电容式触摸屏及其制作方法

文档序号:9235133阅读:287来源:国知局
电容式触摸屏及其制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及平板显示技术领域,尤其涉及一种电容式触摸屏及其制作方法。
【背景技术】
[0002]电容式触摸屏可分为表面电容式触摸屏和投射电容式触摸屏。表面电容式触摸屏仅能实现单点触控,而投射电容式触摸屏由于其可实现多点触控被广泛应用于各类电子产品中。
[0003]投射电容式触摸屏又分为单层或双层式,单层式的投射电容式触摸屏由于其具有工艺简单,透过率高且触控灵敏度高等优点而逐渐成为主流,其主要包括基板、第一感测电极层、第二感测电极层。第一感测电极层和第二感测电极层同时形成于基板的同一表面。第一感测电极层包括多条相互平行且间隔分布的第一感应电极串列,第二感测电极层包括多条相互平行且间隔分布的第二感应电极串列,且第一感应电极串列与第二感应电极串列在平行于基板的平面上的投影相垂直。每一第二感应电极串列被第一感应电极串列隔断为多个第二感应单元,并同一第二感应电极串列的多个第二感应单元通过第一连接串接在一起,第一连接与第一感测电极串列重叠处通过绝缘层绝缘开。
[0004]为了减小通道阻抗,目前常采用钥铝钥系列的搭桥结构,例如,专利号为201210454944.7,名称为“低金属光泽可视性的触摸屏的制作方法以及其产品”的专利公开了一种依序选用钥铌合金、铝、钥铌合金作为靶材溅射形成三层导电体而构成的桥接线路,然而,钥铝钥系列的第一连接成本较高,不符合市场化需求;另一方面,在形成钥铝钥系列第一连接时,其整体阻值较大,且为了满足阻值要求,必须增加其整体厚度,不利于触摸屏的轻薄化趋势。

【发明内容】

[0005]有鉴于此,本发明提供一种制作成本低,且阻值低的电容式触摸屏。
[0006]此外,还有必要提供一种上述电容式触摸屏的制作方法。
[0007]本发明提供的所述电容式触摸屏,包括一基板和多个第一连接,所述基板具有第一表面和形成有多个收容空间的第二表面,所述第一连接部分或全部形成于所述收容空间内,所述第一连接至少第一连接包括一第一功能层和第二功能层,所述第一功能层形成于所述第二表面,所述第二功能层形成于所述第一功能层上,所述第一功能层至少由具有良好结合性能的材料构成,所述第二功能层至少由具有良好导电性能的材料制成,且所述第二功能层的厚度至少大于所述第一功能层的厚度。
[0008]本发明提供的所述电容式触摸屏中,所述电容式触摸屏还包括形成在第一表面上的触控电极以及绝缘层,所述绝缘层形成于所述第一连接上,所述触控电极形成于所述第一表面上,所述触控电极包括多个电极单元,所述第一连接电性连接相邻的两所述电极单
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[0009]本发明提供的所述电容式触摸屏中,所述收容空间被垂直于所述第一连接和所述第一表面的平面所截的图形为一系列面积不等且均呈一侧开口的矩形,所述绝缘层完全覆盖所述第一连接,所述绝缘层具有远离所述第二表面的第三表面,所述第三表面到第一表面的距离大于或等于所述第一功能层和第二功能层的厚度;或者所述第三表面与所述第一表面位于同一平面。
[0010]本发明提供的所述电容式触摸屏中,所述第一表面包括第一区域和第二区域,所述第一区域位于所述第一表面的中央,所述第二区域环绕且邻接所述第一区域,所述电容式触摸屏还包括导电引线层,所述导电引线层在第一表面上的投影覆盖所述第二区域,所述触控电极和第一连接在第一表面上的投影覆盖所述第一区域,所述导电引线层和第一连接在冋一制程中一并制成。
[0011]本发明提供的所述电容式触摸屏中,第一功能层和第二功能层中均包含有同一种导电元素。
[0012]本发明提供的所述电容式触摸屏中,所述同一种导电元素为铜,所述第二功能层由金属铜制成,所述第一功能层由铜的复合金属氧化物制成。
[0013]本发明提供的所述电容式触摸屏中,所述第一连接还包括一第三功能层,所述第三功能层形成于所述第二功能层之上,所述第三功能层至少由具有保护性能的材料制成,且所述第三功能层完全覆盖所述第一功能层及第二功能层,所述第三功能层的膜厚范围为300-500 埃。
[0014]本发明提供的所述电容式触摸屏中,所述第三功能层为铜合金构成,或者所述第三功能层与第一功能层的材料相同,所述铜合金和铜的复合金属氧化物中至少包含一种耐腐蚀金属;所述第一功能层的膜厚范围为300-500埃,所述第二功能层的膜厚范围为800-1400 埃。
[0015]本发明提供的所述电容式触摸屏中,所述铜合金或铜的复合金属氧化物中,还包括镍,且所述铜的比例为50%至95%,所述镍的比例为49%至4%。
[0016]一种上述电容式触摸屏制作方法,其至少包括如下步骤:
[0017]提供一至少具有一第一表面和形成有多个收容空间的第二表面的基板;
[0018]在所述第二表面上一第一功能层,所述第一功能层至少由具有良好结合性能的材料构成;
[0019]在所述第一功能层上形成一第二功能层,所述第二功能层至少由具有良好导电性能的材料制成,且所述第二功能层的厚度至少大于所述第一功能层的厚度。
[0020]本发明提供的所述电容式触摸屏中,由于所述第一连接至少包括第一功能层和第二功能层,所述第一功能层由具有良好结合性的材料,例如铜的复合金属氧化物制成,所述第二功能层由具有良好导电性能的材料,例如铜制成,且所述第一功能层和第二功能层均包括同一种金属材料,因此相比于现有的钥铝钥系列的第一连接,降低了第一连接的整体阻值;另一方面,所述第一连接以金属铜为主材料形成,有利于降低制作成本。
【附图说明】
[0021]下面将结合附图及实施例对本发明作进一步说明,附图中:
[0022]图1为本发明提供的一较佳实施方式的电容式触摸屏的结构示意图;
[0023]图2为图1所示电容式触摸屏沿A-A方向的一截面示意图;
[0024]图3为图1所述电容式触摸屏制作方法流程图;
[0025]图4为图1所示电容式触摸屏沿A-A方向的另一较佳实施方式的截面示意图。
【具体实施方式】
[0026]为说明本发明提供的电容式触摸屏及其制作方法,以下结合说明书附图及文字说明进行详细阐述。
[0027]请参考图1和图2,其为本发明提供的一较佳实施方式的电容式触摸屏100的结构示意图以及所述电容式触摸屏沿A-A方向的一截面示意图,其至少包括一基板101,触控电极、绝缘层103以及第一连接11。
[0028]所述基板101至少具有一第一表面1la和形成有多个收容空间的第二表面101b,所述第一表面1la分别与多个所述第二表面1lb邻接,所述收容空间呈阵列的设置于所述基板101上,且任意相邻的两收容空间之间具有相同的间距。本实施方式中,所述收容空间被垂直于所述第一连接11和所述第一表面1la的平面所截的图形为一系列面积不等且呈一侧开口的矩形;所述收容空间被平行于所述第一连接且垂直所述第一表面1la的平面所截的图形为抛物线。所述第一表面1la为一平整且平滑的平面。在其他实施方式,第一表面还可以为曲面或不规则的表面;收容空间被垂直于第一连接和所述第一表面的平面所截的图形可为一系列面积相等且呈一侧开口的矩形;收容空间被平行于第一连接且垂直第一表面的平面所截的图形还可为呈一侧开口的矩形。所述基板101可由玻璃或者柔性材料制成。
[0029]所述触控电极形成于所述第一表面1la上,其包括多条第一电极串列111和多条第二电极串列121,多条所述第一电极串列111平行间隔设置,多条所述第二电极串列121平行间隔设置,所述第一电极串列111与所述第二电极串列121在第一表面1la上的投影相互垂直。每一所述第二电极串列121包括多个第二电极单元120和多个第二连接12,相邻的每两个第二电极单元120通过所述第二连接12电性相连;每所述第一电极串列111被所述第二电极串列121分割成多个第一电极单元110,每相邻两所述第一电极单元110通过所述第一连接11电性相连,所述第二电极单元120形成一连续的第二电极串列121,所述第一电极单元121形成一非连续的第一电极串列120。所述多条所述第一电极串列120和多条第二电极串列130由透明或者不透明导电材料例如氧化铟锡、金属、金属合金、石墨烯等材料制成。
[0030]所述第一连接11形成于所述收容空间内,本实施方式中,所述第一连接包括第一段11m、第二段I Ip和第三段I In,所述第二段Ilp形成于所述收容空间内,并连接所述第一段Ilm和第三段lln。所述第一段Ilm和第三段Iln形成于所述第一表面Ila上,并分别于一第一电极单元110电性连接。所述第一连接11包括第一功能层11a、第二功能层Ilb和第三功能层11c。所述第一连接11用于连接相邻的两第一电极单元121,并实现触控信号的传输。
[0031]所述第一功能层Ila形成于所述第二表面1la上,所述第一功能层Ila至少由具有良好结合性能的材料制成,本实施方式中,所述第一功能层Ila由氧化镍铜CuN1x (0<χ<1)构成,且所述铜的比例为50%至95%,所述镍的比例为49%至4%。在其他实施方式中,所述第一功能层Ila可由其他铜的复合金属氧化物构成,所述铜的复合金属氧化物至少包含镍、钛、锰、银、钼等中的一种或多种。所述第一功能层Ila既具有陶瓷的性质,又具有金属的性质,其对于由具有陶瓷性的氧化铟锡构成的第一电极单元110而言,所述第一功能层Ila—方面与基板101、两相邻的第一电极单兀110以及基板101之间有良好的附着性,另一方面与其上金属性的第二功能层Ilb亦有良好的附着性。所述第一功能层的膜厚范围为300-500
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