专利名称：掩模制作支援方法、掩模版提供方法、掩模版供取系统的制作方法
技术领域：
本发明涉及半导体制造用的掩模版(mask blank)，尤其与掩模版的质量信息的获取与管理以及掩模版及掩模的制造有关。
背景技术：
作为与本发明有关的现有技术，有日本国特许公开公报特开2003-149793号公报。据该公报中所述的技术，版制造厂按照检查结果将版按缺陷类别分类，附加上缺陷信息之后将版提供给掩模制造厂。
此外，特开2003-248299号公报中公示出用来准确掌握光掩模基板上的缺陷位置的技术。
在上述现有技术之中，与掩模版一并提供的缺陷信息虽然给出掩模版表面上存在的缺陷之间的相对位置关系，但由于并未设置使掩模版和缺陷信息的位置信息对应的基准，因此，即使有缺陷信息，实际仍无法准确掌握掩模版上的何处存在缺陷，从而产生了制图与显影处理时的图案不良。此外，也没有使收容在收容箱中的掩模版的方向和缺陷信息的方向一致方面的明确保证。因此，由于实际的掩模坯件和缺陷信息之间偏差90度、180度、270度而产生了制图与显影处理中的图案不良。这是因为在制造工序中将收容在流通箱、匣、收容箱等容器中的基板取出，对基板实施规定的处理之后再次收容到其它容器中时并没有用来确认收容基板的方向在先前的容器中和后面的容器中是否相同的装置。
多年来，掩模制造厂在制造掩模时并未因该缺陷信息而发生什么特别的问题。这是因为在现用的曝光光源i线(波长365nm)、KrF(波长248nm)等情况下，可允许的缺陷等级，即，缺陷的尺寸及个数的允许范围并不太窄之故。
然而，随着半导体器件的高集成化，在图案复杂化的同时，图案的线宽变窄。为了应对此情况，曝光光源的波长短波长化，作为光源，ArF(波长193nm)、F2(157nm)等均被研究，其结果可以预料、掩模中可允许的缺陷等级将比过去更加严格。
此外，随着图案的复杂化及微小化，用绘图机绘制图案制造掩模时所需的时间和成本均飞快增长。因此抑制起因于掩模版的图案缺陷的必要性日见增高。此种图案缺陷之中有例如称之为微粒及针孔的缺陷。
另外，作为对应图案的微细化的掩模坏料，移相式掩模版的需求日见增长。作为移相式掩模版之一的半色调型移相式掩模版由半色调膜、遮光膜、有时还有抗蚀剂膜形成。半色调膜具有遮光功能和移相功能，具有与遮光膜不同的作用。
要想提高这些掩模的制造工序的成品率，简化工序及降低成本，就需要得到构成掩模版的各种膜的缺陷信息。
专利文献1特开2003-149793号公报专利文献2特开2003-248299号公报然而，若采用现有的技术，由于没有必要取得各膜的缺陷信息，如上所述只能提供最终出厂状态下的掩模版检查结果。这是因为版制造厂在掩模版工序之中，并未对每个基板的缺陷信息加以管理，无法将掩模坏料的各层膜的缺陷信息提供给掩模制造厂。
因此，在掩模制造厂之中，无法抑制源于掩模版缺陷的绘图及显影处理中的图案不良。此外，通常情况下，图案不良可用FIB(focusedion beam聚焦离子束)及激光等在图案修正工序中进行修正，但由于图案复杂化及微小化的发展，出现了无法修正的案例。遇到此种案例时不得不从头开始制作掩模。
发明内容
本发明正是鉴于此类情况而提出来的，其目的在于提供一种掩模制作支援方法，在从掩模版制作掩模时，能够抑制源于掩模胚料的图案不良。另一目的是提供一种掩模版的提供方法以及掩模版的制造方法，其在从掩模版制作掩模时附加了能够抑制源于掩模版的图案不良的膜信息。此外，又一目的是提供一种复制掩模的制造方法，其可通过利用膜信息与应形成的图案加以对照，提高制造成品率、抑制制造成本。
为了实现上述目的，本发明提供以下技术。
(1)提供一种掩模制作支援方法，掩模版提供方法、掩模版制造方法、使用该掩模版制作复制掩模的方法。将构成掩模版的多层膜的膜信息提供给掩模制造厂，其在利用掩模版，将前述膜图案化，制作复制掩模时，用于抑制图案不良。
具体是在掩模版制造工序之中，付与基板管理号码，根据管理号码对照多种膜的膜信息，或通过根据多种膜的各膜信息中的同一位置上形成的表面形态信息(突起或凹陷)对比多种膜的膜信息，保证多种膜的膜信息间的位置信息来防止制作掩模时的图案不良。
本发明的其它方面如下在掩模版制造工序中，利用对每一块供生产的基板及掩模版付与管理号码等装置进行个体识别。
接着，在前述基板上依次层合多种膜的同时，取得与前述膜有关的膜信息。
所谓膜信息是指包含膜的表面信息、表面形态信息、例如膜面的突起形状、凹陷形状、及其组合、或光学特性信息在内的膜的状态信息，是与膜面的位置信息相关的信息。而此处所说的光学特性包括透光率、反射率、吸光率、相位差等。
由于对层合在基板上多层膜中的每一层膜取得的前述膜信息可根据管理号码等进行个体识别，各信息之间可彼此比照，因而可保证掩模版个体和取得的多种膜信息之间的关系的同时，还可保证多种膜信息间的关系，此外，还可保证用包含在多种膜信息中的位置信息显示的掩模版内的位置。
而此处也可取得与基板有关的基板信息。
所谓基板信息是指包括基板的表面信息、表面形态信息，例如基板面的突起形态，凹陷形态及其组合，或光学特性信息等在内的基板的状态信息，是与基板面的位置信息相关的信息。而此处所说的光学特性包括透光率、反射率、吸光率、相位差等。
若在基板上形成膜的同时，取得与前述基板有关的基板信息和与前述膜有关的膜信息，由于基板信息和膜信息可根据前述管理号码等进行个体识别与比照，因而可保证掩模版个体和取得的基板信息及膜信息的关系的同时还可保证基板信息和膜信息的关系，还可保证用包含在基板信息或膜信息中的位置信息显示的掩模版内的位置。
此外，也并非一定要付与基板管理号码。由于膜的表面形态是按照该膜下层的膜的表面形态或基板的表面形态形成的，因而通过比照多种膜信息或膜信息和包含在基板信息中的形态信息，即可保证掩模版个体和取得的膜信息或基板信息之间的关系，保证多种膜信息间的关系或膜信息与基板信息间的关系，保证包含在多种膜信息中的位置信息与掩模版内的位置之间的关系，此外还可保证包含在基板信息或膜信息中的位置信息与掩模版内的位置之间的关系。
在本发明之中，可针对由基板和基板上形成的膜构成的掩模版个体，取得由基板信息和膜信息，或多种膜信息构成的掩模版信息。此外，包含在掩模版信息中的位置信息可保证掩模坏料内的位置。也就是说，本发明中的掩模版信息具有下述特征是掩模坏料的立体信息，可作为掩模版的内部信息，即掩模坏料体内信息进行识别与取得。
由于不仅可预先掌握掩模版表面，还可掌握掩模版体内的信息，因而可在制作掩模时防止制作出不良的复制掩模。
本发明包括以下构成通过使包含在掩模版信息中的位置信息的位置基准点与掩模版的位置基准点对应，取得信息。以及通过使包含在前述基板信息中的位置信息的位置基准点与基板的位置基准点对应，取得信息。以及通过使包含在前述膜信息中的位置信息的位置基准点与基板或膜的位置基准点对应，取得信息。
(2)提供一种掩模制作支援方法，掩模版提供方法、掩模版制造方法、以及使用该掩模版制造复制掩模的方法，其把表面形态信息和包含位置信息的掩模版的表面信息提供给掩模制造厂，通过用分别设置的基准点使该表面信息和掩模版的表面形态彼此对应，掩模制作者即可确定掩模形成的区域。
具体而言，在把掩模版收容到掩模版制造的各工序中以及在把掩模版提供给掩模制造厂时使用的收容箱中时，由于可通过根据基板或设置在基板上的基准标记管理基板的方向性(预先集中到某一特定方向)，使掩模版中的表面形态信息和包括位置信息的表面信息与掩模版的表面形态的位置彼此对应，因而可防止掩模制造时的图案不良。
此处的膜信息是指通过分别检查基板上刚刚形成的膜取得的信息。膜信息包括表示膜上的缺陷的位置、大小、种类等的表面形态信息，以及包括膜材料产生局部性成分变化的位置、范围、成分变化后的状态等表示膜面内的成分分布的成分分布信息。此外，将包括掩模版完成后形成表面的最上层的膜的表面形态信息在内的表面信息称之为掩模版的表面信息。
本发明的其它侧面如下提供一种掩模制作支援方法、掩模版信息提供方法，掩模版提供方法、掩模版制造方法、使用该掩模版制造复制掩模的方法，其在给掩模制造厂提供前述掩模版信息时，由于所提供掩模版信息和与该信息有关的掩模版个体可彼此对应，因而制作者可在该掩模版上选择出应形成规定的掩模图案的区域。
本发明包括使包含在掩模版信息中的位置信息的位置基准点与掩模版的位置基准点对应的构成。
本发明包括在把基板或掩模版收容到掩模版制造工序中以及/或者给掩模制造厂提供掩模版时使用的收容器具时，管理基板或掩模版的排列及方向性的构成。例如包括把多块基板或多个掩模版集中到某个规定的方向进行收容的方式。这时也可参照基板、膜或掩模版上设置的基准点进行收容。
例如，在掩模版制造工序中包括准备基板的工序、取得基板信息的工序(例如基板检查工序)、在基板上形成膜的工序、取得膜信息的工序(例如膜的检查工序)、为了把掩模版提供给掩模制造厂，将掩模版收容到收容器具中的工序等等，还包括在上述各工序中进行的基板或掩模版的收容作业之中，为了管理基板或掩模版的方向性而把多块基板或多个掩模版集中到某个规定方向上进行收容的方式。
此处所说的收容器具包括后述的保持具及箱体。此处所说的基准点可用于识别的标记。
作为可在本发明中使用的标记及基准标记可使用后述的称之为缺口标记的付与基板的标记及称之为膜标记的付与膜的标记。
若按以上方式收容及提供掩模版，由于掩模版是以规定的排列，集中到规定的方向性之后提供的，因而掩模的制作者可识别掩模版个体，参照或不参照基准点，均可掌握掩模版的位置基准点。
若采用本发明，由于掩模制作者能以掩模版的位置基准点为媒介，根据所提供的掩模版信息掌握打算制作复制掩模的掩模版的表面信息及内部信息，因而能够选择出应形成规定的掩模图案的区域。也就是说，由于掩模制作者在形成规定的掩模图案之前，即可掌握存在产生图案不良的或损害复制掩模的所需功能的表面缺陷及内部缺陷，因而可提高制造成品率、生产出利润率高的复制掩模，或生产出廉价的复制掩模。
本发明最好用于移相膜、例如形成半色调膜的掩模版或复制掩模方面。例如作为移相掩模之一的半色调型移相掩模可在透光性基板上形成半色调膜、遮光膜。半色调膜是同时兼有实质性隔断曝光光的遮光功能以及使曝光光的移相的移相功能的膜，是具有通过控制透过率和相位差，使复制在被复制体上的图案的图案边缘得到强调的功能的膜。半色调型移相掩模在透光性基板上形成半色调膜的图案，由使未形成半色调膜，其强度本质上有利于曝光的光透过的透光部和使已形成半色调膜的图案，其强度本质上不利于曝光的光透过的半透光部构成，并通过使该透过半透光部的光的相位与透过透光部的光的相位本质上处于反转关系，使穿过半透光部和透光部交界处附近，利用绕射现象彼此进入对方区域的光相互抵消，使交界处上的光强度大体等于0，以提高交界处的对比度。因此，对形成半色调膜的掩模版要求的质量要比只形成遮光膜的掩模版高，还有，当通过对掩模版实施图案化处理，制作复制掩模的情况下，很难降低其次品率。
本发明提供以下技术。
掩模制作支援方法，其特征在于是一种当利用基板上形成至少包括构成复制图案的薄膜在内的多层膜的掩模版，通过将前述薄膜图案化制作复制掩模时，为了抑制图案形成不良，将用于确定图案形成区域的膜信息提供给掩模制造厂掩模制作支援方法，膜信息是可从构成掩模版的多种膜中获得的信息。
图案也可设定为具有形成相对密集的图案的密集图案形成区域和形成相对稀疏的图案的稀疏图案形成区域。
膜信息也可设定为其中包含构成图案缺陷起因的突起或凹陷的种类、突起或凹陷的大小，突起或凹陷的位置信息中的某一种。
位置信息也可设定为以基板上形成的缺口标记以及/或者由在基板主表面的周边形成的薄膜构成的膜标记为基准而制作出的。
掩模版信息、基板信息以及膜信息的一部分乃至全部的提供也可设定为利用通信线路进行。
膜也可设定为包括对曝光光具有移相功能的移相膜在内。
此外，本发明提供掩模版提供方法，其特征在于是一种把上述的掩模制作支援方法与掩模版一并提供给掩模制造厂的掩模版提供方法，掩模版被收容在收容箱内，并用配置了为保持该掩模版而形成保持槽的保持具保持及提供，掩模版信息可利用间接性付与掩模版的掩模版确定装置进行比照。
掩模版信息也可设定为利用付与保持具的槽的槽号码进行比照。
此外，本发明提供掩模版的制造方法，其具有
准备掩模版用基板的工序；在基板上形成构成复制图案的薄膜的薄膜形成工序；取得薄膜的膜信息的薄膜信息取得工序；将薄膜信息取得工序中取得的薄膜的膜信息记录并保存存储到信息存储媒体中的薄膜信息记录工序；在薄膜上形成抗蚀剂膜的抗蚀剂膜形成工序；取得抗蚀剂膜的膜信息的抗蚀剂膜信息取得工序；将抗蚀剂膜信息取得工序中取得的抗蚀剂膜的膜信息记录并保存存储到信息存储媒体中的抗蚀剂膜膜信息记录工序；比照薄膜的膜信息与抗蚀剂膜的膜信息的膜信息比照工序。
而此处也可在准备掩模版用基板的工序之后，包括取得该基板的基板信息的基板信息取得工序，还可包括将基板信息取得工序中取得的基板信息记录保存到信息存储媒体中的基板信息记录工序。还可具有对比基板信息和膜信息的比较工序。
也可在准备掩模版用基板之后，增加付与掩模版用基板管理号码的管理号码付与工序，根据付与的管理号码比照薄膜的膜信息和抗蚀剂膜的膜信息。还可比照基板信息和膜信息。
基板信息或膜信息也可设定为包括突起或凹陷的种类、突起或凹陷的大小，突起或凹陷的位置信息中的某一种。
位置信息也可设定为以基板上形成的缺口标记以及/或者基板主表面的边缘上形成的薄膜形膜标记为基准而制作出的。
基板信息及薄膜的膜信息及抗蚀剂膜的膜厚信息也可设定为通过包含在基板信息及薄膜的膜信息及抗蚀剂膜的膜信息中的同一位置上形成的特定的形态，例如突起或凹陷进行比照。
此外，本发明提供的复制掩模制造方法是一种使用在基板上形成至少包括构成复制图案的薄膜在内的膜的掩模版，按照应形成的图案数据，将前述薄膜图案化，制作出复制掩模的复制掩模的制造方法，其特征在于将由上述掩模制作支援方法取得的掩模版信息和前述图案数据对照，而确定掩模版中的图案形成区域，以抑制图案形成不良。
图案也可以是具有形成相对密集的图案的密集图案形成区域和形成相对稀疏的图案的稀疏图案形成区域。
此外，本发明之中还包含下述说明。提供一种掩模制作支援方法，其特征在于在通过使用在基板上至少形成包括构成复制图案的薄膜在内的掩模版，把薄膜图案化后制作复制掩模时，为了抑制图案形成的不良，将用来确定图案形成区域所需的掩模版信息提供给掩模制作者的掩模制作支援方法之中，掩模版信息包括表面形态信息，提供给掩模制作者的掩模版中的表面形态的位置基准点和与表面形态信息对应的位置信息的基准点彼此对应，掩模制作者以基准点为媒介使掩模版信息反映到掩模版上，掌握掩模版的状态，即可确定应形成图案的区域。
也可在基板或基板上设置基准标记，位置信息的基准点通过与基准标记保持某种一定关系而制成，与掩模版中的表面形态的位置基准点彼此对应。
也可在基板、膜或者掩模版上设置基准标记，取得基板信息或膜信息时，通过制作使包含在前述信息中的位置信息的基准点与前述基准标记具有一定的关系的信息，使掩模版信息的位置基准点与提供的掩模版的位置基准点彼此对应。
基板标记最好在可确定基板或掩模版的朝向及方向的前提下付与。
基准标记最好付与基板或与掩模版的角部相邻的部位。在把基准标记付与偶数部位的情况下，若设定为俯视基板或掩模版时，在与一个基准标记对应的旋转对称的部位上若不付与另一基准标记，则很容易确定基板或掩模版的朝向及方向性，因而为首选。
基准标记也可设定为能够确定基板的方向性的形状。
基准标记也可设置在平行于基板的边且与穿过基板中心的线非对称的位置上。
基准标记也可以是基板上形成的缺口标记以及/或者由基板主表面上形成的薄膜构成的膜标记。
基板信息及膜信息也可设定为以基准标记为基准，在确定的方向上取得的信息。
也可设定为具有在基板上形成包括构成复制图案的薄膜在内的膜的膜形成工序，取得膜的表面信息的表面信息取得工序，在膜形成工序及表面信息取得工序之中，以基准标记为基准，管理基板或掩模版的方向性。
在制造掩模版时的各工序中，也可设定为将基板或掩模版收容到将基板或掩模版运送给各工序时使用的箱中时，以基准标记为基准，管理基板或掩模版的方向性。
如上所述，如果基板或掩模版方向性受到规定性管理，也就是说，即便在使多块基板或掩模版排列为朝向一定，取得信息时，也可通过把多块基板或掩模版集中到一定的方向不断取得信息，则最适合使用本发明。
表面信息也可以是至少包括基板的表面信息、膜的表面信息中的1种。
膜的表面信息也可以包括移相膜的表面信息。
表面形态也可以包括使用掩模版通过将薄膜图案化制作复制掩模时，造成图案形成不良的表面粗糙及起伏，突起以及/或者凹陷，异物及凹槽，膜缺失，还有用缺陷检查装置取得的微粒形缺陷以及/或者针孔形缺陷。
表面信息中也可以包括粗糙及起伏的高度、波长及周期，突起的高度及大小，凹陷的深度及大小，异物的高度及大小，凹槽的深度及大小，微粒的高度及大小，针孔的深度及大小的信息。
图案也可以具有形成相对密集的图案的密集图案形成区域和形成相对稀疏图案的稀疏图案区域。
稀疏图案形成区域也可以是为了进行电性能试验而形成的监视芯片形成区域。
复制掩模也可以是系统LSI制造用掩模。
也可设定为将多块掩模版和与各掩模版对应的掩模版信息提供给掩模制作者。
此外，本发明提供掩模版供取系统，其特征在于是用来实施上述掩模制作支援方法的掩模版供取系统，对收容在掩模箱中的多个掩模版付与直接或间接确定各掩模版管理号码或管理标记，掩模版信息与管理号码或管理标记相关联后与掩模版一并提供给掩模制造厂。
管理号码或管理标记也可以是形成保持掩模版的槽的保持具，以及付与收容该保持具的收容箱的槽号以及箱号。
掩模版信息也可设定为利用通信线路提供给掩模制造厂。
掩模版信息也可在与管理号码或管理标记相关联后保存到信息存储装置(服务器)之中，掩模制造厂利用通信线路访问信息存储装置(服务器)，根据管理号码或管理标记取得掩模版信息。
此外，本发明提供掩模版制造方法，其特征在于该方法是具有下述工序的方法准备掩模版用基板的工序；在基板的主表面上形成包括构成复制图案的薄膜在内的膜的膜形成工序；将薄膜图案化后制作复制掩模时，为了抑制图案形成的不良，取得确定图案形成区域所需的掩模版的表面信息的表面信息取得工序；将表面信息记录保存到信息存储媒体中的表面信息保存工序；在基板或基板上设置基准标记，以该基准标记为基准，在确定的方向上取得表面信息。
基准标记也可设定为能够确定基板方向性的形状。
基准标记也可设定在平行于基板的边且相对于穿过基板中心的线非对称的位置上。
基准标记也可以是在基板上形成的标识缺口以及/或者由基板主表面上形成的薄膜构成的膜标记。
也可设定为在制造掩模版时的各工序中，将基板收容到将基板运送给各工序时使用的箱中时，以基准标记为基准管理基板的方向性。
也可以在准备了掩模版用基板之后具有直接或间接付与掩模版用基板确定基板的管理号码的管理号码付与工序，根据付与的管理号码比照制造出的掩模版的表面信息。
也可设定为还具有将掩模版收容、打包到收容箱内的打包工序，掩模版可用为保持收容在收容箱内的掩模版而形成了保持槽的保持具保持，可通过将用来比照该掩模版和表面信息的掩模版确定装置直接或间接性付与掩模版进行收容。
掩模版确定装置也可以是付与保持具及收容箱的槽号及箱号。
此外，本发明提供一种使用基板上至少形成包括构成复制图案的薄膜在内的膜的掩模版，按照应形成的图案数据将薄膜图案化，制作复制掩模的复制掩模制造方法，其特征在于对照由上述掩模制作支援方法取得的掩模版中的表面形态的位置所对应的掩模版的表面信息和图案数据，而确定掩模版上的图案形成区域，以抑制图案形成的不良。
图案数据具有形成相对密集的图案的密集图案形成区域和形成相对稀疏的图案的稀疏图案形成区域，当表面信息中含有构成图案不良的表面形态的情况下，也可通过比照表面信息和图案数据，为了将构成图案不良的表面形态配置到密集图案形成区域以外，而确定与掩模版对应的图案数据的配置。
此外，本发明提供一种使用基板上至少形成包括构成复制图案的薄膜在内的膜的掩模版，按照应形成的图案数据将薄膜图案化，制作复制掩模的制造方法，其特征在于在对前述掩模版实施图案化处理之前，比照用本发明的掩模制作支援方法取得的与该掩模版有关的掩模版信息和前述图案数据，为了抑制图案形成不良，以及/或者不损害复制掩模的功能而选择应形成该掩模版上的前述图案的区域。
前述图案数据包括具有相对密集的图案的区域和相对稀疏的图案的区域，当前述掩模版信息中含有构成图案不良原因的，或构成损害复制掩模功能原因的状态信息、即形态信息及光学特性信息等情况下，可选择该状态存在位置以外的位置，配置形成相对密集的图案的区域。
此外，本发明提供一种使用基板上至少形成包括构成复制图案的薄膜在内的膜的掩模版，用于支援按照应形成的图案数据将薄膜图案化，制作复制掩模的复制掩模制作者的复制掩模制作支援方法，其在前述掩模版上实施图案化处理之前，比照用本发明取得的与该掩模版有关的前述掩模版信息和前述图案数据，为了抑制图案形成不良，以及/或者不损害复制掩模的功能而选择应形成该掩模版上的前述图案的区域。
此外，本发明提供一种使用基板上至少形成包括构成复制图案的薄膜在内的膜的版，用于支援按照应形成的图案数据将薄膜图案化，制作复制掩模的复制掩模制作者的复制掩模制作方法，其在掩模版上实施图案化处理之前，比照用本发明取得的与该掩模版有关的掩模信息和前述图案数据，为了抑制图案形成不良，以及/或者不损害复制掩模的功能而选择特定的掩模版。
稀疏图案形成区域也可以是为了进行电特性试验而形成的监视芯片形成区域。
复制掩模也可以是系统LSI制造用复制掩模。
此外，本发明也可以是一种把上述掩模制作支援方法与掩模版一并提供给掩模制造厂的掩模版提供方法，掩模版被收容在收容箱内，用基准标记使收容在收容箱内的掩模版的方向性和取得表面信息的表面信息取得工序中的基板方向性彼此对应。
也可设定为在制造掩模版时的各工序之中，当把基板收容到把基板运送给各工序时使用的箱中时，以基准标记为基准，管理基板的方向性。
本发明的掩模版信息取得方法也可用下述方式表述。
也就是说，本发明提供一种取得掩模版信息的方法，掩模版信息涉及在基板面上配置多层层合膜的掩模版，其中包括基板信息以及一种以上的膜信息，或两种以上的膜信息，基板信息包括与基板面对应的平面座标系(二维座标系)中的位置信息、以及表示与位置信息有关的基板状态的状态信息，一种膜信息包括与一种膜对应的平面座标系内的位置信息，以及表示与位置信息有关的该膜的状态的状态信息，包含在掩模版信息中的基板信息或膜信息的平面座标系具有规定的对应关系。
例如，也可以使之包括在基板面上或在基板面上成膜的其它膜上形成第1膜的阶段、取得与成膜的第1膜的状态有关的第1膜信息的阶段、在第1膜上形成第2膜的阶段、取得与成膜的第2膜的状态有关的第2膜信息的阶段、生成包括第1膜信息及第2膜厚信息在内的掩模版信息的阶段来实施。
或者，也可包括准备基板的阶段、取得与准备的基板状态有关的基板信息的阶段、在基板面上成膜的阶段、取得与成膜后的膜状态有关的膜信息的阶段、生成包括基板信息及膜信息在内的掩模版信息阶段。
包含在基板信息及膜信息中的平面座标系的基准点既可具有彼此预先规定的关系，或者也可至少以基板上形成的标记及膜上形成的标记中的一方为基准进行规定。
也可设定为还包含彼此比照基板信息以及/或者膜信息的阶段。
也可设定为状态信息至少包括与表面形态有关的信息以及与光学特性有关的信息中的一方。
也可设定为至少有一种膜是移动曝光光相位的移相膜。
也可将多种膜的膜信息投影到平面上生成的信息包含到掩模版信息之中。
付与基板表示基板朝向的信息时可采用多种装置，例如还可包括在取得膜信息之前付与基板上以及/或者膜上预先规定的位置以可作为状态信息检出的基准标记的阶段，也可在掩模版信息中包括表示根据基准标记规定的基板朝向的信息。此外，基准标记也可具有可确定方向的形状。此外，基板的轮廓也可以是具有旋转对称性的形状，而包括付与的基准标记在内的基板形状则具有旋转非对称性，基板的典型轮廓是包括正方形及长方形在内的方形。
也可设定为包括下述阶段付与基准标记的情况下，用装置A在基板上形成膜a的同时，通过测定膜a取得包括基准标记在内的膜信息a的阶段、从装置A取出该基板的阶段、以基准标记为基准，使该基板以预先规定的朝向，收容到箱中的阶段、把箱运送给装置B的阶段、以基准标记为基准，使该基板以预先规定的朝向设置到装置B中的阶段、用装置B在该基板上形成膜b的同时，通过测定膜b取得包括基准标记在内的膜信息b的阶段。
此外，也可设定为包括下述阶段付与基准标记的情况下，将基板设置到测定装置上之后测定基板，取得包括基准标记在内的基板信息的阶段、从测定位置取出该基板的阶段、以基准标记为基准，使该基板以预先规定的朝向收容到箱中的阶段、把箱运送给装置A的阶段、以基准标记为基准，使该基板以预先规定的朝向设置到装置A中的阶段、用装置A在基板上形成膜a的同时，通过测定膜a取得包括基准标记在内的膜信息a的阶段。
也可设定为通过参照取得的掩模版信息，识别掩模版个体。
也可设定为状态信息至少包括两种测定值。
也可设定为基板信息及膜信息中的至少一方包括其中还包含基板或膜的厚度方向上的座标的立体座标系中的位置信息。
此外，本发明提供一种掩模版信息提供方法，该信息与在基板上重迭成膜多层膜而制作出的掩模版有关其特征在于将用上述掩模版信息取得方法取得的掩模版信息与该掩模版一并提供。
此外，本发明提供一种通过将掩模版信息提供给掩模制造厂支援复制掩模的制作方法，其特征在于包括利用上述掩模版信息提供方法将掩模版信息提供给掩模制造厂的阶段，所提供的掩模版信息可供为了防止制作出不良的复制掩模，在对应的掩模版上形成掩模图案之前确定形成掩模版上的掩模图案的区域时参考。
此外，本发明提供一种通过将掩模版信息提供给掩模制造厂，支援复制掩模的制作的方法，其特征在于包括利用上述掩模版信息提供方法，将掩模版信息提供给掩模制造厂的阶段，是一种通过基准标记，将掩模版信息中的座标系的基准点通知掩模制造厂的方法，收到提供的掩模制造厂通过基准标记取得平面座标系间的对应关系，根据取得的对应关系以及掩模版信息，决定应形成掩模图案的区域。
也可设定为在该复制掩模制作支援方法之中，掩模版上形成的掩模图案包括相对密集的图案区域和相对稀疏的图案区域。
此外，本发明提供一种通过在掩模版上形成构成复制图案的掩模图案，制造复制掩模的复制掩模制造方法，其特征在于根据用上述掩模版信息取得方法取得的掩模版信息，决定在掩模版上配置掩模图案的区域。
此外，本发明提供一种掩模版制造方法，其特征在于其中包括上述掩模版信息取得方法。
此外，本发明提供一种掩模版信息取得系统，该信息与在基板面上层合了多层膜的掩模版有关，其特征在于，配置有取得与基板状态有关的基板信息的装置、取得与在基板面上或在基板面上成膜的其它膜上成膜的第1膜的状态有关的第1膜信息的装置、以及取得与基板面上成膜的第1膜以外的膜的第2膜的状态有关的第2膜信息的装置中的至少两种信息取得装置，还配置有生成包括用该信息取得装置取得的信息在内的掩模版信息的装置。
也可设定为在该掩模版信息取得系统之中，基板信息包括与基板面对应的平面座标系中的位置信息、表示与位置信息有关的基板的状态的状态信息，一种膜信息包括与一种膜对应的平面座标系中的位置信息、表示与位置信息有关的该膜的状态的状态信息，包含在掩模版信息中的基板信息或膜信息的平面座标系具有规定的对应关系。
也可设定为在上述掩模版信息取得方法之中，基板为多边形，将基准标记付与基板彼此相接的夹在两个侧边间的区域。
在上述掩模版信息取得方法之中，也可将偶数个基准标记付与彼此旋转非对称的位置。
此外，本发明提供一种通过把掩模版信息提供给掩模制造厂，支援复制掩模的制作的复制掩模制作支援方法，其特征在于包括利用上述掩模版信息提供方法给掩模制造厂提供多种掩模版的掩模版信息的阶段、所提供的掩模版信息可供形成掩模图案前，从多块掩模版中选择一块时参考。
也可设定为在上述掩模版信息取得方法之中，在取得膜信息b的阶段之后，还包括以基准标记为基准，使该基板以预先规定的朝向收容到箱中的阶段。
也可设定为在上述掩模版信息取得方法之中，在取得膜信息a的阶段之后，还包括以基准标记为基准，使该基板以预先规定的朝向收容到箱中的阶段。
本发明提供一种提供掩模版的掩模版提供方法，其特征在于与掩模版一并提供用上述掩模版信息取得方法取得的与该掩模版有关的掩模版信息。
(发明效果)可在整个掩模版的制造过程中，使基板信息、膜信息的朝向与基板的实际朝向一致。此外，即便在制造过程中使基板朝向了错误的方向，也可通过基板信息、膜信息的相互比较检出朝向的错误。
根据取得的基板信息、膜信息即可识别每个掩模版。也就是说，可将基板信息、膜信息作为一种识别码来使用。
通过提供与基板的朝向对应的基板信息、膜信息，可准确反映掩模版的基板及各层膜中存在的缺陷的位置。
由于可准确反映掩模版的每一层的缺陷，因而可避开缺陷制作掩模，可防止掩模图案不良。
此外，即便是有缺陷的部位，也可根据其种类、大小、数量等以及打算绘制的图案的形状、疏密等因素，预先判断为即使绘制图案也没有问题，实现掩模版的有效利用。
图1是用来说明本发明的掩模版膜信息取得方法的流程图。
图2A是用来说明掩模版的收容箱10的剖面图。
图2B是用来说明掩模版的收容箱10的平面图。
图3A是用来说明表示掩模版的正反面的槽标记31的图。
图3B是用来说明表示掩模版的正反面的缺口标记1的图。
图4是举例说明利用本发明的掩模版膜信息(表面信息)取得工序取得的掩模版膜版膜信息(表面信息)的图。
图5是用来说明本发明的掩模版膜信息管理系统50的框图。
图6是用来说明主计算机51的框图。
图7是用来说明箱号、槽号付与装置52的框图。
图8是用来说明1次膜成膜装置53的框图。
图9是用来说明1次膜缺陷检查装置54的框图。
图10是用来说明保护层成膜装置57的框图。
图11是用来说明掩模制作支援系统110的框图。
图12是用来说明订货人掩模制造厂12内的掩模制造工序中的图案绘制与显影处理的流程图。
图13A是接受掩模制造工序的绘制、显影处理前的掩模版的剖面图。
图13B是经掩模制造工序制作出的复制掩模的剖面图。
图14是用来说明根据版膜信息及掩模图案数据进行的稀疏图案形成区域及密集图案形成区域的配置的图。
图15是用来说明本发明的掩模制作支援方法之中的掩模版的制造工序，和掩模版的制造过程中取得及保存掩模版的膜信息的方法的流程图。
图16A是用来说明掩模版的缺口标记1的图。
图16B是用来说明掩模版的膜标记31的图。
图17是举例说明用本发明的掩模版膜信息(表面信息)取得工序取得的掩模版膜信息(表面信息)的图。
图18A是用来说明收容掩模版的收容箱10的剖面图。
图18B是用来说明收容掩模版的收容箱10的平面图。
图19是用来说明掩模制作支援系统110的框图。
图20是用来说明掩模生产制造厂112利用版膜信息在掩模版的抗蚀剂膜上绘制、显影处理后具有形成图案的工序的掩模制造工序的流程图。
图21A是实施掩模制造工序的绘制，显影处理前的掩模版的剖面图。
图21B是通过掩模制造工序制作出的复制掩模的剖面图。
图22是用来说明根据版膜信息及掩模图案数据进行的稀疏图案形成区域及密集图案形成区域的配置的图。
图23是用来说明本发明的掩模版膜信息管理系统50的框图。
图24是用来说明匣号、槽号付与装置52的框图。
图25是用来说明主计算机51的框图。
图26是用来说明1次膜成膜装置53的框图。
图27是用来说明1次膜缺陷检查装置54的框图。
图28是用来说明抗蚀剂膜成膜装置57的框图。
具体实施例方式
下面说明本发明的第1实施方式的掩模版膜信息取得方法。在以下的实施方式的说明中，如上所述膜信息包括表面信息，可将膜信息直接理解为表面信息。
掩模版膜信息取得方法可与把在玻璃基板上形成1次模、2次膜、抗蚀剂膜后制造出的掩模版收容到收容箱之前的工序并行进行。每当形成1次膜、2次膜及抗蚀剂膜时，即进行各膜的检查，生成与其结果相对应的1次膜膜信息、2次膜膜信息以及抗蚀剂膜膜信息后登录到主计算机中。主计算机归纳这些膜信息后生成并存储掩模版膜信息，根据外部的要求，将存储的掩模版膜信息输出给纸、电子媒体、通信线路等。
从图1可看出，该图用虚线划分为上中下三段。下段表示工序流程，中段表示与各工序对应的制造过程的掩模版，上段表示在检查工序中生成的膜信息。下面沿下段的工序流程加以说明。
(1)基板加工工序准备已形成缺口标记的玻璃基板。缺口标记通过其形状表示基板的玻璃种类。接着磨削、研磨加工玻璃基板的表面，加工出所需的表面粗度和平坦度。为去除研磨工序中使用的研磨剂，清洗玻璃基板后，将基板收容到贴了ID卡的流通箱2之中。流通箱2之中以缺口标记1为基准使玻璃基板的方向一致后收容。
(2)1次膜成膜工序使用进行生产管理的主计算机，给流通箱2随带的ID卡付与管理各基板的管理号码。主计算机设定制造工序的顺序与制造条件，收集各制造工序的信息后记录与保存。将收容在流通箱2内的玻璃基板送入溅射装置，在形成缺口标记1的一侧和相反一侧，利用(化学)反应性溅射形成作为1次膜的MoSiN半色调膜。这时，可利用基板保持具在未形成MoSiN膜的位置上形成膜标记3。将带有MoSiN半色调膜的基板收容到有别于流通箱2的其它流通箱4之中。同时，将1次膜成膜结束的信息保存到主计算机之中。管理号码被转发给流通箱4随带的ID卡。以缺口标记1(或膜标记3)为基准使基板方向一致后收容到流通箱4中。
(3)1次膜检查工序将收容在流通箱4中的带有半色调膜的基板送入检查1次膜的缺陷的缺陷检查装置，通过进行缺陷检查取得膜信息。作为膜信息(膜的表面信息)，将缺陷的位置信息、缺陷的大小(分等级表示)，缺陷的种类(针孔、颗粒、其它)，按管理号码保存在主计算机中。将此处取得的信息称之为1次膜膜信息。将缺陷检查完毕的基板收容到另一流通箱5之中。同时把管理号码转发给流通箱5的ID卡。以缺口标记1(或膜标记3)为基准使基板方向一致后收容到流通箱5中。
(4)2次膜成膜工序将收容在流通箱5中的带半色调膜的基板送入联机型溅射装置，利用(化学)反应性溅射在1次膜上形成作为2次膜的Cr遮光膜。这时可利用基板保持部在未形成Cr膜的位置上形成膜标记6。将带Cr遮光膜的基板收入另一流通箱7。同时将2次成膜结束的信息保存到主计算机中。将管理号码转发给流通箱7随带的ID卡。以缺口标记1(或膜标记3、6)为基准，使基板方向一致后收容到流通箱7之中。
(5)2次膜检查工序将收容在流通箱7中的带有Cr遮光膜的基板送入检查2次膜的缺陷的缺陷检查装置，通过进行缺陷检查取得膜信息。作为膜信息(膜的表面信息)，将缺陷的位置信息、缺陷的大小(分等级表示)，缺陷的种类(针孔、颗粒、其它)，按管理号码保存在主计算机中。将此处取得的信息称之为1次膜膜信息。将缺陷检查完毕的基板收容到另一流通箱8之中。同时把管理号码转发给流通箱8随带的ID卡。以缺口标记1(或膜标记3、6)为基准使基板方向一致后收容到流通箱8之中。
(6)抗蚀剂膜成膜工序将收容在流通箱8中的带Cr遮光膜的基板送入旋转涂布装置，利用旋转涂布法在2次膜上涂布抗蚀剂膜，经烘干、冷却后形成抗蚀剂膜。将带抗蚀剂膜的基板(掩模版)收入另一流通箱9。同时，将抗蚀剂膜成膜结束的信息保存到主计算机之中。将管理号码转发给流通箱9随带的ID卡。以缺口标记1(或膜标记3.6)为基准，使掩模版的方向一致后收容到流通箱9中。
(7)抗蚀剂膜检查工序将收容在流通箱9中的带抗蚀剂膜的基板(掩模版)送入缺陷检查装置，通过进行缺陷检查取得膜信息。作为膜信息，将缺陷的位置信息、缺陷的大小(分等级表示)、缺陷的种类(针孔、颗粒、其它)按管理号码保存在主计算机中。将此处取得的膜信息称之为抗蚀剂膜膜信息。将缺陷检查完毕的基板收容到另一流通箱10之中。同时将管理号码转发给流通箱10随带的ID卡。以缺口标记(或膜标记3.6)为基准，使掩模版的方向一致后收容到流通箱10之中。
(8)膜信息的比照工序通过相互比照1次膜膜信息、2次膜膜信息、抗蚀剂膜膜信息，确认各膜信息之间的方向是否一致。
具体而言，以位置不变化的缺陷为基准，比照各膜的缺陷信息数据。这是利用作为最下层的膜的1次膜上有缺陷的情况下，比1次膜靠上层的2次膜、抗蚀剂膜上也会产生缺陷，以1次膜膜信息为基准判定其它膜信息的方向是否正确。
这样即可使膜信息间的方向一致，但在例如把基板从某个流通箱移动到另一个流通箱中时，有可能搞错基板的方向而收入流通箱中，在此情况下即使膜信息间一致，膜信息和基板的朝向也不一致。
为了避免此种可能性，在流通箱及收容箱中取放基板时，该操作者将缺口标记1、膜标记3及6作为基板朝向的基准进行参照，沿预先规定的朝向取放基板。
由于这样即可将掩模版的制造过程(1)～(9)中的基板朝向保持一定，避免基板的朝向与膜信息的朝向不一致的同时，使膜信息间的朝向一致，因而可使基板朝向与所有膜信息的朝向一致。由于要确认膜信息间的一致，因而即便在制造过程中把基板的朝向搞错，收容到流通箱及收容箱中，仍可将此检出。
(9)版打包工序将掩模版收容到收容箱20中后打包，配送给掩模制造厂。
此处参照图2A及(B)说明收容箱20。每个收容箱20均被付与了随带的固定箱号21。收容箱20由箱盖22和外箱23构成，在外箱23之中又由内箱24、槽25构成。内箱24被收容在外箱23之中，具有基板保持具的作用。槽25实际是基板间的隔板，但为了便于下文中的说明，权且将相邻的两个隔板25间存放基板的部分称之为槽。从这个意义上说，图2B之中有用来存放5片基板的槽。各槽均被付与槽号码，分别称为1号槽、2号槽、...5号槽。在外箱23的外表面中靠近1号槽的面上标有表示收容箱20朝向的前面标示26。通过组合箱号及槽号来识别收容箱20中收容的掩模版。
为了使各掩模版中的膜信息的位置信息的基准点和用来使收容在收容箱20中的上述位置信息的基准点对应的掩模版的基准点对应，将掩模版收容到收容箱20中时，以上述缺口标记1(或膜标记3、6)为基准，使掩模版的方向性一致后进行收容。这样一来，通过在掩模版制造工序中的各工序之中，以缺口标记1(或膜标记3、6)为基准，使基板的方向性一致后进行膜的形成及缺陷检查，进而在各工序间的基板运送时使用的基板流通箱之中，也以缺口标记1(或膜标记3、6)为基准，使基板的方向性一致后进行收容，将掩模版收容到收容箱之中提供给掩模制造厂时，同样以缺口标记1(或膜标记3、6)为基准，使掩模版的方向性一致后进行收容，即可使掩模版和缺陷信息的位置信息准确对应，防止掩模制作时的图案不良。
下面退回到版打包工序加以说明。这时，将包括1次膜膜信息、2次膜膜信息，保持膜信息在内的版膜信息提供给各掩模版的配送目的地的掩模制造厂。版膜信息的提供方法有(a)在收容箱20内随带印刷了版膜信息的印刷物，(b)在收容箱20内随带记录了版膜信息数据的软盘及CD-ROM等记录媒体，(c)通过数据通信线路将版膜信息数据发送给配送目的地的掩模制造厂的计算机等之中。
(a)及(b)的情况下，将版膜信息本身与槽号的对应关系一并随带在收容箱20中。(c)的情况下由掩模制造厂发送箱号及槽号，通过接收相对应的版膜信息接受提供。
而在1次膜成膜工序与1次膜检查工序之间，以及2次膜成膜工序与2次膜检查工序之间也可设置清洗工序。
在上述(1)～(10)的过程，进而在掩模制造厂之中，掩模版的表里可用图3(A)及(B)所示的膜标记31以及缺口标记1区别。可如图3(A)所示，在表面标注膜标记31，可如图3(B)所示，在背面标注缺口标记1。
各膜信息由以基板的规定方向为基准，在膜上预先规定的XY座标系的X座标、Y座标，缺陷的大小，缺陷的种类构成。缺陷的种类由针孔和颗粒构成。颗粒指膜上附着了粒状物质的状态，针孔指一度附着的粒状物质脱落后留下的痕迹的状态。
图4是版膜信息的例示。从中可看出，在1次膜阶段内存在缺陷的位置上在2次膜及抗蚀剂膜的同一位置上也产生了缺陷。
下面说明作为本发明的第2实施方式的掩模版生产线控制系统50。从图5可知，掩模版生产控制系统50由主计算机51、匣号、槽号付与装置52(下文标示为付与装置52)、1次膜成膜装置53、1次膜缺陷检查装置54，2次膜成膜装置55、2次膜缺陷检查装置56、抗蚀剂膜成膜装置57以及抗蚀剂膜缺陷检查装置58构成。
匣除具有多个收容基板的槽外，还具有ID卡。ID卡上记录了付与该匣的匣号。
从图7可知，将基板投入生产线时，将基板收入匣中，用付与装置52，从输入部521输入箱号、槽号、工序流程。工序流程工序顺序、工序中使用的装置名称、各装置中使用的方法号构成，可按照准备生产的掩模，以匣为单位付与。而在生产线上，基板的确定可用工序内的位置、匣号、槽号进行。
付与装置52把匣号记录到匣的ID卡上的同时，通过数据收发信部522，把匣号、槽号以及工序流程发送给主计算机51。从图6可知，主计算机51用数据收发信部511接收后，使匣号、槽号以及工序流程彼此关联后存储到工序流程存储部512中。
用付与装置52输入了匣号的匣(下文将该匣称为匣A)一被安装到1次膜成膜装置53的装料口531之中，即从匣A的ID卡读出匣号，由数据收发信部532通知主计算机51。
从图8可知，与此相呼应，主计算机51将匣A的匣号、槽号、溅射的方法号发送给1次膜成膜装置53。而方法号也可以位于溅射装置动作即将开始之前。
在接收到这些的1次膜成膜装置53之中，用方法-溅射条件比照部533，比照与方法号对应的溅射条件，将比照后的溅射条件存储到溅射条件存储器534之中。溅射条件控制部535按照该溅射条件控制溅射装置536，实施溅射处理。
溅射装置536将基板从匣中取出，开始溅射处理。在溅射处理过程中收集溅射实绩，与槽号关联。
结束了溅射处理的基板进入出料口538上预先准备好的别的匣(下文称为匣B)的槽。这时，槽号、溅射实绩、出料口槽号收集部537(下文称为收集部537)收集匣A时的槽号、相关的溅射实绩、匣B的槽号，用数据收发信部532发送给主计算机51。此外，匣B的槽一装满1次膜成膜后的基板，收集部537即与匣B的匣号一道，将该内容通知主计算机。
主计算机51接收后，按照匣号B、匣号A、工序流程的顺序确定下一道工序，给未图示的匣运送部下达运送目的地的指令。此外，主计算机51把匣B的匣号、以及发送给1次膜成膜装置53的溅射的方法号发送给1次膜缺陷检查装置54。
从图9可知，1次膜缺陷检查装置54一在数据收发信部中接到这些信息，即将此交给匣号——方法号比照部542。
一把匣运入进料口543，匣号-方法号比照部542即将对应的方法号与从匣的ID卡中读出的匣号比照。
此处的匣号如果是匣号B，则可获得对收容在匣B中的基板进行溅射处理时的方法号。
在缺陷检查条件存储器544中预先存储了在方法号所示的条件下成膜的膜与应实施的检查条件之间的对应关系，一从匣号——方法号比照部542取得方法号，即输出应实施的检查条件。
根据该检查条件，缺陷检查条件控制部545通过控制缺陷检查装置546进行检查。缺陷检查装置546将检查结果作为缺陷检查信息输出。检查完毕的基板被收容到预先安装在出料口547的另一匣(下文称之为匣C)的槽中。
出料口匣号、出料口槽号付与部548给匣C付与匣号的同时；使匣C的匣号、匣C的槽号、收容在槽中的基板的缺陷检查信息彼此对应后，用数据收发信部541发送给主计算机51。
主计算机51将发送来的信息与用1次膜成膜装置53取得的溅射实绩等对应后存储到信息存储器513中。
关于2次膜成膜装置55、2次膜检查装置56，由于如果将其分别与1次膜成膜装置53、以及1次膜检查装置54比较，就会发现二者的区别仅仅是因为成膜的膜的种类不同，其构成要素及动作并无大的区别，因而省略其说明。图10所示的抗蚀剂膜成膜装置57以及抗蚀剂膜缺陷检查装置58也与此相同。
采用此种方法，根据从1次膜成膜装置53、1次膜检查装置54、2次膜成膜装置55、2次膜检查装置56，抗蚀剂膜成膜装置57以及抗蚀剂膜缺陷检查装置58收集到的信息，缺陷信息比照部514生成第1实施方式中说明过的1次膜膜信息、2次膜膜信息、抗蚀剂膜膜信息的同时，将这些彼此比照，生成图4所示的版膜信息。
下面说明作为本发明的第3实施方式的掩模制作支援系统110。
从图11可知，掩模制作支援系统110由下述三部分构成掩模版制造厂111、在掩模版制造厂111中制造出的掩模版的基础上制造掩模的掩模制造厂112、连接两个制造厂的数据通信线路113。还有，掩模版制造厂111由主计算机51及服务器114构成。在掩模版制造厂111中制造出的掩模版可收容到前述收容箱10中配送给掩模制造厂112。主计算机51是前述掩模版生产线控制系统50的主计算机51。服务器114从主计算机51接收所需的信息，经互联网113给远在外地的掩模制造厂112的计算机提供信息。
下面说明用掩模制作支援系统110在掩模版的抗蚀剂膜上绘制图案的工序。
正如第2实施方式中所述，主计算机51之中预先存储了制造出的掩模版的版膜信息。版膜信息以缺口标记或膜标记为基准确定方向性，保证基准点。此外，制造出的掩模版以缺口标记或膜标记为基准使掩模版的方向性一致，收容到收容箱10中后配送给掩模制造厂112。这时，收容箱10上随带了箱号。箱号的随带并不局限于印刷品等目力可识别的方式，例如也可使用条码、磁记录媒体、IC卡等机器可读取的方式进行随带。
下面参照图12说明掩模制造厂112中的掩模图案绘制与显影处理。接收到收容箱10的掩模制造厂112的工作人员，通过目力识别或机器读取，从收容箱10取得箱号后，使用计算机等数据通信装置，利用互联网等数据通信线路113把箱号发送给服务器114。与此相呼应，服务器114发送回收容在该箱号的收容箱的各槽内的掩模版的版膜信息(步骤S121)。
作为数据通信的方式有多种多样。例如可通过电子信箱进行箱号及版膜信息的传输，或在服务器114中设置表示箱号和收容在该箱号的收容箱的各槽中的掩模版的版膜信息对应关系的数据库，也可设定为发送回与从掩模制造厂112一侧输入的箱号对应的版膜信息。在该阶段内，掩模版具有图13A所示的剖面，在玻璃基板上，呈形成了1次膜、2次膜，抗蚀剂膜等三层膜的状态。
接收到版膜信息的掩模制造厂112比照版膜信息和准备制造的掩模的掩模图案(步骤S122)。如上所述，这时，掩模版内的位置信息的基准点和版膜信息中的位置信息的基准点彼此对应。或者，这时，掩模版内的位置信息的基准点和掩模图案数据的位置信息的基准点彼此对应。
另外，假定掩模制造厂112从掩模版制厂111接收到版膜信息，并正准备绘制掩模图案142。版膜信息141包括1次膜膜信息、2次膜膜信息。抗蚀剂膜膜信息。
一般而言，掩模图案具有密度高的密集图案形成区域143和密度低的稀疏图案形成区域144。
另外，一般而言，掩模版的针孔及颗粒分布并不均匀，而是在一定程度上局部性分散。因此，通过参照版膜信息142调整并决定图案绘制位置，以便把针孔及颗粒配置到密集图案形成区域143以外的区域(步骤S123)。
图案绘制位置的调整方法有变更与基板的朝向相对应的掩模图案142的朝向。此外，如果密集图案形成区域143和稀疏图案形成区域144的相对位置关系可变，也可通过变更此进行调整。
最后，按照决定的图案绘制位置，在抗蚀剂膜上绘制图案并显影(步骤S124)。
下面说明第4实施方式。在本实施方式之中，特意提出使版膜信息和基板朝向一致的技术加以说明。
再看一遍图1及图3，在掩模版的玻璃基板上标注着缺口标记1。在现用技术中，缺口标记1的目的仅仅是表示玻璃基板的玻璃种类，利用其不同的形状表示玻璃基板的玻璃种类。
此外，在膜上出于表示膜的种类的目的，本来就标有膜标记。与缺口标记相同，膜标记通过其不同的形状，该膜与其它膜的位置关系表示膜的种类。例如1次膜上的膜标记2具有表示是MoSiN膜的形状，2次膜上的膜标记3具有表示是Cr膜的形状。而在图上，由于是将膜标记简化后标注的，因而与实际的形状不一致。
在本发明之中，将这些缺口标记及膜标记作为基板朝向的标准，装入流通箱、匣、收容箱等容器或从中取出时，一直朝着同一方向。这样一来，1次膜膜信息、2次膜膜信息、抗蚀剂膜膜信息的方向各自均与基板方向一致。
在本实施方式中，膜信息的膜的枚数也可以是单枚。正如现用技术中所见，即使仅仅是观察掩模版制造厂即将出厂的掩模版表面，即从表面膜取得的缺陷信息也能适用。即使在此种情况下，也具有保障缺陷信息的方向和基板方向的一致的效果。
下面说明本发明的第5种实施方式。第5实施方式是对第1至第4实施方式的一部分加以变更的方式，下面说明掩模版信息取得方法、掩模制作支援方法，提供给掩模制造厂的掩模版的制造方法，复制掩模的制造方法、在掩模版的制造过程中取得并保存掩模版信息的方法。此外还公示出掩模版信息提供方法、掩模版提供方法的具体事例。
在以下的实施方式的说明之中，膜信息也包括表面信息在内，可将膜信息理解为表面信息。
所谓膜信息是指通过扫描膜的表面取得的面信息。此外所谓基板信息是指通过扫描基板表面取得的面信息。所谓面信息是指可通过投影到二维座标的平面座标内进行掌握的信息。
此外，下面示出利用缺陷检查取得基板信息或膜信息的例子，所谓缺陷是指损害复制掩模的功能，或构成不良的复制掩模产生原因的表面形态或光学特性。可举的具体例子有颗粒状缺陷及针孔状缺陷。
掩模版信息的取得，正如图15所示，可利用与把在玻璃基板上形成1次膜、2次膜、抗蚀剂膜各自的薄膜后制造出的掩模版收容到箱中之前的工序并行进行的检查工序进行。在图15的例中，虽未图示出基板检查，但如果在准备好实施过镜面研磨等加工处理的玻璃基板之后，1次膜成膜之前进行基板检查的话，即可取得基板信息。
在图15所示的实施方式中，每当形成1次膜、2次膜、以及抗蚀剂膜的薄膜时均进行薄膜的缺陷检查。生成与该检查结果对应的1次膜的膜信息、2次膜的膜信息以及抗蚀剂膜的膜信息，使之与各基板(各掩模版)对应后，将这些信息记录保存到主计算机之中。然后，比照记录保存在主计算机中的基板信息及膜信息，归纳后生成掩模版信息。
掩模版信息综合多种基板信息、1次膜膜信息、2次膜膜信息、抗蚀剂膜膜信息等面信息后生成。构成掩模版信息的面信息是与同一掩模版的各个不同层面有关的信息。因此，掩模版信息是立体性表示掩模版的内部状态的信息。
掩模版信息与经掩模版的制造工序制造，收容在收容箱20内的各掩模版个体彼此对应后提供给掩模制造厂。上述信息利用书面文件、电子媒体、磁记录媒体、通信线路等由掩模版制造厂提供给掩模制造厂。
从图15可看出，该图被虚线分割为上中下三段。图15的下段表示将基板或掩模版收容到掩模版的制造工序，在各工序间运送基板时使用的收容箱内的方向性、即朝向的经纬。
图15的中段表示与各工序对应的制造过程的膜的结构和带膜基板的形态。图15的上段表示在缺陷检查工序中生成的膜信息。下面沿下段的掩模版的制造工序的流程，详细说明取得与保存膜信息的方法。
(1)基板加工工序准备已形成缺口标记1的玻璃基板。可通过该缺口识别玻璃基板的玻璃种类。
例如，缺口标记1具有实开昭62-17948号公报中所示的，通过在玻璃基板的角部将主表面和构成该角部的两个端面的三面切削成斜面形而形成的面形状。还可通过所形成的缺口个数、形成位置用于识别构成该玻璃基板的玻璃种类。
在本发明的实施方式中，缺口标记1具有作为确定基板的方向性的基准标记的作用，以及在后述的缺陷检查工序中取得的膜信息中的基准点的作用。
作为缺口标记1的具体实例，可如图16A所示，设置在基板的主表面一侧的两个角部。在对角位置上形成缺口标记1的玻璃基板的玻璃种类是合成石英玻璃。
接着，磨削、研磨加工玻璃基板的表面，加工出所需要的表面粗度和平坦度。此外，为了去除研磨加工时使用过的研磨剂，清洗玻璃基板。
接着，将玻璃基板收容到贴有ID卡2′的工序内流通用的匣2之中。下文将该匣称为流通匣2。该ID卡是可写入或读出与流通匣及收容在流通匣中的基板或掩模版有关信息的信息管理装置。ID卡是可记录及保存信息的媒体。例如可使用IC卡。
可对该ID卡付与并使之保持管理收容在流通匣中的各基板或各掩模版的管理号码，例如识别号码。
作为该管理号码，有付与每个流通匣的匣号、以及为了在该流通匣中收容多块基板而设置的，与多个槽对应付与的槽号。根据管理号码可识别各基板，管理各基板。
付与ID卡的管理号码具有使进行下面的工序时取得的各工序的信息，例如在各自的薄膜检查工序中生成的膜信息及在各自的薄膜形成工序中使用的制造条件及制造方法等与各基板对应的作用。
此外，流通匣2设定为可区别匣的朝向，即可区别前后左右。此外，在流通匣2的彼此相向的两个内壁上，以规定的间隔形成多个上下方向延伸的槽，每个槽均可收容玻璃基板或掩模版。以缺口标记为基准，使玻璃基板或掩模版的方向一致后在每个槽中收容一块。
具体而言，相对于流通匣2的规定位置，使玻璃基板上形成的缺口标记1以规定关系配置进行收容。匣内的多块玻璃基板或掩模版均朝着同一个方向排列及收容。
在本实施方式中，是以多块玻璃基板的缺口标记1抵达流通匣2的前侧，靠近身边的特定位置的方式收容的。
也就是说以付与流通匣2的前面为基准，使形成缺口标记1的基板面朝向匣前面排列的同时，从匣前面看，以收容的多块玻璃基板的缺口标记均具有相同的位置关系的形态进行收容。
下一工序以后，在各工序间收容基板的流通匣的结构均使用与上述的流通匣2具有相同结构的。
(2)1次膜成膜工序使用进行生产管理的主计算机，付与流通匣2随带的ID卡2′管理各基板的管理号码。主计算机使付与ID卡的管理号码与应处理各基板的制造工序的顺序，各工序中使用的制造条件彼此对应。主计算机具有能够收集制造工序内的各装置提供的信息(例如基板信息，膜信息等)并按照每个管理号码记录与保存的功能。
具体说，进行生产管理的主计算机给各流通匣随带的各ID卡2′付与并记录用来管理流通匣或收容的各基板的管理号码。此外，该主计算机使付与ID卡2′的管理号码与处理各基板的多种制造工序及检查工序的顺序、以及在这些工序中设定的制造条件等彼此对应。该主计算机还具有可针对每块基板收集从前述多种工序中取得的各工序的信息(例如基板信息、在各个薄膜的检查工序中生成的膜信息，各个薄膜的形成工序中使用的制造条件及制造方法等)后记录并保存的功能。
将收容在流通匣2内的玻璃基板一块一块取出，以形成缺口标记1一侧的基板面朝上，未形成缺口标记一侧的基板面与溅射靶相向的方式将基板配置到溅射装置的保持具上。
接着，使用MoSi的溅射靶在氩气和氮气的混合气体气氛中，采用(化学)反应性溅射法在玻璃基板面上形成作为移相膜的半色调膜。
成膜在与形成缺口标记1的主表面相向的(反面的)玻璃基板的主表面上进行。采用以上方法即可在玻璃基板表面上形成含MoSiN的作为半色调膜的移相膜。
基板的保持具上设有使基板主表面的周缘部的规定区域内不形成MoSiN半色调膜的遮蔽装置。
利用该遮蔽装置，可在基板主表面上形成不形成MoSiN膜的规定区域，作为膜标记3。
利用膜标记3的形状的不同及膜标记的位置、配置等即可识别玻璃基板上形成的薄膜种类。在本实施方式中，使用半色调膜用的膜标记。
膜标记3与上述缺口标记1相同，均可作为确定基板方向性的基准标记以及后述工序中取得的膜信息中的基准点使用。
作为膜标记31的具体用例，如图16B所示，可在与形成缺口标记1一侧相反一侧的主表面上的两个角部，按图示设置。
将利用溅射装置在玻璃基板表面形成了MoSiN膜的带MoSiN半色调膜的基板收容到流通匣2以外的另一流通匣4之中。在流通匣4之中，以缺口标记1或膜标记3为基准，使多块带半色调膜的基板方向一致后收容。
具体而言，以基板上形成的膜标记3按规定关系排列在流通匣4的规定位置上进行收容。
在本实施方式中，以多块带半色调膜的基板的膜标记3抵达流通匣4后侧的特定位置(图15中为流通匣的下方)的方式进行收容。
也就是说，以付与流通匣4的前面为基准，使未形成膜标记3一侧的基板面朝向匣的前面，也就是说，以使形成缺口标记1的基板面朝向匣的前面的方式排列基板的同时，从匣前面看，所收容的多块基板的膜标记3集中于同样的位置关系(图15中为流通匣的下方)后进行收容。
1次膜成膜结束的信息按每一管理号码保存在主计算机中。
此外，付与上述ID卡2′的管理号码的信息被转发给流通匣4随带的ID卡4′。被转发给ID卡4′的管理号码既可与付与ID卡2′的管理号码相同，也可由主计算机付与新的管理号码。后者的情况下，使付与ID卡2′的管理号码和新付与ID卡4′的管理号码彼此对应后保存到主计算机之中。
(3)1次膜检查工序该工序包括取得1次膜的薄膜信息的工序和把取得的膜信息记录保存到信息存储媒体中的薄膜信息记录工序。
取出收容在流通匣4中的带半色调膜的基板，将基板放置到检查1次膜(MoSiN半色调膜)的缺陷的缺陷检查装置中。
以形成缺口标记1的面朝下，形成膜标记3的面朝上的方式，将基板放置到保持具上。
然后，利用1次膜的缺陷检查装置扫描膜的表面，取得与该1次膜有关的膜信息。
膜信息是与膜的状态有关的状态信息，是通过扫描膜的表面取得的膜的表面信息。作为膜信息，有表面形态信息及光学特性信息。取得的膜信息采用可通过投影到平面上作为二维的面信息掌握的构成。
有可能在掩模制造工序中引起图案不良的缺陷位置信息(例如平面座标系中的X座标、Y座标)、缺陷大小、缺陷种类等可通过缺陷检查装置逐一判定，其结果可按管理号码保存在主计算机之中。
这时，缺陷的大小既可以直接保存直径等表示缺陷大小的测定值，还可预先规定用来分类缺陷大小的多个等级，将该等级作为缺陷的大小保存。
缺陷的种类可分类为突起形状、凹陷形状、其它缺陷等进行保存。作为突起形状有颗粒形的缺陷，作为凹陷形状有针孔形的缺陷。
所谓颗粒形的缺陷是指膜上或膜中附着了异物(例如颗粒状物质)状态的缺陷，所谓针孔形缺陷是指附着在膜中的异物脱落后的痕迹，膜缺失状态的缺陷。膜缺失有两种，一种是可确认膜底下的状态的完全没有膜的状态，另一种是不能确认膜底下的状态，膜厚局部变薄的状态。
位置信息以缺口标记1为基准，根据玻璃基板的尺寸，计算出玻璃基板主表面的中心后将此作为基准点(0)，将穿过该基准点，平行于玻璃基板各边的线作为假想的X轴、Y轴的XY座标系中的各缺陷的X座标，Y座标保存。
具体为，上述缺陷位置信息首先以缺口标记1的位置为基准，根据玻璃基板的尺寸，例如边长，计算出玻璃基板主表面的中心，将此定为基准点(0)，接着，以该基准点(0)为原点，决定沿垂直的玻璃基板边的垂直平面座标系(XY座标系)，最后，计算出该二维的XY座标系中各缺陷的X座标位置，Y座标位置，以该X座标、Y座标的值进行保存。
此处取得的薄膜的膜信息称之为1次膜膜信息。
将缺陷检查完毕的带半色调膜的基板收容到流通匣4以外的流通匣5中。以缺口标记1或膜标记3为基准，使多块带半色调膜的基板方向一致后收容到流通匣5中。
具体而言，使基板上形成的膜标记3以规定关系配置在流通匣5的规定位置上进行收容。
在本实施方式中，以多块带半色调膜的基板的膜标记3抵达后侧的特定位置(图15中为流通匣的下方)的形态收容在流通匣5中。
也就是说，以付与流通匣5的前面为基准，使形成缺口标记的基板面朝匣前面，形成膜标记3的面朝向与匣前面相反一侧排列的同时，从匣前面看，以膜标记3均集中于同样的位置关系(图15中为流通匣下方)的形态进行收容。
由于在检查前，收容方法受到多块基板的收容方向均集中于规定方向的管理，因而在检查工序中取得的面信息的方向性、座标系和基准点均可在供检查的多块基板间取得统一的信息。
由于在检查后，收容方法受到多块基板的收容方向均集中于规定方向上的管理，因而即使在下面的工序中，仍可保持供处理的基板的方向性(朝向)。
与此同时，付与上述ID卡4′的管理号码的信息被转发给流通匣5的ID卡5′。而且如上文所述，转发给ID卡5′的管理号码既可与付与ID卡4′的管理号码相同，也可付与新的管理号码。
收容在匣中的多块基板以匣为单位传送给下道工序。
(4)2次膜成膜工序接着，将收容在流通匣5中的带半色调膜的基板的放置到联机型溅射装置的保持具上。这时，以形成缺口标记1一侧的基板表面朝上，形成膜标记3一侧的面朝下的形态放置在保持具上。
使用铬(Cr)溅射靶，在氩气或氩气和氧气以及/或者氮气的混合气体气氛中，使用(化学)反应性溅射法，在作为1次膜的MoSiN半色调膜上形成作为2次膜的含Cr的遮光膜(下文称之为Cr遮光膜)。
为了使基板主表面周缘部的规定区域内不形成Cr遮光膜，在基板保持具上设有遮蔽装置。因此可在MoSiN半色调膜上形成不形成Cr遮光膜的规定区域，付与膜标记6。利用该膜标记6的形状，可识别膜的种类。在本实施方式中利用付与Cr遮光膜用的膜标记。
此外，在Cr遮光膜上形成的膜标记6与在玻璃基板上形成的缺口标记1及在半色调膜上形成的膜标记3相同，均可作为用来确定基板方向的基准标记及作为后述的缺陷检查工序中取得的膜信息中的基准点使用。
在本实施方式中，MoSiN半色调膜全部被Cr遮光膜覆盖。因此，从基板形成膜的一侧的面上很难看到膜标记3。但付与半色调膜的膜标记3，可从基板相反一侧的主表面透过玻璃基板确认。当利用膜标记3确定基板的方向性的情况下，可从基板未形成膜的一侧利用。
将利用联机型溅射装置在MoSiN半色调膜上形成的带Cr遮光膜的基板收容到流通匣5以外的流通匣7中。以膜标记6为基准，使多块带Cr遮光膜的基板方向一致后收容到流通匣7之中。
具体而言，以基板上形成的膜标记6以规定关系配置在流通匣7的规定位置上的方式进行收容。
在本实施方式中，以多块带Cr遮光膜基板的膜标记6抵达后侧的特定位置(图15中的流通匣上方)的形态收容在流通匣7中。
也就是说，以付与流通匣7的前面为基准，以形成膜标记6的一侧的面朝向与匣前面相反的一侧，以形成缺口标记1一侧的面朝向匣前一侧的形态排列多块基板。从匣前面看，使收容的多块基板的膜标记6均具有相同位置关系的形态(图15中为流通匣上方)进行收容。
此外，2次膜成膜结束的信息按每一管理号码保存在主计算机之中。付与上述ID卡5′的管理号码的信息被转发给流通匣7随带的ID卡7′。如上所述，被转发给ID卡7′的管理号码既可与付与ID卡5′的管理号码相同，也可付与新的管理号码。
在基板上层合了1次膜、2次膜的带膜基板被收容到匣7中之后，运送给下道工序。
(5)2次膜检查工序该工序是与1次膜检查工序相同的工序。该工序包括取得2次膜的薄膜信息的工序，将取得的膜信息记录保存到信息存储媒体中的薄膜信息记录工序。
将收容在流通匣7中的带Cr遮光膜的基板安装到检查2次膜(Cr遮光膜)的缺陷的检查装置的基板承载载物台上。这时，以使形成缺口标记1的面朝下，形成膜标记6的面朝上的形态承载的同时，以缺口标记1相对于承载载物台处于规定位置的方式配置基板。
与前述1次膜的缺陷检查相同，进行2次膜的缺陷检查，取得2次膜的膜信息。利用2次膜的缺陷检查装置扫描膜的表面，取得与该2次膜有关的膜信息。
膜信息是与膜的状态有关的状态信息，是通过扫描膜的表面取得的膜的表面信息。作为膜信息有表面形态信息及光学特性信息。取得的膜信息投影到平面上，即可作为二维的面信息进行掌握。
有可能在掩模制造工序中引起图案不良的缺陷的位置信息(例如平面座标系中的X座标、Y座标)、缺陷的大小、缺陷的种类等可通过缺陷检查装置判定，其结果按管理号码保存在主计算机之中。
缺陷的大小可将缺陷的尺寸个别保存，但也可用规定的尺寸级别表示。
缺陷的种类可分类为突起形状、凹陷形状、其它缺陷等保存。作为突起形状有颗粒形状的缺陷，作为凹陷形状有针孔形缺陷。
颗粒形的缺陷是指在膜上或膜中附着异物(例如粒状物质等)状态的缺陷，针孔形缺陷是指附着在膜中的异物脱落后的痕迹，膜缺失状态的缺陷。膜缺失有两种，一种是能够确认膜底下的状态的完全没有膜的状态，另一种是不能确认膜底下的状态，膜厚局部变薄的状态。
位置信息以缺口标记1为基准，根据玻璃基板的尺寸，计算出玻璃基板主表面的中心后将以此为基准点(0)，穿过该基准点，平行于玻璃基板的各边的线作为假想的X轴、Y轴的XY座标系中的各缺陷的X座标、Y座标保存。
上述缺陷的位置信息与1次膜检查工序相同，首先，以缺口标记1的位置为基准，根据玻璃基板的尺寸、例如边长，计算出玻璃基板主表面的中心，将此定为基准点(0)，接着，以该基准点(0)为原点，决定沿垂直的玻璃基板的边的平面直角座标系(XY座标系)，最后，在该二维的XY座标系中，计算出各缺陷的X座标位置、Y座标位置，以该X座标、Y座标的值加以保存。将此处取得的膜信息称之为2次膜膜信息。
将缺陷检查完毕的带Cr遮光膜的基板收容到流通匣7以外的流通匣8中。以膜标记6为基准使多块带Cr遮光膜的基板方向一致后收容到流通匣8中。
具体而言，使基板上形成的膜标记6以规定关系配置到流通匣8的规定位置上进行收容。
在本实施方式中，以多块带Cr遮光膜的基板的膜标记6抵达后侧的特定位置(图15中为流通匣的上方)的形态收容在流通匣8之中。
也就是说，以付与流通匣8的匣前面为基准，使形成膜标记6的面朝向与匣前面相反一侧，即形成缺口标记1的面朝向匣前面排列。此外，从匣前面看，以收容的多块基板的膜标记6均具有相同的位置关系的形态(图15中为流通匣的上方)进行收容。
由于在检查前，收容方法受到多块基板的收容方向均集中于规定方向的管理，因而在检查工序中取得的面信息的方向性、座标系和基准点均可在供检查的多块基板间取得统一的信息。
由于在检查后，收容方法受到使多块基板的收容方向均集中在规定方向上的管理，因而即使在下面的工序中仍可维持供处理的基板的方向性(朝向)。
付与上述ID卡7′的管理号码的信息被转发给流通匣8随带的ID卡8′而正如上述，转发给ID卡8′的管理号码既可与付与ID卡7′的管理号码相同，也可以付与新的管理号码。
收容在匣中的多块基板以匣为单位传送给下道工序。
(6)抗蚀剂膜成膜工序把收容在流通匣8内的带Cr遮光膜基板运入旋转涂布装置，用旋转涂布法在2次膜上涂布抗蚀剂膜，经烘干，冷却形成抗蚀剂膜。
采有以上方法即可制作出层合了基板、1次膜、2次膜，抗蚀剂膜的掩模版。根据需要，有些情况下也可不形成抗蚀剂膜。
将制作出的掩模版收容进流通匣8以外的流通匣9。以膜标记6为基准，使多块掩模版的方向一致后收容到流通匣9之中。
具体而言，使基板上形成的膜标记6以规定关系配置在流通匣9的规定位置上进行收容。
在本实施方式之中，以多块掩模版的膜标记6抵达后侧的特定位置(图15中为流通匣的上方)的形态收容在流通匣9之中。
也就是说，以流通匣9的匣前面为基准，使形成膜标记6的面朝向与匣前面相反一侧，也就是说使形成缺口标记1的面朝向匣前面排列的同时，从匣前面看，以收容的多块基板的膜标记6均具有相同的位置关系的形态进行收容。
此外，抗蚀剂膜成膜结束的信息，按每个基板号码保存在主计算机之中。付与上述ID卡8′的管理号码的信息被转发给流通箱9随带的ID卡9′。并如上述，转发给ID卡9′的管理号码既可与付与ID卡8′的管理号码相同，也可以付与新的管理号码。
(7)抗蚀剂膜检查工序该工序是与1次膜检查工序、2次膜检查工序相同的工序。该工序包括取得抗蚀剂膜的薄膜信息的工序、以及将取得的膜信息记录保存到信息存储媒体之中的薄膜信息记录工序。
将收容在流通匣9中的带抗蚀剂膜的基板(掩模版)安装到检查抗蚀剂膜的缺陷的缺陷检查装置的承载基板的载物台上。
这时，使形成缺口标记1的面朝下，形成膜标记6的面朝上，放置在该载物台上。此外，缺口标记1以规定位置配置在载物台上进行安装。
通过抗蚀剂膜的缺陷检查，取得抗蚀剂膜的膜信息。利用抗蚀剂膜的缺陷检查装置扫描膜的表面，取得与该抗蚀剂膜有关的信息。
膜信息是与膜的状态有关的状态信息，是通过扫描膜的表面取得的膜的表面信息。作为膜信息，有表面形态信息及光学特性信息。取得的膜信息采用可通过投影到平面上作为二维的面信息掌握的构成。
有可能在掩模制造工序中引起图案不良的缺陷位置信息(例如平面座标中的X座标、Y座标)、缺陷大小、缺陷种类等可通过缺陷检查装置判定，其结果可按每个管理号码保存在主计算机之中。
位置信息以缺口标记1为基准，根据玻璃基板的尺寸，计算出玻璃基板主表面的中心后将此作为基准点(0)，将穿过该基准点平行于玻璃基板各边的线作为假想的X轴、Y轴的XY座标座系中的各缺陷的X座标、Y座标保存。
而上述缺陷位置信息与上述1次膜检查工序、2次膜检查工序相同，首先，以缺口标记1的位置为基准，根据玻璃基板的尺寸(边长)；计算出玻璃基板主表面的中心，将此定为基准点(0)，接着，以该基准点(0)为原点，决定沿垂直的玻璃基板的边的直角座标系(XY座标系)，最后，计算出该XY座标系中各缺陷的X座标位置、Y座标位置，以该X座标Y座标的值进行保存。此处取得的膜信息称之为抗蚀剂膜信息。
将缺陷检查完毕的掩模版收容到流通匣9以外的流通匣10中。以膜标记6为基准，使多块掩模版的方向一致后收容到流通匣10之中。
具体而言，使基板上形成的膜标记6以规定的关系配置在流通匣10的规定位置上进行收容。
在本实施方式中，以多块掩模版的膜标记6抵达后侧的特定位置(图15中的流通匣的上方)的形态收容在流通匣10中。也就是说，以流通匣10的匣前面为基准，使形成膜标记6的面朝向与匣的前面相反的方向，即，以形成缺口标记1的面朝向匣的前面，排列多块掩模版，从匣前面看，使收容的多块基板的膜标记的均处于用同一位置关系(图15中的流通匣上方)的形态进行收容。
由于在检查前，收容方法受到多块掩模版的收容方向均处于规定方向的管理，因而在检查工序中取得的面信息的方向性、座标系和基准点可在供检查的多块掩模版间取得统一的信息。
由于在检查后，收容方法受到多块掩模版的收容方向均处于规定方向的管理，因而即使在下道工序中仍可维持掩模版的方向性(朝向)。
付与上述ID卡9′的管理号码的信息被转发给流通匣10随带的ID卡10′。而且如上文所述，转发给ID卡10′的管理号码既可与付与ID卡9′的管理号码相同，也可付与新的管理号码。
(8)膜信息的比照工序将分别取得的膜信息与在玻璃基板上依次成膜的1次膜、2次膜、抗蚀剂膜的各层薄膜彼此进行比照。此外，取得了基板信息的情况下，可比照基板信息和膜信息。
与被比照的掩模版有关的膜信息可通过号码确定。
在本发明之中，膜信息可以作为面信息取得。该面信息中的位置基准点可通过以与设置在基板或掩模版上，可构成基准标记的缺口标记及膜标记具有规定关系来取得。此外，取得膜信息、面信息时，可通过使基板或掩模版的方向全都一致来取得信息。
通过彼此比照1次膜膜信息、2次膜膜信息，抗蚀剂膜膜信息，即可验证各种膜信息是否构成具有一致朝向的面信息。此外，可根据验证结果，使各种膜信息的朝向一致。
具体而言，在成膜工序的前后，能以基板上的位置不变的，即处于同一位置的形态为基准比照各膜的膜信息。
例如，当作为最下层膜的1次膜上存在缺陷等特定形状的情况下，由于1次膜的形态也将反映在与1次膜相比更靠上层的2次膜、抗蚀剂膜上，因此，通过以1次膜信息为基准，比照其它膜信息的方向性，即位置信息中的基准点、XY座标系是否相互一致即可进行确认。
例如，由于当最下层的1次膜上有缺陷的情况下，比1次膜靠上层的2次膜、抗蚀剂膜上也将产生缺陷，因此，以1次膜信息中所含的缺陷为基准就可判定其它膜信息的方向是否正确。
图17是比照1次膜膜信息、2次膜膜信息、抗蚀剂膜膜信息时的例子。在图17之中是以在1次膜膜信息，2次膜膜信息、抗蚀剂膜膜信息中共同检出的缺陷为基准的。详细情况为，是以基板上的位置座标不变，处于同一位置的缺陷(□、△、×重合的位置)为基准，比照2次膜、抗蚀剂膜的膜信息的例子。
通过此种膜信息的比照即可使各个膜信息的方向性(朝向)也就是可使位置信息中的基准点、XY座标系一致。
不过，例如在把基板从某个流通匣转移到其它流通匣中时，有可能在收容到流通匣中时搞错基板的方向性。此外，在把基板从流通匣转移到各检查装置，或从各检查装置转移到流通匣中时，也可能在装卸时搞错基板的方向性。在此类情况下，膜信息和掩模版的方向性有可能不一致。
为了避免此种可能性，在流通匣及收容箱中取放基板及掩模版时，其操作者将缺口标记1、膜标记3及6作为表示基板方向的基准标记，按照预先规定的方向性(朝向)取放基板及掩模版。
具体而言，如前所述，使多块基板及掩模版的缺口标记朝向流通匣前侧，排列在各工序间收容基板及掩模版的流通匣中，此外，从匣前侧看，使缺口标记均处于规定位置收容基板及掩模版即可。
为了方便起见，前文介绍了付与匣前侧显示的情况，但如果排列能保证箱的方向肯定相同，不一定要有可看到的前侧显示。此外，如果能通过主计算机掌握与管理匣的朝向，不一定要有可看到的前侧显示。
以膜标记3配置在流通匣内的下方位置，膜标记6配置在流通匣内的上方位置的形态收容基板及掩模版。
此外，将基板及掩模版设置到各膜的缺陷检查装置中时，以缺口标记及膜标记朝向规定的方向放置在载物台上，还有，放置时应使缺口标记及膜标记抵达载物台上的规定位置，进行规定的检查即可。
采用以上办法即可防止膜信息间的方向性(朝向)不一致。此外，还可预先防止膜信息的方向性(朝向)与收容的掩模版的方向性(朝向)不一致。
通过使掩模版制造过程中的基板、掩模版的方向性(朝向)保持一定，可使掩模版的基准点、XY座标系一致，还可使该掩模版的基准点、XY座标系和各膜的膜信息的基准点、XY座标系一致。
如上所述，由于可构成包含在膜信息、基板信息中的位置信息的面座标及位置基准点可相互关联的掩模版信息，因而该掩模版信息可作为掩模版体内的内部立体信息看待。
还有，由于经过了上述比照工序，因而可作为可靠性高的掩模版体内的立体信息加以保证。
(9)掩模版打包工序将掩模版收容到收容箱20中后打包，配送给掩模制造厂。
此处参照图18A及图18B说明该收容箱20，各个收容箱20上均随带着付与的固有箱号21。
该箱号21与后述的槽号一道，与在上述掩模版的制造过程中，为了使各基板和各工序的信息(例如膜信息)对应而付与的管理号码彼此关联后付与。此外，箱号21与保存在主计算机中的各膜的膜信息或基板信息具有对应关系。
箱号21可由收容箱20附上，但箱号21的附带并不局限于印刷品等视力可识别的形态，例如也可使用条码、磁记录媒体、IC芯片、IC卡等可读取的媒体附带。
收容箱20由箱盖22和外箱23构成，采用外箱23中还收容了内箱24的构成。内箱24形成自上而下由多个槽构成的槽25，在槽25之间以一定间隔形多个槽，这些槽中即可收容掩模版。
隔板25虽是掩模版间的间隔板，但为了便于下文的说明，把相邻两个间隔板25间形成的容纳基板的槽也称之槽(slot)。从这个意义上说，图18B中有5个用于容纳5块基板的槽，即5个槽。
与各槽相对应，付与槽号，分别称之为1号槽、2号槽、...5号槽。在外箱23的外表面上靠近1号槽的面上贴有表示收容箱20朝向的前面显示26。
掩模版以掩模版上形成的缺口标记1配置在前面显示26一侧的特定位置的方式配置在各槽(1号槽、2号槽、....5号槽)之中，并以膜标记3配置在收容箱下方，膜标记6配置在收容箱上方的方式收容及打包。
通过组合上述箱号及槽号即可个体识别收容在收容箱中的掩模版。并可利用该箱号及槽号，与保存在主计算机中的各膜的膜信息或基板信息对应，确定掩模版信息。
如上所述，在打包工序之中同样可通过以使掩模版上形成的缺口标记1配置在前面显示26一侧的特定位置上，使膜标记3配置在收容箱的下方，膜标记6配置在收容箱6上方的方式进行收容，即可使各掩模版的基准点、XY座标系和各膜的膜信息或基板信息的基准点、XY座标系一致。
因而能够使掩模版个体和与该掩模版个体有关的掩模版信息正确对应，防止掩模制作时的图案不良。
此外，掩模制作者不仅可掌握掩模版的表面信息，还可掌握掩模版的内部状态。
下面参照图19说明收容在结束了版打包工序的收容箱内的掩模版、和该掩模版的膜信息提供给掩模制造厂的掩模版提供方法、以及掩模制作支援系统。
如上所述，使按照每个管理号码保存在主计算机之中的包括1次膜膜信息、2次膜膜信息、抗蚀剂膜膜信息在内的掩模版的个体信息(掩模版信息)与用箱号及槽号确定的掩模个体对应，与收容在收容箱中的多块掩模版一道提供给掩模制造厂。
掩模版信息的提供方法有(a)在收容箱中随带印刷了信息的印刷物，(b)将记录了信息数据的软盘、CD-ROM等记录媒体随带到收容箱20之中。
(c)通过数据通信线路，把信息数据发送给配送目的地的掩模制造厂的计算机等。
(a)及(b)的情况下，将信息本身与槽号码的对应关系一并随带在收容箱20中。(c)的情况下，由掩模制造厂发送箱号及槽号，通过接收相应的信息接受提供。
而信息正如图17所示，既可以是可视觉性看清各缺陷如何配置的图，也可以是各缺陷的种类、缺陷的尺寸，缺陷的位置信息(X座标、Y座标)的数据表。信息通常是以各膜的膜信息为单位提供给掩模制造厂的，但也可如图17所示，将各膜的信息制作成1张缺陷图提供给掩模制造厂。
如上所述，作为面信息取得的基板信息或膜信息中的位置信息，例如缺陷的位置信息在该实施方式中，以缺口标记1为基准，计算出基板主表面的中心后，将此作为基准点(0)，用穿过该基准点的XY座标系中的各缺陷的X座标、Y座标表示，此外，由于收容在收容箱中的掩模版也是以缺口标记1均处于抵达收容箱的特定位置的方式收容，因而可掌握收容在收容箱中的掩模版上的基准点、座标系、和位置信息中的基准点、座标的对应关系，或者以一致的状态提供给掩模制造厂。
如上所述，可将与每一个掩模版对应的掩模版信息提供给掩模制造厂。被提供的掩模版个体以其位置基准点及座标系与版膜信息的位置基准点及座标系对应的关系提供给掩模制造厂。
掩模制造厂利用用来确定箱号及槽号、管理号码及管理标记等间接性付与掩模版的装置，个体识别所提供的掩模版，即能够以处于前述规定关系的基准点及座标系为媒介，比照所提供的掩模版和掩模版信息。此外，能够以处于前述规定关系的基准点及座标系为媒介，准确掌握一个又一个掩模版的表面形态等状态。
因此，能够根据需要适当确定适合形成规定的复制图案(掩模图案)的掩模版上的区域。因而能够抑制应形成的图案的图案形成不良。
掩模制造厂在提供来的掩模版上确定形成包括复制图案在内的掩模图案的区域，即可在掩模版上形成的薄膜上绘制图案，制作复制掩模。
下面将用上述(c)的数据通信线路提供信息的提供方法作为具体例参照图19说明本发明的掩模制作支援系统110。
从图19可知，掩模制作支援系统110由下述三部分构成掩模版制造厂111、以掩模版制造厂111中制造的掩模版为基础制造掩模的掩模制造厂112、连接两个制造厂的数据通信线路113。此外，掩模版制造厂111由主计算机51及服务器114构成。
在掩模版制造厂111中制造出的掩模版收容到收容箱10中后即可配送给掩模制造厂112。主计算机51是前述的掩模版生产线控制系统50的主计算机51。
服务器114，从主计算机51接收所需信息(膜信息等)，使之与确定配送给掩模制造厂112的掩模版的箱号和槽号和膜信息对应后保存，通过互联网113将规定信息提供给远在外地的掩模制造厂112的主计算机。
也可在主计算机51之中使确定配送给掩模制造厂112的掩模版的箱号和槽号和膜信息等的掩模版信息对应后保存。
下面参照图20，举例说明具有掩模制造厂112利用掩模制作支援系统110中接收的信息，在掩模版的抗蚀剂膜上绘制图案与显影处理工序的掩模制造工序。
收到收容箱10的掩模制造厂112的操作者通过目力识别或机器读取，从收容箱10取得箱号之后，使用计算机等数据通信装置，通过互联网等的数据通信线路113，把箱号发送给服务器114。与之相对应，服务器114使收容在该箱号的收容箱的各槽中的掩模版的膜信息与箱号、槽号对应后发回(步骤S121)。
作为数据通信的方式有多种方式，例如也可通过电子信箱传送双方用于个体识别箱号及槽号等的信息和膜信息等掩模版信息。
或者，也可在服务器114中设置表示与收容在该箱号的收容箱的各槽内的掩模版的信息的对应关系的数据库，回复与掩模制造厂112一侧输入的箱号对应的膜信息等掩模版信息。
在该阶段内，掩模版具有图21A所示的剖面，呈在玻璃基板上层合了1次膜(半色调膜)、2次膜(遮光膜)、抗蚀剂膜等多层膜的状态。
接收到膜信息的掩模制造厂112将准备制造的掩模的掩模图案数据与取得的膜信息进行比照(步骤S122)。
如上所述，这时，掩模版的基准点XY座标系和膜信息中的位置信息的基准点、XY座标对应，通过比照膜信息和掩模图案数据，即可决定掩模图案在掩模版上的配置。
另外，假定掩模制造厂112、从掩模版制造厂111接收到掩模版信息141，并正准备绘制掩模图案142。掩模版信息141包括1次膜膜信息、2次膜膜信息、抗蚀剂膜膜信息。
一般而言，正如图22所示，掩模上形成的掩模图案具有图案密度高的密集图案区域143和图案密度低的稀疏图案区域144。
作为具有掩模图案为形成密集图案的区域143和形成稀疏图案的区域144的掩模有系统LSI制造用掩模等。
尤其是作为稀疏图案形成区域，具有为进行电特性试验而形成的监视芯片形成区域的掩模图案的情况下，本发明的掩模制作支援方法特别有效。
另外，一般说来，有可能在掩模制造工序中造成图案不良的掩模版的缺陷，具体而言，针孔及颗粒大多并非均匀分布，而是不均匀分布。
通过参照接收到的作为掩模版信息的膜信息141，调整并决定图案绘制位置以便把造成图案不良的针孔及颗粒配置到掩模图案数据中的密集图案形成区域143以外的区域(步骤S123)。
图案绘制位置的调整方法有变更与掩模版的朝向相对应的掩模图案142的朝向。此外，如果密集图案形成区域143和稀疏图案形成区域144的相对位置关系可变，也可通过变更此进行调整。
最后，按照决定后的图案绘制位置，通过在抗蚀剂膜上绘制图案及显影，即可获得玻璃基板上形成了掩模图案(复制图案)的掩模(步骤S124)。
由于经过上述步骤S121～124制作出的掩模将有可能造成掩模版中的图案不良的针孔及颗粒配置在稀疏图案形成区域内，因而可抑制掩模图案的图案形成不良。
下面参照图23详细说明在上述实施方式中，主计算机51从各装置中收集各工序的信息(例如在各自的检查工序中生成的基板信息、膜信息及制造条件、方法等信息)的掩模版生产线控制系统50的一例。
从图23可知，掩模版生产控制系统50由下述各部分构成主计算机51、匣号及槽号付与装置52(下文标示为付与装置52)，1次膜成膜装置53、1次膜缺陷检查装置54、2次膜成膜装置55、2次膜缺陷检查装置56、抗蚀剂膜成膜装置57以及抗蚀剂膜缺陷检查装置58。
流通匣为了能够收容多块基板，以规定间隔形成上下方向上的多个槽的同时，还配置有ID卡。ID卡内可付与管理收容在流通匣中的各基板的信息。具体而言，可记录流通匣的匣号。
从图24可知，把基板投入生产线时，将基板收容进流通匣的各槽之中，用付与装置52，由输入部521将匣号、槽号、工序流程输入ID卡。
工序流程由工序顺序、工序中使用的装置名称、与在各装置中进行的处理的处理条件对应的方法号构成，按照准备生产的掩模版以流通匣为单位提供。在生产线上，基板的确定可用工序内的位置、匣号、槽号进行。
付与装置52将匣号写入流通匣的ID卡的同时，通过数据收发信部522将匣号、槽号以及工序流程发送给主计算机51从图25可知，主计算机51用数据收发信部511接收付与装置52发送来的数据后，使匣号、槽号以及工序流程彼此关联后存储到工序流程存储部512中。
结束了用付与装置52输入匣号的流通匣(下文将该流通匣标示为匣A)一被设置在1次成膜装置53的进料口531之中，即从匣A的ID卡中读取匣号，通过数据收发信部532通知主计算机51。
从图26可知，与之相呼应，主计算机51将匣A的匣号、槽号、溅射成膜的方法号发送给1次成膜装置53。而方法号也可在溅射成膜的动作即将开始时发送。
在接收到该信息的1次成膜装置53之中，用方法号——溅射条件比照部533比照与方法号对应的溅射条件，将比照后的溅射条件存储到溅射条件存储部534之中。溅射条件控制部535控制溅射装置536，进行溅射成膜。
溅射装置536从匣A中抽出基板，开始溅射成膜。在溅射成膜的过程中收集溅射实绩，与槽号关联。
溅射成膜完毕的基板进入预先在出料口准备好的别的流通匣(下文标示为匣B)的槽中。这时，槽号、溅射实绩、出料口槽号收集部537(下文标为收集部)收集匣A中的槽号，相关的溅射实绩、匣B中的槽号，用数据收发信部532发送给主计算机51。此外，匣B的槽一装満1次膜成膜后的基板，收集部537即与匣B的匣号一道将其内容通知主计算机51。
收到该信息后，主计算机51按照匣号B、匣号A、工序流程的顺序确定下一道工序，给未图示的匣运送部下达运送目的地的指令。此外，主计算机51将匣B的匣号、以及发送给1次成膜装置53的溅射方法号发送给一次膜缺陷检查装置54。
从图27可知，1次膜缺陷检查装置54用数据收发信装置541一接收到该信息即将此交给匣号——方法号比照部542。
流通匣一被运入进料口543，匣号-方法号比照部542即与从流通匣的ID卡中读出的匣号对应的方法号比照。如果此处的匣号是匣B，即可获得对收容在匣B中的基板实施溅射成膜时的方法号。
在缺陷检查条件存储部544之中预先存储与可对在方法号所示的方法条件下成膜的膜进行的检查条件的对应关系，一从匣号-方法号比照部542接收到方法号，即输出可进行的检查条件。
缺陷检查条件控制部545通过按照该检查条件控制缺陷检查装置546，进行检查。缺陷检查装置546将检查结果作为缺陷检查信息输出。检查完毕的基板被收容到预先设置在出料口547上的别的流通匣(下文标示为匣C)的槽之中。
出料口匣号、出料口槽号付与部548在给匣C付与匣号的同时，使匣C的匣号、匣C的槽号、收容在槽中的基板的缺陷检查信息彼此关联后，用数据收发信部541发送给主计算机51。
主计算机51使发送来的信息与用1次膜成膜装置53取得的溅射实绩等相关联后存储到信息存储部513中。
关于2次膜成膜装置55，2次膜检查装置56，由于与1次膜成膜装置53以及1次膜检查装置54相比较，仅有成膜的膜的种类不同造成的区别，构成要素及动作并无大的区别，因而省略其说明。图28所示的抗蚀剂膜成膜装置57以及抗蚀剂膜缺陷检查装置58，也与此相同。
采用以上办法，以从1次膜成膜装置53、1次膜检查装置54、2次膜成膜装置55、2次膜检查装置56、抗蚀剂膜成膜装置57以及抗蚀剂膜缺陷检查装置58收集到信息为基础，缺陷信息比照部514生成第1实施方式中说明过的1次膜膜信息、2次膜膜信息，抗蚀剂膜膜信息的同时，通过比照这些信息生成图17所示的掩模版信息。
在上述实施方式中，将基板及掩模版设置到流通匣及收容箱、溅射装置的基板的保持具、缺陷检查装置的载物台上时，实施了以缺口标记1、膜标记3、6为基准构成某个特定的方向性(朝向)的管理，但并不局限于此，也可在整个掩模版的制造工序中均以缺口标记1确定基板的方向性，仅用缺口标记管理基板的方向性。
此外，除缺口标记1及膜标记3、6之外，也可以是付与基板的基准标记。在此情况下的基准标记可具有能够确定基板的方向性(朝向)的形状。
此外，基板上，或掩模版上的基准标记的配置位置可设置在相对于基板的中心旋转非对称的位置上。
此外，在上述实施方式中，将膜信息设定为在基板上形成的多种膜的膜信息，但取得的膜信息也可以是单层的膜。即使是从掩模版制造厂出厂时取得的信息仍可适用。在此情况下，同样具有保证膜信息的基准点和XY座标系一致，掩模版的基准点和XY座标系一致的作用。此外，除膜信息之外，也可包括基板表面的信息。
此外，在上述实施方式中是以作为掩模版在玻璃基板上形成MoSiN半色调膜、Cr遮光膜、抗蚀剂膜的半色调型的移相掩模版为例说明本发明的掩模制作支援方法的，但并不局限于此，在玻璃基板上形成Cr遮光膜、抗蚀剂膜的所谓光掩模版，以及在玻璃基板上形成多层反射膜、吸收体膜、抗蚀剂膜的反射型掩模版上同样可适用。
此外，在上述掩模版之中，未形成抗蚀剂膜的掩模版也同样可适用本发明。
此外，在本发明之中，并不局限于实施方式中所述的半色调膜的膜材料、遮光膜的膜材料，也可以是通常可用于掩模版的其它膜材料。
此外，在上述实施方式中是在各个流通箱上单独设置ID卡的，流通箱自当别论，ID卡也可改贴在下道工序中使用的流通箱上使用。
以上根据实施方式说明了本发明，但本发明并不局限于此，很显然，可在业内人士的通常的知识范围内对此加以变更及改良。
例如，上述实施方式中的膜信息是以基板的规定方向为基准，包括在膜上预先规定的XY座标系的X座标、Y座标、缺陷的大小、缺陷的种类的信息，但各座标中的测定值的种类及其数值并不局限于此。作为膜信息，还可包括与平面度等形状有关的值，电阻值等电气特性值、折射率等光学特性值。这些测定值中，既可全部包含在膜信息中，也可包含一部分。
此外，在基板信息及各种膜信息之中，作为座标系使用了直角座标系，但并不局限于此，既可以是其它极座标系，也可使用三维座标系取代二维座标系。例如若设定在膜信息中使用XYZ座标系，则可在可用膜表面的X及Y表示的点上纳入深度Z的位置上存在空洞之类的信息。可取得更加详细的掩模版信息。
权利要求
1.一种掩模版信息取得方法，其特征在于在获取涉及基板上具有多层层合的膜的掩模版的信息的掩模版信息的方法之中，前述掩模版信息包括基板信息以及一种以上的膜信息，或两种以上的膜信息；前述基板信息包括与基板面对应的平面座标系内的位置信息，以及表示与位置信息相关的基板状态的状态信息；一种前述膜信息包括与一种膜对应的平面座标系中的位置信息，以及表示与位置信息相关的该膜状态的状态信息；包含在前述掩模版信息中的前述基板信息或前述膜信息的平面座标系具有规定的对应关系。
2.根据权利要求1所述的掩模版信息取得方法，其特征在于，包括下述阶段在基板面上或在基板面上成膜的另一膜上形成第1膜的阶段；取得与已成膜的前述第1膜的状态有关的第1膜信息的阶段；在前述第1膜上形成第2膜的阶段；取得与已成膜的前述第2膜的状态有关的第2膜信息的阶段；生成包括前述第1膜信息以及第2膜信息在内的掩模版信息的阶段；
3.根据权利要求1所述的掩模版信息取得方法，其特征在于，包括下述阶段准备基板的阶段；取得与准备好的前述基板的状态有关的基板信息的阶段；在前述基板面上形成膜的阶段；取得与已成膜的前述膜的状态有关的膜信息的阶段；生成包括前述基板信息以及膜信息在内的掩模版信息的阶段。
4.根据权利要求1所述的掩模版信息取得方法，其特征在于前述平面座标系的基准点具有规定的关系。
5.根据权利要求1所述的掩模版信息取得方法，其特征在于前述平面座标系的基准点是以在将基板上形成的标记以及膜上形成的标记中的至少一方为基准而被确定出的。
6.根据权利要求1所述的掩模版信息取得方法，其特征在于还包括相互比照前述基板信息以及/或者膜信息的阶段。
7.根据权利要求1所述的掩模版信息取得方法，其特征在于前述状态信息至少包括与表面形态有关的信息以及与光学特性有关的信息中的一种。
8.根据权利要求1所述的掩模版信息取得方法，其特征在于前述膜的至少一种是移动曝光光相位的移相膜。
9.根据权利要求1所述的掩模版信息取得方法，其特征在于通过把前述基板信息以及1种以上的膜的前述膜信息投影到平面上生成的信息或把多个膜的前述膜信息投影到平面上生成的信息包含到前述掩模版信息之中。
10.根据权利要求1所述的掩模版信息取得方法，其特征在于还包括取得前述膜信息之前，在基板以及/或者膜的预定位置上付与可作为状态信息检出的基准标记的阶段；把表示根据基准标记规定的基准或掩模版的朝向的信息包含在掩模版信息之中。
11.根据权利要求10所述的掩模版信息取得方法，其特征在于基准标记生成为可确定方向的形状。
12.根据权利要求10所述的掩模版信息取得方法，其特征在于基板的轮廓具有旋转对称性的形状，包括付与的基准标记在内的基板形状则具有旋转非对称性。
13.根据权利要求10所述的掩模版信息取得方法，其特征在于，包括下述阶段用装置A在基板上形成膜a的同时，通过测定前述膜a，取得包括前述基准标记在内的膜信息a的阶段；把该基板从前述装置A中取出的阶段；以前述基准标记为基准，将该基板以预先规定的朝向收容到箱中的阶段；将前述箱运送给装置B的阶段；以前述基准标记为基准，将该基板以预先规定的朝向设置到前述装置B中的阶段；用前述装置B在该基板上形成膜b的同时，通过测定前述膜b，取得包括前述基准标记在内的膜信息b的阶段；
14.根据权利要求10所述的掩模版信息取得方法，其特征在于，包括下述阶段把基板设定到测定装置中后测定基板，取得包括前述基准标记在内的前述基板信息的阶段；把该基板从前述测定装置中取出的阶段；以前述基准标记为基准，将该基板以预先规定的朝向收容到箱中的阶段；把前述箱运送给装置A的阶段；以基准标记为基准，将该基板以预先规定的朝向设置到装置A中的阶段；用前述装置A在基板上形成膜a的同时，通过测定膜a取得包括前述基板标记在内的膜信息a的阶段。
15.根据权利要求1所述的掩模版信息取得方法，其特征在于取得的掩模版信息可供识别掩模版个体时参考。
16.根据权利要求1所述的掩模版信息取得方法，其特征在于前述状态信息至少包括两种测定值。
17.根据权利要求1所述的掩模版信息取得方法，其特征在于前述基板信息及膜信息的至少一方还含有包括基板或膜的厚度方向的座标在内的立体座标系中的位置信息。
18.一种掩模版信息提供方法，其特征在于在提供通过在基板上重迭多层膜制作出的作为掩模版涉及的信息的掩模版信息的方法之中，将用权利要求1所述的掩模版信息取得方法取得的掩模版信息与该掩模版一并提供。
19.一种复制掩模制作支援方法，其特征在于在通过把掩模版信息提供给掩模制造厂，支援复制掩模的制作的方法之中，包括利用权利要求18所述的掩模版信息提供方法把掩模版信息提供给掩模制造厂的阶段；提供的掩模版信息为防止制作出不良复制掩模，可在对应的掩模版上形成掩模图案之前，确定形成掩模版上的掩模图案的区域时参考。
20.一种复制掩模制作支援方法，其特征在于包括利用权利要求18所述的掩模信息提供方法将掩模版信息提供给掩模制造厂的阶段；是把掩模版信息中的座标系的基准点通过前述基准标记通知掩模制造厂的方法。接到提供的前述掩模制造厂通过前述基准标记，取得前述平面座标系间的前述对应关系，根据取得的前述对应关系及前述掩模版信息决定应形成掩模图案的区域。
21.根据权利要求19所述的复制掩模制作支援方法，其特征在于在掩模版上形成的掩模图案包括相对密集的图案区域和相对稀疏的图案区域。
22.一种复制掩模制造方法，其特征在于通过在掩模坯件上形成构成复制图案的掩模图案，制造复制掩模的方法之中，根据用权利要求1所述的掩模版信息取得方法取得的掩模版信息，决定在掩模坏料上配置掩模图案的区域。
23.一种掩模版制造方法，其特征在于掩模版的制造方法之中包括权利要求1所述的掩模版信息取得方法。
24.一种掩模版信息取得系统，其特征在于作为与基板上配置多层层迭膜的掩模版有关的信息，取得掩模版信息的系统之中，包括取得与基板的状态有关的基板信息的装置；取得与基板面上或在基板面上成膜的其它膜上成膜的第1膜的状态有关的第1膜信息的装置；以及在取得与前述基板面上成膜的前述第1膜以外的膜的第2膜的状态有关的第2膜信息的装置之中，具有至少两种信息取得装置；还具有生成包括用该信息取得装置取得的信息在内的掩模版信息的装置。
25.根据权利要求24所述的掩模版信息取得系统，其特征在于前述基板信息包括与基板面对应的平面座标系中的位置信息、表示与位置信息有关的基板的状态的状态信息；一种前述膜信息包括与一种膜对应的平面座标系中的位置信息、表示与位置信息有关的该膜的状态的状态信息；包括在前述掩模版信息中的前述基板信息或前述膜信息的座标系具有规定的对应关系。
26.根据权利要求10所述的掩模版信息取得方法，其特征在于前述基板为多边形，在夹在前述基板彼此相接的两个侧边之间的区域内付与前述基准标记。
27.根据权利要求10所述的掩模版信息取得方法，其特征在于在彼此旋转非对称的位置上付与偶数个前述基准标记。
28.一种通过把掩模版信息提供给掩模制造厂支援复制掩模制作的方法，其特征在于包括利用权利要求18所述的掩模版信息提供方法把多个掩模版的掩模版信息提供给掩模制造厂的阶段；所提供的掩模版信息可供形成掩模图案之前，选择前述从前述多个掩模版中选择一种时参考。
29.根据权利要求13所述的掩模版信息取得方法，其特征在于还包括在取得前述膜信息b的阶段之后，以前述基准标记为基准，使该基板朝向预定的方向后收容到箱中的阶段。
30.根据权利要求14所述的掩模版信息取得方法，其特征在于还包括在取得前述膜信息a的阶段之后，以前述基准标记为基准，使该基板朝向预定的方向后收容到箱中的阶段。
31.一种掩模版提供方法，其特征在于提供掩模版的同时，提供用权利要求1所述的掩模版信息取得方法取得的与该掩模版有关的掩模版信息。
全文摘要
在基板上形成至少包括构成复制图案的薄膜在内的多个膜的掩模版，在对掩模版的抗蚀剂膜，按照图案数据形成图案时，对多个膜中的每个分别取得用于与图案进行比照的膜信息。
文档编号H01L21/027GK1930520SQ200580007570
公开日2007年3月14日 申请日期2005年3月7日 优先权日2004年3月9日
发明者石田宏之, 相山民也, 丸山光一 申请人:Hoya株式会社