用于自旋转矩振荡器的磁性盖层结构的制作方法

文档序号:12274088阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种磁记录头,包括:

主极,配置为产生用于在磁记录介质上记录数据的磁场;

振荡装置,在磁道方向上设置在所述主极上方,所述振荡装置配置为产生高频率磁场;

磁性盖层,在所述磁道方向上设置在所述振荡装置上方,所述磁性层具有位于所述磁记录头的面对介质侧的前区,以及在元件高度方向上设置在所述前区的后面的后区,其中所述磁性盖层的前区的厚度小于所述磁性盖层的后区的厚度;以及

在所述磁道方向上设置在所述磁性盖层上方的尾部屏蔽件。

2.如权利要求1所述的磁记录头,其中所述磁性盖层的前区的厚度在从大约4nm至小于大约25nm的范围中。

3.如权利要求1所述的磁记录头,其中所述磁性盖层的后区的厚度在从大于大约4nm至大约25nm的范围中。

4.如权利要求1所述的磁记录头,其中所述磁性盖层包括一种或多种磁性材料。

5.如权利要求1所述的磁记录头,其中所述磁性盖层包括至少一种与尾部屏蔽件共有的磁性材料。

6.如权利要求1所述的磁记录头,其中所述磁性盖层包括镍、铁和钴中的至少一种。

7.如权利要求1所述的磁记录头,还包括设置在所述尾部屏蔽件和所述磁性盖层之间的尾部屏蔽件籽层。

8.如权利要求1所述的磁记录头,其中所述磁性盖层的上表面的至少一部分相对于所述磁记录头的沉积平面以大于0°且小于90°的第一倾角成角。

9.如权利要求8所述的磁记录头,其中所述磁性盖层的上表面实质上沿一平面分布,所述平面从所述面对介质侧沿所述元件高度方向以所述第一倾角倾斜。

10.如权利要求8所述的磁记录头,其中所述磁性盖层的下表面相对于所述磁记录头的沉积平面以第二倾角成角,其中所述第二倾角小于所述第一倾角。

11.如权利要求1所述的磁记录头,其中所述振荡装置包括自旋转矩振荡器。

12.如权利要求1所述的磁记录头,其中所述振荡装置在所述元件高度方向上具有均匀的厚度。

13.如权利要求1所述的磁记录头,还包括绝缘层,所述绝缘层的部分在所述元件高度方向上设置在所述振荡装置和所述磁性盖层的后面。

14.如权利要求13所述的磁记录头,其中所述绝缘层包括氧化铝。

15.一种磁数据存储系统,包括:

至少一个如权利要求1所述的磁记录头;

磁介质;

驱动机构,用于使所述磁介质经过所述至少一个磁记录头之上;以及

电耦合至所述至少一个磁记录头的控制器,用于控制所述至少一个磁记录头的运行。

16.一种形成磁记录头的方法,包括:

形成主极,所述主极配置为产生用于在磁记录介质上记录数据的磁场;

在磁道方向上在所述主极上方形成振荡装置;

在所述磁道方向上在所述振荡装置上方形成磁性盖层,其中所述磁性层配置为保持所述振荡装置的厚度;

限定所述振荡装置的条带高度以及所述磁性盖层的条带高度;

在元件高度方向上在所述振荡装置和所述磁性盖层的后面沉积绝缘层;以及

清洁所述磁性盖层的上表面以及所述绝缘层的上表面,

其中在所述清洁之后,所述磁性盖层的前区的厚度小于所述磁性盖层的后区的厚度,所述前区设置在所述磁记录头的面对介质侧,且所述后区在所述元件高度方向上设置在所述前区的后面。

17.如权利要求16所述的方法,其中在所述清洁之后,所述振荡装置在所述元件高度方向上具有均匀的厚度。

18.如权利要求16所述的方法,其中所述振荡装置包括自旋转矩振荡器。

19.如权利要求16所述的方法,其中所述磁性盖层包括镍、铁和钴中的至少一种。

20.如权利要求16所述的方法,还包括在所述磁道方向上在所述磁性盖层和所述绝缘层上方沉积尾部屏蔽件。

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