一种基于光参量放大的光学元件损伤检测装置的制作方法

文档序号:17906428发布日期:2019-06-14 22:15阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种基于光参量放大的光学元件损伤检测装置,其特征在于:所述的检测装置分为泵浦光光路和信号光光路两部分;在泵浦光入射方向上,依次放置延迟器(1)和非线性晶体C1(2);泵浦光经过延迟器(1)后垂直入射到非线性晶体C1(2)中;在信号光入射方向上,放置被测样品S1(3);信号光在通过被测样品S1(3)的后表面损伤点时发生散射;在散射光光路内,放置正透镜Ⅰ(4);正透镜Ⅰ(4)对被测样品S1(3)进行成像,并将散射光变为平行光,同时按相位匹配角入射到非线性晶体C1(2)内;泵浦光与信号光在非线性晶体C1(2)内产生光放大信号;在放大信号出射方向上依次放置正透镜Ⅱ(5)和接收CCD(6);正透镜Ⅱ(5)作用是将平行光进行会聚,并将正透镜Ⅰ(4)对被测样品S1(3)成的像传递到接收CCD(6)上;所述的接收CCD(6)外接计算机,来自接收CCD(6)的信号最后进入计算机进行数据处理。

2.根据权利要求1所述的基于光参量放大的光学元件损伤检测装置,其特征在于:所述的非线性晶体C1(2)采用90°非共线Ⅰ类相位匹配,根据入射激光波长选用非线性晶体,所述的非线性晶体包括BBO、KDP、LBO。

3.根据权利要求1所述的基于光参量放大的光学元件损伤检测装置,其特征在于:所述的延迟器(1)包括反射镜Ⅰ(101)和反射镜Ⅱ(102),反射镜Ⅰ(101)与泵浦光入射方向呈45°,反射镜Ⅱ(102)与经反射镜Ⅰ(101)反射后的反射光呈45°。

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