专利名称：光绘图碟片的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种光资讯储存媒体，特别是涉及一种光绘图碟片(PHOTODRAWING DISC)。
背景技术：
目前而言，消费者在选购光资讯储存媒体时，除了考量光资讯储存媒体储存资讯的容量之外，其外观也是吸引消费者购买的主要因素。
请参阅图1A所示，是一种现有习知的光资讯储存媒体的示意图。现有习知的光资讯储存媒体1，其是为一单面单层的数位影音光碟(DVD)，具有一第一基板11，而第一基板11上依序设有一记录积层12、一黏合层13，以及一第二基板14。一般来说，为了增进光资讯储存媒体1的外观变化，通常是将第二基板14利用塑胶染色的技术，使得第二基板14本身具有颜色。但是，第二基板14是由射出成形制成，所以第二基板14仅能形成单色单阶的变化，而无法具有更多视觉的效果。
请参阅图1B所示，是另一种现有习知的光资讯储存媒体的示意图。目前也有业者在第二基板14上，加设有一层颜料15，使用者可以自行利用印表机或其他绘图机，以各色油墨喷涂于底层15上而形成一图案层16，如此一来，使用者即可将自行设计图案设置于光资讯储存媒体1上。
然而，目前市售的能喷涂图案层16的印表机或是其他绘图机的价格并不便宜，且所使用的油墨等耗材更是所费不赀，这对想要自行设计图案层16的消费者来说，无疑是一大负担。另外，经过一段时间之后，图案层16也容易受外界氧化或其他因素的影响，而导致褪色、脱落，确实造成使用者的不便。
由此可见，上述现有的光资讯储存媒体在结构与使用上，显然仍存在有不便与缺陷，而亟待加以进一步改进。为了解决光资讯储存媒体存在的问题，相关厂商莫不费尽心思来谋求解决之道，但长久以来一直未见适用的设计被发展完成，而一般产品又没有适切的结构能够解决上述问题，此显然是相关业者急欲解决的问题。
有鉴于上述现有的光资讯储存媒体存在的缺陷，本发明人基于从事此类产品设计制造多年丰富的实务经验及专业知识，并配合学理的运用，积极加以研究创新，以期创设一种新型结构的光绘图碟片，能够改进一般现有的光资讯储存媒体，使其更具有实用性。经过不断的研究、设计，并经反复试作样品及改进后，终于创设出确具实用价值的本发明。
发明内容
本发明的目的在于，克服现有的光资讯储存媒体存在的缺陷，而提供一种新型结构的光绘图碟片，所要解决的技术问题是使其藉由光绘图积层的设置，使得使用者可以自行设计图案于光绘图碟片上，从而更加适于实用。
本发明的目的及解决其技术问题是采用以下技术方案来实现的。依据本发明提出的一种光绘图碟片，其包含一第一基板；一记录积层，是设于该第一基板上；一黏合层，是设于该记录积层上；一光绘图积层，是设于黏合层上；以及一第二基板，是设于该光绘图积层上。
本发明的目的及解决其技术问题还可采用以下技术措施进一步实现。
前述的光绘图碟片，其中所述第一基板或第二基板的材质是为一光学级高分子材质，其中该光学级高分子材质可为丙烯基系列、碳酸盐系列、苯乙烯系列、烯烃系列、或聚二甘醇双烷基碳酸酯系列。
前述的光绘图碟片，其中所述的第二基板是为一空白基板。
前述的光绘图碟片，其中所述的第二基板具有复数沟轨，各该沟轨的深度是介于20nm至200nm之间。
前述的光绘图碟片，其中所述的光绘图积层，其包含一散热层，是设置于该黏合层上；以及一绘图层，是设置于该散热层之上。
前述的光绘图碟片，其中所述的绘图层的厚度是介于30nm至280nm之间。
前述的光绘图碟片，其中所述的绘图层的材料是为偶氮金属染料，而厚度是介于50nm至180nm之间。
前述的光绘图碟片，其中所述的绘图层的材质是为甲川型染料，而厚度是介于140nm至160nm之间。
前述的光绘图碟片，其中所述的绘图层的材质是为钛菁染料、或花青素染料。
前述的光绘图碟片，其中所述的绘图层的材质是为具有一发色官能基的染料或颜料。
前述的光绘图碟片，其中所述的绘图层更包含一助色官能基，其中该助色官能基是为氨基、氢氧基、羧基或磺酸根。
前述的光绘图碟片，其中所述的光绘图积层更包含一抗反射层，其设置于该散热层与该绘图层之间。
前述的光绘图碟片，其中所述的抗反射层的厚度是大于1nm以上，而该抗反射层的折射系数是小于该绘图层的折射系数。
前述的光绘图碟片，其中所述的抗反射层的材质是为含硅化合物、含铝化物、硫化锌-二氧化硅、 五氧化二钽、 三氧化二铝、氧化锌-金属氧化物、氧化硅、氮化硅、碳化硅或氮氧化硅。
本发明与现有技术相比具有明显的优点和有益效果。由以上技术方案可知，为了达到上述目的，本发明提供了一种光绘图碟片，其包含一第一基板、一记录积层、一黏合层、一光绘图积层以及一第二基板。其中，该记录积层是设于第一基板上，黏合层是设于记录积层上，光绘图积层是设于黏合层上，第二基板是设于光绘图积层上。
借由上述技术方案，本发明光绘图碟片至少具有下列的优点本发明的光绘图碟片，当绘图激光射入光绘图积层时，绘图层是产生裂解而在光绘图碟片上产生图案的变化。如此一来，使用者即可将自行设计的图案绘制于光绘图碟片上。
此外，本发明的光绘图碟片，其制作方式以及绘图方式，是可利用既有的碟片制程技术以及烧录设备，而不需要额外添购其他设备或是变更现行的制程，因此无论是对于光绘图碟片或是日后的终端消费者而言，均可节省费用。
再者，本发明的形成于绘图层中的图案，其与现有习知技术中印刷于表面的图案相比较，也较不容易刮损，非常适于实用。
综上所述，本发明特殊结构的光绘图碟片，包含一第一基板、一记录积层、一黏合层、一光绘图积层及一第二基板。其中，记录积层是设置于第一基板上，黏合层是设置于记录积层上，光绘图积层是设置于黏合层上，第二基板是设置于光绘图积层上。藉由光绘图积层的设置，使得使用者可以自行设计图案于光绘图碟片上。其具有上述诸多优点及实用价值，不论在产品结构或功能上皆有较大改进，在技术上有较大进步，从而更加适于实用，而具有产业的广泛利用价值。
上述说明仅是本发明技术方案的概述，为了能够更清楚了解本发明的技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本发明的上述和其他目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举较佳实施例，并配合附图，详细说明如下。
图1A是一种现有习知的光资讯储存媒体的示意图。
图1B是另一种现有习知的光资讯储存媒体的示意图。
图2是本发明光绘图碟片的一示意图。
图3是本发明光绘图碟片的另一示意图。
1光资讯储存媒体11第一基板
12记录积层13黏合层14第二基板15颜料16图案层 2光绘图碟片21第一基板221记录积层222反射层 23黏合层24光绘图积层 241散热层242绘图层 243抗反射层25第二基板3记录激光4绘图激光 22记录积层具体实施方式
为更进一步阐述本发明为达成预定发明目的所采取的技术手段及功效，以下结合附图及较佳实施例，对依据本发明提出的光绘图碟片其具体实施方式
、结构、特征及其功效，详细说明如后。
请参阅图2所示，是本发明光绘图碟片的一示意图。本发明较佳实施例的光绘图碟片2，包含一第一基板21、一记录积层22、一黏合层23、一光绘图积层24，以及一第二基板25。本实施例中，该光绘图碟片2是以具有光绘图积层24的单面单层数位影音光碟(DVD)为例进行说明。
上述的第一基板21，其材质可以为光学级高分子的丙烯基(acrye)系列，例如聚合物甲基丙烯酸甲脂(polymethyl methacrylate，PMMA)、碳酸盐(ca rbona te)系列，例如聚碳酸脂(polycarbonate，PC)、苯乙烯(stryene)系列，例如聚苯乙烯(polystryene，PS)、烯烃(olefin)系列，例如聚烯烃(polyolefin，TPX or COC)、聚二甘醇双烷基碳酸酯(Polydiethylene glycol bis allylcarbon)系列，例如聚二甘醇双烷基碳酸酯(Polydiethylene glycol bis allylcarbon，PEDC)等。
上述的记录积层22，是设于第一基板21上。本实施例中，该记录积层22具有一设置于第一基板21的记录积层221，以及一设置于记录积层221上的反射层222。
上述的黏合层23，是设于记录积层22上，其是用以黏合记录积层22与光绘图积层24。
上述的光绘图积层24，是设于黏合层23上。本实施例中，该光绘图积层24具有一散热层241与一绘图层242。
该散热层241，是设于黏合层23上，其厚度是大于65nm以上。另外，该散热层241的材质可为纯铝、纯铜、纯银、铝合金、铜合金、银合金或是上述材料的合金。散热层241主要是充当绘图时的一散热媒介，协助绘图层242散热。
该绘图层242，是设于散热层241上，其厚度是介于30nm至280nm之间，且绘图层242设置于散热层241上的温度是控制在200℃以上。本实施例中，该绘图层242的材质是为偶氮金属染料(metal-AZO dye)，而其厚度是介于50nm至180nm之间。另外，该绘图层242的材质亦可为甲川型染料(methine dye)，此时，绘图层242的厚度是介于40nm至160nm之间。此外，本发明的绘图层242的材质亦可为钛菁染料(phthalocyanine dye)或花青素染料(cyanine oxanol dye)。
该绘图层242的材质可为具有一发色官能基(chromophor)的染料或颜料，而发色官能基可为羰基(carbonyl)、异氰基(isocyano)、氧化偶氮基(azoxy)、硝基(nitro)、偶氮基(azo)、硫碳基(thiocarbonyl)或亚硝基(nitroso)。当然，制成绘图层242的染料或颜料更可具有一助色官能基(auxochrome)，而该助色官能基可为氨基(amino)、氢氧基(hydroxy)、羧基(carboxyl)或磺酸根(sulfo)。
本实施例中的光绘图积层24更包含一抗反射层243，其是设于散热层241与绘图层242之间。抗反射层243的厚度是大于1nm以上，其折射系数是小于绘图层242的折射系数。抗反射层243的作用，亦为增加光绘图碟片2绘图前与绘图后的对比强度。
上述的第二基板25，是设于光绘图积层24上，其材质可为光学级高分子的丙烯基(acrye)系列，例如聚合物甲基丙烯酸甲脂(polymethylmethacrylate，PMMA)、碳酸盐(carbonate)系列，例如聚碳酸脂(polycarbonate，PC)、苯乙烯(stryene)系列，例如聚苯乙烯(polystryene，PS)、烯烃(olefin)系列，例如聚烯烃(polyolefin，TPXor COC)、聚二甘醇双烷基碳酸酯(Polydiethylene glycol bisallylcarbon)系列，例如聚二甘醇双烷基碳酸酯(Polydiethylene glycolbisallylcarbon，PEDC)等。本实施例中，第二基板25具有复数沟轨(图中未示)，各沟轨的深度是介于20nm至200nm之间。如此一来，光学读取头即可依循各沟轨而进行绘图的工作。当然，第二基板25亦可采取无沟轨的结构设计，仅须在第二基板25内圈靠近可读区(readable zone)附近更可设有一特殊编码，即可协助光学读写头定位。
本发明的光绘图碟片2的制作方式，是利用现有习知技术中数位影音光碟(DVD)的反转制程(Inverse Process)。请参阅图3所示，是本发明光绘图碟片的另一示意图。以下将具体叙述说明本发明光绘图碟片2的制作过程首先，在第一基板21上依序设置记录积层221与反射层222，使得该第一基板21上形成记录积层22。同时间，在第二基板25上依序设置绘图层242、抗反射层243，以及散热层241，使得该第二基板25上形成光绘图积层24。最后，再将黏合层23设于光绘图积层24的散热层241与记录积层22的反射层222之间，即完成本发明的光绘图碟片2的制作。也就是说，本实施例的光绘图碟片2在制造时，可以利用既有的碟片制造设备，而不需添购新的设备，故可以降低生产成本。
当使用者欲在光绘图碟片2记录资讯时，光学读写头的记录激光3由第一基板21处射入，即可在记录积层22处记录资讯，由于记录资讯的方式是为现有习知技术，故在此容不赘述。
另外，当使用者欲在光绘图碟片2绘制图案时，光学读写头的绘图激光4是由第二基板25处射入，也就是与平时记录资讯相反的方向，以进行光绘图碟片2的图案绘制。绘图激光4依序穿过第二基板25、绘图层242及抗反射层243，直至散热层241而将绘图激光4反射而出。
由于，第二基板25可为具有沟轨或无沟轨的结构，当第二基板25具有沟轨时，光学读取头是可对沟轨进行循轨的动作，同时，光学读取头产生的绘图激光4是裂解绘图层242的分子结构，使得光绘图碟片2产生颜色的变化。而且，依据绘图层242分子结构裂解程度的不同，使得光绘图碟片2的具有深浅颜色的不同，而形成不同的灰阶图案。另外，当第二基板25是为一空白基板(dummy substrate)而不具有沟轨的结构时，绘图激光4亦可以依据第二基板25内圈上的特殊编码而在光绘图碟片2上产生图案。
综上所述，本发明的光绘图碟片，当绘图激光射入光绘图积层时，绘图层是产生裂解而在光绘图碟片上产生图案的变化。如此一来，使用者即可将自行设计的图案绘制于光绘图碟片上。此外，本发明的光绘图碟片，其制作方式以及绘图方式，是可利用既有的碟片制程技术以及烧录设备，而不需要额外添购其他设备或是变更现行的制程，因此无论是对于光绘图碟片或是日后的终端消费者而言，均可以节省费用。再者，形成于绘图层中的图案，与现有习知技术中印刷于表面的图案相比较，也较不容易刮损，从而更加适于实用。
以上所述是为举例性，而非为限制性。以上仅是本发明的较佳实施例而已，并非对本发明作任何形式上的限制，虽然本发明已以较佳实施例揭露如上，然而并非用以限定本发明，任何熟悉本专业的技术人员，在不脱离本发明技术方案范围内，当可利用上述揭示的技术内容作出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例，但凡是未脱离本发明技术方案的内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本发明技术方案的范围内。
权利要求
1.一种光绘图碟片，其特征在于其包含一第一基板；一记录积层，是设于该第一基板上；一黏合层，是设于该记录积层上；一光绘图积层，是设于黏合层上；以及一第二基板，是设于该光绘图积层上。
2.根据权利要求1所述的光绘图碟片，其特征在于其中所述的第一基板或第二基板的材质是为一光学级高分子材质，其中该光学级高分子材质可为丙烯基系列、碳酸盐系列、苯乙烯系列、烯烃系列、或聚二甘醇双烷基碳酸酯系列。
3.根据权利要求1所述的光绘图碟片，其特征在于其中所述的第二基板是为一空白基板。
4.根据权利要求1所述的光绘图碟片，其特征在于其中所述的第二基板具有复数沟轨，各该沟轨的深度是介于20nm至200nm之间。
5.根据权利要求1所述的光绘图碟片，其特征在于其中所述的光绘图积层，其包含一散热层，是设置于该黏合层上；以及一绘图层，是设置于该散热层之上。
6.根据权利要求5所述的光绘图碟片，其特征在于其中所述的绘图层的厚度是介于30nm至280nm之间。
7.根据权利要求5所述的光绘图碟片，其特征在于其中所述的绘图层的材料是为偶氮金属染料，而厚度是介于50nm至180nm之间。
8.根据权利要求5所述的光绘图碟片，其特征在于其中所述的绘图层的材质是为甲川型染料，而厚度是介于140nm至160nm之间。
9.根据权利要求5所述的光绘图碟片，其特征在于其中所述的绘图层的材质是为钛菁染料、或花青素染料。
10.根据权利要求5所述的光绘图碟片，其特征在于其中所述的绘图层的材质是为具有一发色官能基的染料或颜料。
11.根据权利要求10所述的光绘图碟片，其特征在于其中所述的绘图层更包含一助色官能基，其中该助色官能基是为氨基、氢氧基、羧基或磺酸根。
12.根据权利要求5所述的光绘图碟片，其特征在于其中所述的光绘图积层更包含一抗反射层，其设置于该散热层与该绘图层之间。
13.根据权利要求12所述的光绘图碟片，其特征在于其中所述的抗反射层的厚度是大于1nm以上，而该抗反射层的折射系数是小于该绘图层的折射系数。
14.根据权利要求12所述的光绘图碟片，其特征在于其中所述的抗反射层的材质是为含硅化合物、含铝化物、硫化锌-二氧化硅、五氧化二钽、三氧化二铝、氧化锌-金属氧化物、氧化硅、氮化硅、碳化硅或氮氧化硅。
全文摘要
本发明是有关于一种光绘图碟片，包含一第一基板、一记录积层、一黏合层、一光绘图积层及一第二基板。其中，该记录积层是设置于第一基板上，黏合层是设置于记录积层上，光绘图积层是设置于黏合层上，第二基板是设置于光绘图积层上。当绘图激光射入光绘图积层时，绘图层是产生裂解而在光绘图碟片上产生图案的变化，使用者即可将自行设计的图案绘制于光绘图碟片上；其制作方式以及绘图方式可以利用既有的碟片制程技术及烧录设备，无论对光绘图碟片或是终端消费者而言均可节省费用；另外形成于绘图层中的图案与现有技术中印刷于表面的图案相比较，也较不容易刮损，更加适于实用。
文档编号G11B23/40GK1979658SQ20051013037
公开日2007年6月13日 申请日期2005年12月9日 优先权日2005年12月9日
发明者张汉宜, 蔡正原 申请人:精碟科技股份有限公司