一种吸尘清洁键盘的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及计算机外设，尤其涉及一种吸尘清洁键盘。
【背景技术】
[0002]键盘是常用的计算机外设之一，在日常使用中，由于缺乏对键盘的清理，按键之间的缝隙内容易藏污纳垢，灰尘沙粒嵌入在按键之间的缝隙里，时间长了清洗难度更大，以往清理键盘往往是用抹布擦拭，但这只能清洁按键表面，缝隙里面的灰尘沙粒却清理不到，还有一种方式是通过将键盘翻转放置，使键盘内的灰尘沙粒通过重力自然下落，但是此种方式清理效果不理想。
【实用新型内容】
[0003]本实用新型目的在于，克服现有技术的不足之处，提供一种吸尘清洁键盘，不仅可以清理按键表面，还可以方便地将按键之间灰尘沙粒清理干净，清理效果理想，非常有益于推广使用。
[0004]本实用新型所述的一种吸尘清洁键盘，包括有底座、滑槽、按键区、手柄、滑块、伸缩杆、刷毛、握持纹、电源装置、吸尘装置和吸气孔。底座是本实用新型所述的一种吸尘清洁键盘的承载部件。所述底座上表面中间区域为按键区；按键区前后两侧设置有滑槽；通过滑槽设置有手柄；手柄内部设置有电源装置和吸尘装置；手柄下表面两端分别连接设置有一个伸缩杆；伸缩杆之间的手柄下表面设置有吸气孔和刷毛；所述伸缩杆底端连接设置有滑块，所述滑块嵌入在滑槽内；手柄外壁设置有握持纹，可提高握持手柄时的舒适度。在对键盘进行清理时，可将刷毛压在按键区，打开吸尘装置，通过吸气孔将按键之间的灰尘吸除。
[0005]本实用新型所述的一种吸尘清洁键盘，整体结构简单，操作使用方便，稳定性好，可靠性高，使用本实用新型所述的一种吸尘清洁键盘，不仅可以清理按键表面，还可以方便地将按键之间灰尘沙粒清理干净，清理效果理想，非常有益于推广使用。
【附图说明】
[0006]附图1是本实用新型所述的一种吸尘清洁键盘的结构示意图。附图2是本实用新型所述的一种吸尘清洁键盘的侧面结构示意图。附图3是手柄下表面结构示意图。
[0007]I 一底座2 —滑槽3 —按键区4 一手柄5 —滑块6 —伸缩杆7 —刷毛8 —握持纹9 一电源装置10—吸尘装置11 一吸气孔。
【具体实施方式】
[0008]现参照附图1、附图2和附图3，结合实施例说明如下:本实用新型所述的一种吸尘清洁键盘，包括有底座1、滑槽2、按键区3、手柄4、滑块5、伸缩杆6、刷毛7、握持纹8、电源装置9、吸尘装置10和吸气孔11。底座I是本实用新型所述的一种吸尘清洁键盘的承载部件。所述底座I上表面中间区域为按键区3 ;按键区3前后两侧设置有滑槽2 ;通过滑槽2设置有手柄4 ;手柄4内部设置有电源装置9和吸尘装置10 ;手柄4下表面两端分别连接设置有一个伸缩杆6 ;伸缩杆6之间的手柄4下表面设置有吸气孔11和刷毛7 ;所述伸缩杆6底端连接设置有滑块5，所述滑块5嵌入在滑槽2内；手柄4外壁设置有握持纹8，可提高握持手柄4时的舒适度。在对键盘进行清理时，可将刷毛7压在按键区3，打开吸尘装置10，通过吸气孔11将按键之间的灰尘吸除。本实用新型所述的一种吸尘清洁键盘，整体结构简单，操作使用方便，稳定性好，可靠性高，使用本实用新型所述的一种吸尘清洁键盘，不仅可以清理按键表面，还可以方便地将按键之间灰尘沙粒清理干净，清理效果理想，非常有益于推广使用。。
【主权项】
1.一种吸尘清洁键盘，包括有底座(1)、滑槽(2)、按键区(3)、手柄(4)、滑块(5)、伸缩杆(6)、刷毛(7)、握持纹(8)、电源装置(9)、吸尘装置(10)和吸气孔(11)，其特征在于，底座(1)是承载部件，底座(1)上表面中间区域为按键区(3)，按键区(3)前后两侧设置有滑槽(2)，通过滑槽(2)设置有手柄(4)，手柄(4)内部设置有电源装置(9)和吸尘装置(10)，手柄(4)下表面两端分别连接设置有一个伸缩杆(6)，伸缩杆(6)之间的手柄(4)下表面设置有吸气孔(11)和刷毛(7 )，伸缩杆(6 )底端连接设置有滑块(5 )，滑块(5 )嵌入在滑槽(2 )内，手柄(4 )外壁设置有握持纹(8 )。
【专利摘要】一种吸尘清洁键盘，包括有底座、滑槽、按键区、手柄、滑块、伸缩杆、刷毛、握持纹、电源装置、吸尘装置和吸气孔，底座上表面中间区域为按键区，按键区前后两侧设有滑槽，通过滑槽设有手柄，手柄内部设有电源装置和吸尘装置，手柄下表面两端设有伸缩杆，伸缩杆之间的手柄下表面设有吸气孔和刷毛，伸缩杆底端连接设有滑块，滑块嵌入在滑槽内，手柄外壁设置有握持纹。本实用新型所述的一种吸尘清洁键盘，整体结构简单，操作使用方便，稳定性好，可靠性高，使用本实用新型所述的一种吸尘清洁键盘，不仅可以清理按键表面，还可以方便地将按键之间灰尘沙粒清理干净，清理效果理想，非常有益于推广使用。
【IPC分类】B08B5/02, G06F3/02
【公开号】CN204965342
【申请号】CN201520767139
【发明人】郑海霞
【申请人】山东理工职业学院
【公开日】2016年1月13日
【申请日】2015年9月30日