1.一种标准容器,其特征在于,包括:
容器本体,所述容器本体设有存储腔及与所述存储腔相通的开口;及
箔片,所述箔片设有通孔,所述箔片盖设于所述开口处,并与所述容器本体密封设置,使得所述存储腔通过所述通孔与外部相通。
2.根据权利要求1所述的标准容器,其特征在于,所述箔片与所述容器本体之间设有第一密封层。
3.根据权利要求1所述的标准容器,其特征在于,还包括密封环,所述箔片通过所述密封环盖设于所述开口处。
4.根据权利要求3所述的标准容器,其特征在于,所述密封环设有安装腔、以及与所述安装腔相通的缺口,所述箔片与所述安装腔的底壁密封设置,且所述通孔朝向所述缺口设置,所述密封环通过所述安装腔套设于所述容器本体上,并与所述容纳本体密封连接。
5.根据权利要求4所述的标准容器,其特征在于,所述安装腔的侧壁与所述容器本体之间设有第二密封层,或/和所述密封环与所述容器本体螺接密封。
6.根据权利要求1所述的标准容器,其特征在于,所述通孔的孔径为0.01um~20um。
7.根据权利要求1至6任一项所述的标准容器,其特征在于,所述箔片的气体透过量小于10ml/m2.day;或容器本体上形成的泄露孔的孔径小于20um。
8.一种标准容器的制造方法,其特征在于,包括如下步骤:
取出箔片,并按照预设泄露量要求在所述箔片内进行通孔制作;
完成通孔制作后,对箔片的通孔的孔径进行检测,如满足预设孔径要求则执行下一步骤;如不满足预设孔径要求则返回上一步骤,重新打孔;
将满足预设孔径要求的所述箔片盖设于容器的开口处,所述通孔与所述容器的存储腔相通,所述箔片与所述容器本体密封设置。
9.根据权利要求8所述的标准容器的制造方法,其特征在于,将满足预设孔径要求的所述箔片盖设于所述容器的开口处的过程中,还包括将满足预设孔径要求的所述箔片安设于密封环上,并利用密封环将所述箔片盖设于所述容器的开口处。
10.一种仪器性能的检验方法,其特征在于,包括如下步骤:
取如权利要求1至7任一项所述的标准容器,并根据通孔的孔径大小及数量计算出该标准容器的标准泄露量;
将标准容器放置于检测仪的检测位置,并进行检测,通过检测仪获得检测泄露量;
将检测泄露量与标准泄露量大小进行对比,获得检验数据。