动并将多个所述测试架110上的待测对象108逐一送至所述待检位的架体位置调节机构,多个所述测试架110均固定安装在所述架体位置调节机构上,所述架体位置调节机构位于所述待检位的一侧。

如图11所示,本实施例中,所述同步移动式供给装置为同步水平旋转式供给装置。所述架体位置调节机构为能在水平面上进行旋转的水平旋转盘516,多个所述测试架110均布设在水平旋转盘516上且其布设于同一水平面上,多个所述测试架110沿圆周方向均匀布设。

所述水平旋转盘516位于所述待检位下方,实际使用时,通过水平旋转所述水平旋转盘516,将一个所述测试架110上的待测对象108移动至所述待检位上。

实际使用过程中,多个所述测试架110上的待测对象108既可以为同一类型,也可以为不同类型。

实际使用时,所述同步移动式供给装置也可以为同步水平移动式供给装置,所述同步水平移动式供给装置中所述架体位置调节机构为水平移动架,多个所述测试架110呈竖直向布设且其均布设于同一水平面上,多个所述测试架110均安装于所述水平移动架上且其均位于同一竖直面上;通过水平移动所述水平移动架将一个所述测试架110上的待测对象108移动至所述待检位上。本实施例中,所述水平移动架位于所述待检位下方。

本实施例中,所述自动供给装置位于真空室400内。

本实施例中,其余部分的结构、连接关系和工作原理均与实施例1相同。

实施例8

如图12所示,本实施例中,与实施例7不同的是:所述同步移动式供给装置为同步竖向旋转式供给装置。

所述同步竖向旋转式供给装置中所述架体位置调节机构为呈水平布设且能绕其中心轴线进行竖向旋转的水平旋转轴517,多个所述测试架110沿圆周方向布设在所述水平旋转轴517的同一个横断面上,多个所述测试架110均位于水平旋转轴517外侧。所述水平旋转轴517位于所述待检位下方。实际使用时,通过竖向旋转水平旋转轴517,将一个所述测试架110上的待测对象108移动至所述待检位上。

本实施例中,其余部分的结构、连接关系和工作原理均与实施例7相同。

实施例9

如图13所示,本实施例中,与实施例7不同的是:所述同步移动式供给装置为同步混合移动式供给装置。

所述同步混合移动式供给装置中所述架体位置调节机构为能绕其中心轴线进行竖向旋转并能沿其中心轴线进行前后移动的水平旋转机构518,多个所述测试架110沿水平旋转机构518的中心轴线由前至后分为多组;每组所述测试架110均包括沿圆周方向布设在水平旋转机构518的同一个横断面上的多个所述测试架110,每组所述测试架110中的多个所述测试架110均位于水平旋转机构518外侧。所述水平旋转机构518位于所述待检位下方。实际使用时,通过水平前后移动水平旋转机构518,能将一组所述测试架110移动至所述待检位的正下方。并且,通过竖向旋转水平旋转机构518,将位于所述待检位上正下方的一个所述测试架110上的待测对象108移动至所述待检位上。

本实施例中,其余部分的结构、连接关系和工作原理均与实施例7相同。

实施例10

如图14所示,本实施例中,与实施例7不同的是:所述测试架供给装置为架体移动式供给装置。

所述架体移动式供给装置包括供多个所述测试架110放置的架体放置机构和对所述架体放置机构上的测试架110进行逐一移动并将所移动测试架110上的待测对象108移送至所述待检位的架体移动机构,所述架体移动机构位于所述待检位的一侧,所述架体移动机构位于所述架体放置机构的一侧。

如图14所示,所述架体放置机构为水平放置架519,所述水平放置架的位置固定不动。所述架体移动机构为带有能对测试架110进行夹持的夹持机构的运送机器人520。实际使用时,通过控制运送机器人520的移动位置,将运送机器人520夹持的一个所述测试架110上的待测对象108移动至所述待检位上。

本实施例中,其余部分的结构、连接关系和工作原理均与实施例7相同。

实施例11

如图15-1、图15-2所示,本实施例中,与实施例1不同的是:所述对象直接供给装置为喷射供给装置。所述喷射供给装置为固定式喷射供给装置。

所述固定式喷射供给装置为单对象喷射供给装置或多对象喷射供给装置。所述单对象喷射供给装置包括一个将多个所述待测对象108逐一喷射至所述待检位的第一喷射机构,所述第一喷射机构位于所述待检位一侧,所述第一喷射机构的喷射口与所述待检位正对。其中,所述第一喷射机构为喷射器521。因而,所述单对象喷射供给装置的结构非常简单,只需在所述待检位一侧布设一个喷射器521并使喷射器521的喷射口与所述待检位正对即可。实际使用时,控制该喷射器521将待测对象108逐一喷射至所述待检位,使用操作非常简便。

本实施例中,所述固定式喷射供给装置为多对象喷射供给装置。

所述多对象喷射供给装置包括固定环和多个将待测对象108逐一由外向内喷射至所述待检位的第二喷射机构,多个所述第二喷射机构沿圆周方向布设在同一竖直面上,多个所述第二喷射机构均安装在所述固定环上,所述固定环呈竖直向布设;每个所述第二喷射机构的喷射口均朝内,每个所述第二喷射机构的喷射口与所述待检位正对;所述待检位位于所述固定环的中心轴线上。

如图15-1、图15-2所示,所述固定环为竖向固定环522,所述竖向固定环522固定在真空室400上。所述第二喷射机构为喷射器521。实际使用时,控制一个所述第二喷射机构将待测对象108逐一喷射至所述待检位,使用操作非常简便。

实际使用过程中,多个所述第二喷射机构所喷射的待测对象108既可以为同一类型,也可以为不同类型。

实际使用时,所述喷射供给装置也可以为平移式喷射供给装置、旋转式喷射供给装置或混合式喷射供给装置。

所述平移式喷射供给装置包括平移结构和多个布设于同一直线上且将待测对象108逐一喷射至所述待检位的第三喷射机构,多个所述第三喷射机构均呈平行布设且其喷射口均朝向所述待检位,多个所述第三喷射机构均安装在所述平移结构上且其均位于同一平面上;所述平移结构位于所述待检位一侧,所述平移结构为带动多个所述第三喷射机构同步进行直线移动并将一个所述第三喷射机构的喷射口移动至与所述待检位正对的直线移动机构。所述平移式喷射供给装置的结构非常简单,所述第三喷射机构为喷射器521,所述平移结构既可以为仅能在一个直线上进行左右移动的直线移动机构,也可以为能进行左右移动也能进行前后移动的组合式移动机构。当所述平移结构为所述直线移动机构时,多个所述第三喷射机构均布设在同一直线上且其沿所述直线移动机构的移动方向由左至右进行布设。当所述平移结构为所述组合式移动机构时,多个所述第三喷射机构分多排多列进行布设。

所述旋转式喷射供给装置包括多个将待测对象108逐一由内向外喷射至所述待检位的第四喷射机构和带动多个所述第四喷射机构同步进行旋转并将一个所述第四喷射机构的喷射口移动至与所述待检位正对的第一旋转机构,多个所述第四喷射机构沿圆周方向布设在所述第一旋转机构的同一横断面上,多个所述第四喷射机构均安装在所述第一旋转机构上,每个所述第四喷射机构的喷射口均朝外,所述第一旋转机构位于所述待检位一侧,多个所述第四喷射机构均与所述待检位布设于同一平面上。所述第四喷射机构为喷射器521,所述旋转式喷射供给装置的结构简单,只需将图12所示的所述同步竖向旋转式供给装置中水平旋转轴517上的测试架110替换为喷射器521即可。

所述混合式喷射供给装置包括多组将待测对象108逐一由内向外喷射至所述待检位的第五喷射机构、带动多组所述第五喷射机构同步进行旋转的第二旋转机构和带动所述第二旋转机构沿其旋转轴线进行前后移动的第一前后平移机构,多组所述第五喷射机构均安装在所述第二旋转机构上,多组所述第五喷射机构沿所述第二旋转机构的旋转轴线由前至后布设,每组所述第五喷射机构均包括多个沿圆周方向布设在所述第二旋转机构的同一横断面上的所述第五喷射机构,每个所述第五喷射机构的喷射口均朝外,所述第二旋转机构位于所述待检位一侧;所述第二旋转机构安装在所述第一前后平移机构上且二者组成将一个所述第五喷射机构的喷射口移动至与所述待检位正对的组装式移动机构。所述第五喷射机构为喷射器521,所述混合式喷射供给装置的结构也非常简单,只需将图13所示的所述同步混合移动式供给装置中水平旋转机构518上的测试架110替换为喷射器521即可。

本实施例中,所述自动供给装置位于真空室400内。

本实施例中,其余部分的结构、连接关系和工作原理均与实施例1相同。

实施例12

如图16所示,本实施例中,与实施例1不同的是:所述光接收面为曲面,所述待测对象108与所述光接收面上各位置处的间距均相同。

这样,经待测对象108衍射或散射的各个角度的外侧光线到达所述光接收面的距离均相等,因而能进一步提高激光显微系统性能。

本实施例中,其余部分的结构、连接关系和工作原理均与实施例1相同。

实施例13

如图17所示,本实施例中,与实施例1不同的是:所述前侧激光聚焦装置114为位于外侧光处理装置106正前方的前聚焦装置,所述激光探测装置126为位于外侧光处理装置106正后方的第一激光探测装置;所述外侧光处理装置106的中部开有供经前侧激光聚焦装置114聚焦后的光束通过的第二通孔。

本实施例中,其余部分的结构、连接关系和工作原理均与实施例1相同。

实施例14

如图18所示,本实施例中,与实施例1不同的是:所述前侧激光聚焦装置114为位于外侧光处理装置106正前方的前聚焦装置,所述激光探测装置126为安装于外侧光处理装置106上的第二激光探测装置;所述外侧光处理装置106的中部开有供前侧激光聚焦装置114安装的第三通孔。

本实施例中,其余部分的结构、连接关系和工作原理均与实施例1相同。

实施例15

如图19所示,本实施例中,与实施例1不同的是:为保护待测对象108,在待测对象108外侧罩装有保护罩105,所述保护罩105的前侧开有光入射口且其后侧开有光出射口。

本实施例中,其余部分的结构、连接关系和工作原理均与实施例1相同。

实施例16

如图20所示,本实施例中,与实施例1不同的是:所述衍射光栅2的光栅板上贴有不透光薄膜(也称掩膜),所述不透光薄膜的中部开有一个中心圆孔,所述不透光薄膜上还开有多个呈同心布设的圆环形孔,多个所述圆环形孔均布设于所述中心圆孔外侧,多个所述圆环形孔均与所述中心圆孔呈同轴布设且其宽度由外至内逐渐减小。

本实施例中,其余部分的结构、连接关系和工作原理均与实施例1相同。

实施例17

如图21所示,本实施例中,与实施例1不同的是:所述衍射光栅2的光栅板上贴有不透光薄膜(也称掩膜),所述不透光薄膜的中部开有一个圆形中心孔,所述不透光薄膜上由内至外开有多组外侧圆孔,每组所述外侧圆孔均包括多个沿圆周方向均匀布设的外侧圆孔。

本实施例中,所述不透光薄膜上开有两组所述外侧圆孔。实际使用时,可根据具体需要,对所述外侧圆孔的组数和各组所述外侧圆孔的布设位置分别进行相应调整。

本实施例中,其余部分的结构、连接关系和工作原理均与实施例1相同。

以上所述,仅是本实用新型的较佳实施例,并非对本实用新型作任何限制,凡是根据本实用新型技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、变更以及等效结构变化,均仍属于本实用新型技术方案的保护范围内。

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