专利名称：易清洁键盘的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及的是一种电脑输入设备，具体是一种在形状与构造上便于清洁的电脑键盘。背荣技术众所周知，电脑键盘是比较易脏和比较难清洁的电脑输入设备。目前解决电脑键盘清洁 问题的思路，基本上是以设计清洁用品为主。具体而言，目前解决电脑键盘清洁问题的方法， 一般可归纳有以下四种① 土办法。例如使用"抹布+棉签"法清洁键盘，抹布主要用于擦拭键盘壳及按键键帽的 上顶面，棉签主要用于擦拭按键键帽的各个侧面。② 专用清洁工具法。例如使用专利申请号为03241477.3所述的"键盘清洁消毒器"清 洁键盘。③ 吸尘法。例如使用一种市售的"USB键盘清洁器"清洁键盘。④ 防护套法。例如使用目前市售的，用橡胶或硅胶之类的弹性材料制成的"电脑键盘防 护套"，套罩键盘。上述四法中①法效率太低。②法需使用专门的清洁工具，效率也不高。③法只能吸去粉尘，不能擦除污渍。④法虽然可以保持键盘的整洁，却又另外多出了一个需要清洁的键盘防护套；另外，此法还存在影响使用手感，以及存在防护套易脏易坏等问题。 可以说，到目前为止,还没有比较好的方法来解决电脑键盘的清洁难问题。 下面结合《说明书附图》图1，从按键的结构上去分析普通电脑键盘之所以难清洁的深层次原因。图1是普通传统键盘的键帽的典型结构+清洁过程示意图。其中键(F1)、键(F2)、键(F3) 为相邻的按键；虚线(1)为按键(F1)未被按下时的位置，虚线(2)为按键(F2)被按下到位 后的位置；键帽的高度(a)等于虚线(l)和虚线(3)之高度差；按键的可按深度(b)等于虚 线(1)和虚线(2)之高度差；键帽的侧面倾斜度(A)- 60°角。 其清洁过程分析① 以海绵、抹布等为代表的清洁体(O)，在按压下键(F2)后，不能或很难继续向左右方向 移动清洁的原因，是被左边的键(F1)和右边的键(F3)明显横向阻挡住。在此情况下， 若进一步用力移动清洁体(O)擦抹，则可能会造成按键或者清洁体被损坏的后果。② 存在明显较深的键盘清洁盲区。发明人把键盘的清洁盲区定义为从按键的顶面位置 虚线(l)算起，键帽的高度(a)减去按键的可按深度(b)，得出的差(c)，贝ij(c)段对应 的键帽侧面区域，也即是虚线(2)位置以下的所有按键键帽区域，就是键盘的清洁盲区 区域。通常情况下，清洁体(O)受压变形后会相对有稍凸起的部分，这稍凸起的部分是 能够对深度较浅的清洁盲区进行清洁的，而对于较深的清洁盲区而言，比如本案例，则清洁不到。由于按键结构上的原因,普通传统键盘往往存在着较深的清洁盲区，这就 是目前普通传统键盘难以被清洁的根本原因。 发明内容为了解决电脑键盘难以清洁的问题，本实用新型提供了一种易清洁键盘，该键盘在设计 上引入易清洁设计理念，通过对键盘按键的外观形状，以及按键的可按深度的优化设计，来 达到键盘易于被清洁的目的。本实用新型键盘的结构包括壳体、按键及电子电路三个组成部分，这与普通传统键盘的 组成结构是相同的。而在设计中贯彻易清洁设计理念，针对按键的形状与构造，作特别便利 于键盘清洁的优化设计，则是本实用新型键盘与普通传统键盘的区别所在。本实用新型解决技术问题所采取的方案是-① 一方面，针对按键的键帽作特别的优化设计，使得键帽四周侧面的倾斜度(B)在35n角至 55°角范围之内，以倾斜度(8)在45°角至50°角范围之内为优选；② 另一方面，针对按键的可按深度作特别的优化设计，使得键帽的高度(d)与按键的可按 深度(e)的差值在0毫米至2毫米范围之内，以差值在0毫米至1. 5毫米范围之内为优选。采用本实用新型技术的键盘，其突出的好处是①键盘特别容易被清洁。比如，可用柠 干水的清洁布，通过简单的上下左右来回擦抹，就能够把键盘面，包括键帽的各个侧面，擦 拭干净。②节省材料成本。与普通传统键盘对比，该实用新型键盘键帽的高度相对较低，故 其生产时所耗用材料也相对要少。
图1是普通传统键盘的键帽的典型结构+清洁过程示意图。 图2是实施例1中的键盘键帽的结构+清洁过程示意图。
具体实施方式
除按键之外，本实用新型键盘与传统通用键盘的组成结构是可以相同的。因此，实施本 实用新型完全可以在传统通用键盘的基础上，再根据本实用新型所述的按键的特征，作出相 应的调整修改，就可以了。实例l:①把键帽的下底面设计成18X18毫米；②在键帽的四个侧面中，把背向使用者的一个侧面的倾斜度设计成50"角，而把其另外的三个侧面的倾斜度(B)设计成45°角；③把键 帽的高度(d)设计成4毫米；④把按键的可按深度(e)设计成4毫米；⑤对于键盘的其它方面的设计，可参照现有键盘的结构方式设计即可。下面结合《说明书附图》中的图2,分析本实用新型键盘的清洁过程图2中，键(F4)、键(F5)、键(F6)为相邻的三个按键；键帽高度(d)等于虚线(5)和虚线(6) 之高度差，按键的可按深度(e)等于虚线(6)和虚线(7)之高度差；键帽的侧面倾斜度(B)-458角。分析本例清洁过程-①以海绵、抹布等为代表的清洁体(O)，在按压下键(F5)后，可以比较容易地向前后左右移动清洁的原因，是当清洁体(0)碰触到周边的键，如本例的键(F4)或键(F6)时，由于其键 帽的侧面斜面倾斜度(B)较小，为45°角，故其能获得较大的向下作用力，使得按键被按压下去。② 也由于键帽的侧面倾斜度(B)较小，键帽对清洁体(O)的横向阻力也相对较小，故清洁体 可以比较容易地来回横向移动擦抹，而键盘也不易导致损坏。③ 根据前面关于键盘清洁盲区的定义，如果键帽的高度(d)减去按键的可按深度(e),得 出的差，等于或者几乎等于零，则就没有、或者几乎没有清洁盲区。本例中，键帽的高度 (d)为4毫米，按键的可按深度(e)也为4毫米，本例的清洁盲区的深度为4毫米一4毫米 =0毫米。由于本例没有清洁盲区，故用一块普通的抹布就能把键盘擦拭干净。实例2:在键盘的所有按键中，①针对最靠键盘四周边缘的按键的键帽作设计，使得其位 于键盘四周边缘一侧的侧面倾斜度为5(f角，而其它的侧面的倾斜度则为46"角；②针对非最 靠键盘四周边缘的按键键帽作设计，使得其键帽四周侧面的倾斜度为46°角。③把键帽的高度 设计成4毫米；④把按键的可按深度设计成3毫米；⑤对于键盘的其它方面的设计，可参照现有键盘的结构方式设计即可。 分析本例清洁情况本例的清洁盲区的深度为4毫米一3毫米=1毫米。通常情况下，清洁体(O)受压变形后 会相对有稍凸起的部分，这稍凸起的部分完全可以对深度较浅的清洁盲区进行清洁。故本 例虽有l毫米深的清洁盲区，但其仍然可以被清洁体擦拭干净。实例3:①把键帽的下底面设计成18X18毫米；②在键帽的四个侧面中，把背向使用者的一个侧面的倾斜度设计成50°角，而把其另外的三个侧面的倾斜度(B)设计成48°角；③把按键的可按深度设计成2毫米；④把键帽的高度设计成3毫米。⑤对于键盘的其它方面的设计，可参照现有键盘的结构方式设计即可。关于本实用新型实施的补充说明在实施本实用新型时，对于键帽四周侧面的倾斜度，并不要求一定对称相等，如可以是其中的二侧面为45。角，而另外的两个侧面是50°角；或者可以是其中的一面側为52°角，另 外的三侧面为45°角等。总之允许有多种不同的键帽侧面倾斜度的组合。
权利要求1. 一种易清洁键盘，其特征为键帽四周侧面的倾斜度(B)，在35°角至55°角范围之内；并且，键帽的高度(d)，与按键的可按深度(e)之差值在0毫米至2毫米范围之内。
专利摘要本实用新型涉及的是一种电脑输入设备，具体是一种在形状与构造上便于清洁的电脑键盘。本实用新型旨在克服现有通用电脑键盘由于形状与构造的原因，而直接导致的键盘不易被清洁的问题。该键盘由壳体、按键及电子电路三个部分组成，其特征在于键帽四周侧面的倾斜度(B)，在35°角至55°角范围之内；并且，键帽的高度(d)，与按键的可按深度(e)之差值在0毫米至2毫米范围之内。与现有通用电脑键盘相比，采用本实用新型技术的电脑键盘，其突出的好处是①键盘特别容易被清洁；②生产成本少。
文档编号H01H13/14GK201091027SQ20062006509
公开日2008年7月23日 申请日期2006年9月29日 优先权日2006年9月29日
发明者卢向勇 申请人:卢向勇