角因此变化了如下量(Θ lu- θ lp)和(Θ 2u- θ 2p)。键帽510还沿压制方向(负Z方向)从未压制位置行进至压制位置。使用如图5A-B中所述的标记，键帽510运动的该竖直分量可表示为(hu-hp)。类似地，使用如图5A-B中所示的标记，从未压制位置到压制位置的键帽510运动的侧向分量可表不为(du-dp)。
[0060]因此，键帽510沿压制方向移动第一量，且沿正交于压制方向的侧向方向移动第二量。这些第一量和第二量可具有由组件的物理约束允许的任何比率。例如，一个可为另一个的几倍。在一些实施例中，沿压制方向的第一量至少与第二量相当，且不大于沿侧向方向的第二量的两倍。即，第一量等于或大于第二量，且小于或等于第二量的两倍。在一些实施例中，在压制方向上竖直向下的第一量范围在从0.5mm到1.4mm，且沿侧向的第二量范围在从0.25或0.30mm到0.7mm。特定的运动量由组件的特定设计限定。例如，键帽510、连杆机构531和532以及底座540的物理细节对运动施加了一些限制。在一些实施例中，这些或其它构件上的特征或附加构件或机构物理地限制了键帽510的运动。
[0061]角0lu，θ2υ, θ 1ρ, θ2ρ,可为由系统的物理极限允许的任何角。在一些实施例中，在未压制位置，第一连杆机构531或第二连杆机构532与底座540之间的角(Θ lu，Θ 2u)不小于四十五(45)度且小于六十五(65)度。S卩，0lu，02u中的一者或两者等于或大于45度。在一些实施例中，在压制位置，第一连杆机构531或第二连杆机构532与底座540之间的角(θ 1ρ, θ 2p)不小于负五(-5)度，且小于十五(15)度。S卩，Θ lu, Θ 211中的一者或两者等于或大于-5度。在许多实施例中，0lu，02u不小于零(O)度。在键组件500的各种实施例中，键帽行进通路和沿不同方向的相关联的位移分量可由91U，θ2υ, θ1ρ, θ2ρ的特定值以及各个连杆机构531，532的回转接头之间的距离限定。
[0062]在其它实施例中，相对于上文所述的连杆机构531，532来说的角、长度或距离中的一个或多个可为不同的且不相等的，使得键帽510的运动、角变化、行进的竖直分量或行进的侧向分量偏离上文所述的。在一些实施例中，键组件500的联动系统或其它构件构造成使得键帽510的第一部分的运动不同于键帽510的第二部分。这可通过许多方式来实现，包括使键帽510围绕一条或多条轴线旋转、将顺应性引入到键组件500的一个或多个构件以使得不是所有部分都随刚性本体运动进行移动，等等。
[0063]图5Α-Β并未示出键组件500的宽度(沿Y方向)，且将认识到的是，截面可为恒定的或在宽度上变化。例如，磁性耦合构件522，524可延伸跨过键帽510的宽度的仅一部分。作为另一个实例，键帽510的宽度可小于底座540的宽度。作为又一个实例，图5Α-Β中所示的连杆机构531的截面可部分地或完全地延伸跨过键帽510的宽度。即，连杆机构531可延伸键帽510的宽度的十分之一或八分之一，且仅位于键帽510的一(左)侧上；或者，连杆机构531可主要延伸跨过键帽510的宽度。类似的选择适用于连杆机构532。
[0064]在连杆机构531或连杆机构532延伸跨过仅穿过键帽510宽度的一部分的情况下，以及在连杆机构531，532仅为联接到键帽510和底座540上的ΡΤΕ530的仅部分的情况下，键帽510大体上具有更大的倾斜可能性。这较大程度地归因于键帽510的一侧上的支撑减小。因此，具有大致比键帽510的宽度更细的连杆机构531或532的多个实施例包括类似于键帽510的相对(右)边缘附近的键组件500的相对(右)侧上的较细的连杆机构的一个或多个附加的连杆机构(未示出)。在存在此类附加连杆机构的实施例中，关于角、长度、距离等的以上描述也同样适用。进一步参照图6到10论述包括延伸其相应的键帽的宽度的大部分的连杆机构的连杆机构的附加实例。
[0065]在一些实施例中，键组件500包括用于检测键帽510的压制状态的传感器(未示出)。传感器可使用任何适合的技术，包括本文所示的技术。例如，一个或多个电容传感器电极可设置成与键帽510间隔开，且用于检测由键帽510相对于电容传感器电极的位置变化引起的电容的变化。此外，传感器可构造成主动地检测键帽510的未压制和压制位置，或主动地检测仅压制状态(这假定，未检测到压制状态意味着键帽510未被压制)，或反之亦然。
[0066]结合图6-8，10来描述附加的示例性键组件和触摸表面组件。这些图省略了与键组件300，500中存在的类似构件相似的许多构件，且与那些键组件300，500的构件相关联的论述可类推至这些附加键或触摸表面组件。可被包括的示例性构件包括用于检测键压制的传感器、提供准备、返回或准备/返回功能的偏压机构，等。此外，针对键组件300，500所述的许多变型和备选方案也可适用于这些不同示例性组件的一些实施例。
[0067]图6示出了根据本文所述的技术的示例性触摸表面组件600的简化分解视图。如上文所述，为了清楚起见从图6省略了许多构件，且与键组件300，500相关联的大部分论述可被类推以应用于触摸表面组件600的部分。触摸表面组件600可用于实施类似于本文所述的键组件的键组件，或其可用于实施非键组件。
[0068]触摸表面组件600包括可压制的帽610、底座640和四个连杆机构631-634，其分别联接可压制帽610和底座640的不同部分。大体上，连杆机构631-634设置成跨越覆盖可压制的帽610的宽度(沿Y方向)和长度(沿X方向)的大部分的占地面积。这将连杆机构631和633定位在跨过第一键帽的宽度定位的相对的键帽边缘附近，且将连杆机构632和634定位在跨过第一键帽的宽度定位的相对的键帽边缘附近。
[0069]对于图6中所示的实例，任何适合的过程都可用于产生所示的构件。然而，底座640适于通过冲压或注入模制来产生，连杆机构631-634适于注入模制或铸造，且可压制的帽610适于注入模制。连杆机构631-634具有分别滑入轴承641-644中的延伸部635-638。轴承641-644形成在底座640中，且其分别与延伸部635-638的联接形成底座回转接头。连杆机构631-634还具有构造成分别捕集延伸部611-614的咬合凹部615-618，以形成可压制的帽回转接头。在操作期间，触摸表面组件600的不同部分类似于其在键组件500中的类似物来起作用。因此，连杆机构631-634相对于可压制的帽610和底座640旋转，且在压制位置与非压制位置之间引导可压制的帽。
[0070]图7示出了根据本文所述的技术的另一个示例性触摸表面组件700的简化分解视图。如上文所述，为了清楚起见从图7省略了许多构件，且与键组件300，500相关联的大部分论述可被类推以应用于触摸表面组件700的部分。触摸表面组件700可用于实施类似于本文所述的键组件的键组件，或其可用于实施非键组件。
[0071]触摸表面组件700包括可压制的帽710、底座740，以及两个’U’形连杆机构731，732。各个连杆机构731，732均联接到可压制的帽710和底座740的两个不同部分上。连杆机构731具有分别滑动到轴承741，743中的底座延伸部735，737。连杆机构732具有分别滑动到轴承742，744中的底座延伸部736，738。连杆机构731，732与轴承741-744的该联接形成了底座回转接头。该连杆机构731还构造成咬合轴承711，713，且连杆机构732还构造成咬合到咬合轴承712和714中。连杆机构731，732与咬合轴承711-714的该联接形成键帽回转接头。大体上，连杆机构731，732设置成跨越覆盖可压制的帽710的宽度和长度的大部分的占地面积。因此，可发现连杆机构731的部分在跨过可压制的帽710的宽度定位的相对的键帽边缘附近(且对于连杆机构731类似)。
[0072]对于图7中所示的实例，任何适合的过程可用于产生所示的构件。然而，底座740适于通过冲压产生，连杆机构731，732适于注入模制，且可压制的帽710适于注入模制。
[0073]图7中也示出了电容传感器的跨越电容传感器电极762，764，其构造成检测附接到可压制的帽710上的磁性耦合的构件722。当可压制的帽710在压制位置与未压制位置之间移动时，磁性耦合构件722改变由跨越电容传感器电极762，764检测到的电容耦合。在操作期间，通信地联接到跨越电容传感器电极762，764的处理系统(未示出)驱动它们以产生表示电容耦合的信号。该处理系统或进一步下游的处理器基于那些信号来确定可压制的帽710的压制状态。在操作期间，触摸表面组件700的其它部分类似于键组件500中的其类似物来起作用。
[0074]图8A-8B示出了根据本文所示的技术的实施例的使用成形线的触摸表面组件800的一部分。图8A示出了触摸表面组件800的简化分解视图，且图SB示出了从眼球890的位置来看的侧视图。如上文所述，为了清楚起见从图8省略了许多构件，且与键组件300，500相关联的大部分论述可被类推以应用于触摸表面组件800的部分。触摸表面组件800可用于实施类似于本文所述的键组件的键组件，或其可用于实施非键组件。
[0075]触摸表面组件800包括可压制的帽810、底座840，以及由成形线启用的两个连杆机构831，832。连杆机构831，832中的各个均联接到可压制的帽810和底座840的两个不同部分上。大体上，连杆机构831，832设置成跨越覆盖可压制的帽810的宽度(沿Y方向)和长度(沿X方向)的大部分的占地面积。
[0076]连杆机构831的部分已经滑动到唇部841和843下方的底切部中，所述底切部固持连杆机构831来分别形成底座回转接头871和873。连杆机构831的这些部分可称为〃底座联接部分〃。唇部841和843在形成于底座840中的凹穴845和847附近。如图8中所示，凹穴845和847在唇部841和843下方与底切部邻接，且由固持特征881分开。凹穴845和847有助于使连杆机构831分别与唇部841和843下方的底切部联接，而不会显著地偏转唇部841和843。因此，唇部841，843和其相应的底切部和底座840的其余部分并未显著地改变形状来容纳底座回转接头。凹穴845和847允许连杆机构831的第一变形部分位于凹穴845中，且然后在唇部841下