输入装置、显示装置以及电子设备的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及输入装置、显示装置、以及电子设备。
【背景技术】
[0002]以往，已知具备基体、和设置开口部的遮光层的输入装置。开口部例如具有给定的字符或图形的形状，具有通过透过从光源入射的光的一部分或全部来显示该字符或图形的功能(例如参考专利文献I)。
[0003]但是，在上述的输入装置中，在例如从光源入射的光的光量相对较大的情况下，有在位于开口部的外缘近旁的遮光层不能对该光进行充分遮光的可能性。若在位于开口部的外缘近旁的遮光层不能对该光进行充分遮光，则存在开口部的外缘被视觉辨识得模糊的可能性。
[0004]专利文献I JP特开2011-13761号公报
【发明内容】
[0005]发明的概要
[0006]本发明鉴于这样的状况而提出，其目的涉及能减少将开口部的外缘视觉辨识得模糊的可能性的输入装置、显示装置、以及电子设备。
[0007]本发明的输入装置中的I个方式具备:基体;第I遮光层，其设置在所述基体上，且具有开口部；和第2遮光层，其设置在所述第I遮光层上，且在俯视观察下位于包围所述开口部的位置。
[0008]本发明的显示装置中的I个方式具备:上述的输入装置；与所述输入装置对置而配置的显示面板；和收容该显示面板的第I筐体。
[0009]本发明的电子设备中的I个方式具备上述的显示装置，所述显示装置中的所述第I筐体作为电子设备用的筐体发挥功能。
[0010]本发明的电子设备中的其它方式具备:上述的显示装置；和收容所述显示装置的第2筐体。
【附图说明】
[0011]图1是表示本实施方式所涉及的输入装置的概略构成的俯视图。
[0012]图2是图1中所示的1-1线截面图。
[0013]图3是图1中所示的I1-1I线截面图。
[0014]图4是图1中所示的II1-1II线截面图。
[0015]图5是放大以图1中所示的一点划线包围的区域Al的俯视图。
[0016]图6是图5中所示的IV-1V线截面图。
[0017]图7是针对本实施方式所涉及的输入装置而确认效果的调查结果。
[0018]图8是表示本实施方式所涉及的显示装置的概略构成的俯视图。
[0019]图9是图8中所示的V-V线截面图。
[0020]图10是图8中所示的V1-VI线截面图。
[0021]图11是表示本实施方式所涉及的便携终端的概略构成的立体图。
[0022]图12是表示变形例I所涉及的输入装置的概略构成的俯视图。
[0023]图13是放大以图12中所示的一点划线包围的区域A2的俯视图。
[0024]图14是图13中所示的VI1-VII线截面图。
[0025]图15是表示变形例2所涉及的输入装置的概略构成的俯视图。
[0026]图16是图15中所示的VII1-VIII线截面图。
[0027]图17是放大以图15中所示的一点划线包围的区域A3的俯视图。
[0028]图18是图17中所示的IX-1X线截面图。
[0029]图19是表示变形例3所涉及的输入装置的概略构成的俯视图。
[0030]图20是图19中所示的X-X线截面图。
[0031]图21是放大以图19中所示的一点划线包围的区域A4的俯视图。
[0032]图22是图19中所示的X1-XI线截面图。
【具体实施方式】
[0033]以下参考附图来说明本发明的实施方式。
[0034]其中，以下参考的各图是为了说明的方便而简化示出本发明的一个实施方式的构成部件当中说明本发明所需要的主要部件的图。因此，本发明所涉及的输入装置、显示装置、以及电子设备能具备本说明书所参考的各图中未示出的任意的构成部件。
[0035]如图1所示那样，本实施方式所涉及的输入装置Xl是投影型的静电电容方式的触控面板，具有输入区域El以及非输入区域E2。输入区域El是能由使用者进行输入操作的区域。非输入区域E2是不能由使用者进行输入操作的区域。本实施方式所涉及的非输入区域E2包围输入区域El地位于该输入区域El的外侧。在本实施方式中，非输入区域E2是指在俯视观察下由后述的基体2的端面2C和第I遮光层6的内缘6A包围的区域。另外，非输入区域E2也可以位于输入区域El内。这种情况下，非输入区域E2是指俯视观察下被第I遮光层6的内缘6A和外缘6B包围的区域。
[0036]另外，输入装置Xl并不限于投影型的静电电容方式的触控面板，例如也可以是表面型的静电电容方式的触控面板、电阻膜方式的触控面板、表面弹性波方式的触控面板、光学方式的触控面板、或者电磁感应方式的触控面板。
[0037]另外，输入装置Xl并不限于上述的触控面板，也可以是解析使用者说出的声音信号来进行输入处理的声音认识装置、检测使用者的眼球的运动所引起的视线的变化来进行输入处理的视线输入装置、或者通过使用者的手势来进行输入处理的手势输入装置等其它各种输入装置。
[0038]输入装置Xl具备:基体2、第I检测电极图案3、第2检测电极图案4、绝缘体5、第I遮光层6、第I保护层7、检测用布线8、第2保护层9、第2遮光层10、以及保护薄片11。
[0039]首先，参考图1?图4来详细说明基体2、第I检测电极图案3、第2检测电极图案
4、以及绝缘体5。另外，在图1中，为了说明的方便，省略绝缘体5的图示。
[0040]基体2具有支承上述的各部件的作用。基体2具有第I主面2A、第2主面2B、以及端面2C。第I主面2A位于比第2主面2B更靠使用者侧的位置。第2主面2B位于第I主面2A的相反侧。端面2C位于第I主面2A与第2主面2B之间。另外，在本实施方式中，基体2在俯视观察下是矩形。由此，端面2C对应于俯视观察下的基体2的4个边而设置4个。另外，基体2例如也可以俯视观察下是椭圆形状或多边形状。
[0041]基体2具有绝缘性。基体2对在与第I主面2A以及第2主面2B交叉的方向上入射的光具有透光性。作为基体2的构成材料，例如能举出玻璃或塑料。
[0042]第I检测电极图案3在与接近于和输入区域El对应的基体2的第I主面2A的使用者的手指I之间产生静电电容，具有检测俯视观察下基体2的长边方向(图1中Y方向)上的输入位置的作用。第I检测电极图案3在与输入区域El对应的基体2的第2主面2B上，在Y方向上并排设置多个。另外，如图4所示那样，第I检测电极图案3的一部分以与后述的检测用布线8电连接为目的而位于从输入区域El跨到非输入区域E2的位置。第I检测电极图案3具有第I检测电极3a以及第I电极间布线3b。
[0043]第I检测电极3a具有在与使用者的手指I之间产生静电电容的作用。第I检测电极3a在俯视观察下在基体2的短边方向(图1中X方向)上并排设置多个。第I电极间布线3b具有将第I检测电极3a彼此电连接的作用。第I电极间布线3b设置在相互相邻的第I检测电极3a之间。
[0044]第2检测电极图案4在与接近和输入区域El对应的基体2的第I主面2A的使用者的手指I之间产生静电电容，具有检测X方向上的输入位置的作用。第2检测电极图案4在与输入区域El对应的基体2的第2主面2B上在X方向并排设置多个。另外，如图4所示那样，第2检测电极图案4的一部分以与后述的检测用布线8电连接为目的而位于从输入区域El跨到非输入区域E2的位置。第2检测电极图案4具有第2检测电极4a以及第2电极间布线4b。
[0045]第2检测电极4a具有在与使用者的手指I之间产生静电电容的作用。第2检测电极4a在Y方向上并排设置多个。第2电极间布线4b具有将第2检测电极4a彼此电连接的作用。第2电极间布线4b为了在相互相邻的第2检测电极4a之间与第I电极间布线3b电绝缘而跨绝缘体5设置在该绝缘体5上。在此，绝缘体5覆盖第I电极间布线3b地设置在基体2的第2主面2B上。作为绝缘体5的构成材料，例如能举出丙烯酸树脂、环氧树脂、硅树脂、二氧化硅或氮化硅等的透明树脂。
[0046]作为上述的第I检测电极图案3以及第2检测电极图案4的构成材料，能举出有透光性的导电性部件。作为有透光性的导电性部件，例如能举出IT0(Indium Tin Oxide,氧化铟锡)、IZO(Indium Zinc Oxide,氧化铟锋)、AZO(Al-Doped Zinc Oxide,招惨杂氧化锌)、氧化锡、氧化锌或导电性高分子。
[0047]作为第I检测电极图案3以及第2检测电极图案4的形成方法，例如通过溅射法、蒸镀法或CVD (Chemical Vapor Deposit1n,化学气相沉积)法将上述的材料成膜在基体2的第2主面2B上。然后，在该膜的表面涂布感光性树脂，经过曝光、显影、蚀刻工序来对膜进行图案形成，由此形成第I检测电极图案3以及第2检测电极图案4。
[0048]接下来，除了参考图1?图4以外还参考图5以及图6来详细说明第I遮光层6、第I保护层7、检测用布线8、第2保护层9、第2遮光层10、以及保护薄片11。另外，在图1中，为了说明的方便，省略第2遮光层10的图示。
[0049]第I遮光层6具有将非输入区域E2遮光的作用。由此第I遮光层6具有遮光性。另外，在本说明书中，所谓“遮光性”是指遮蔽入射的光的一部分或全部的性质。第I遮光层6设置在与非输入区域E2对应的基体2的第2主面2B上。具体地，第I遮光层6位于俯视观察下包围输入区域El的位置。在本实施方式中，将俯视观察下位于输入区域El侧的第I遮光层6的缘称作内缘6A。另外，将俯视观察下位于基体2的端面2C侧的第I遮光层6的缘称作外缘6B。
[0050]作为第I遮光层6的构成材料，能举出在树脂材料中包含着