一种用cd/dvd印刷复制线生产的cigs薄膜电池和制备工艺的制作方法

文档序号:7165715阅读:223来源:国知局
专利名称:一种用cd/dvd印刷复制线生产的cigs薄膜电池和制备工艺的制作方法
技术领域
本发明涉及一种用⑶/DVD印刷复制线生产的CIGS薄膜电池和制备工艺,应用于⑶/DVD印刷复制线工艺改造,并生产低成本CIGS薄膜电池。
背景技术
我国光盘印刷复制业的发展受数字产业影响,现存的2000多头生产线中,有一半以上处于闲置状态。光盘印刷复制线拥有国际先进的光电设备,包括精良的注塑机、旋涂仪、磁控溅镀机、丝网印刷机。这些设备大多都是进口的专用设备。光盘市场萎缩之后,许多设备就浪费了。如果能将这些生产线改造一下,生产CIGS薄膜太阳能电池,则会带来巨大的经济效益。
制备CIGS薄膜太阳能电池有多种工艺,包括真空技术和非真空技术。真空技术较为主流的工艺是多源共蒸发法和溅镀后硒化法。多源共蒸发是在指真空腔中,高纯度的Cu、In、Ga、Se由独立的蒸发源蒸发、反应沉积在衬底上。此种方法沉积的薄膜质量较好、组件效率高,但设备复杂、成本高,蒸发过程中各元素沉积速率不容易控制,大面积生产均匀性不好,且产能低。溅射后硒化法是指在衬底上预先沉积CuInGa金属预置层,然后在Se蒸气或H2Se气氛中使其发生化学反应,最终获得CIGS薄膜。溅射后硒化法工艺繁琐、控制相对复杂,且原材料利用率不高,另外H2Se气体有剧毒。非真空技术主要有电化学沉积、丝网印刷、喷涂解热等方法,但要得到符合元素化学计量比的CIGS薄膜比较困难,并且容易出现二元或者一元多相结构。
CIGS是国际公认的第三代能电池最有前景的产品,但是由于其生产设备投资巨大、生产成本非常高而没有得到大面积应用。CD/DVD印刷复制线中的注塑技术、旋涂技术、溅镀技术和印刷技术在光电领域应用相当成熟。用现有的生产线改造形成CIGS生产能力,极大地减小设备投资、优化生产工艺、降低生产成本。发明内容
本发明的目的是提供一种用⑶/DVD印刷复制线生产的CIGS薄膜电池和制备工艺,用高分子材料作基片,注塑机注射压片,形成带有凹凸陷光结构塑料基片,在基片上用溅镀机溅镀一层A1/M0反射层,在A1/M0层上用旋涂法或者溅镀法制备CIGS吸收层,然后用溅镀法或者水浴法在吸收层上ZnS/CdS缓冲层,再用溅镀法溅镀ZnO、ZnO:Al窗口层和MgF2减反层,最后用丝网印刷机印上Al/Ag/Ni金属电极。
为实现上述目的,本发明的技术方案是:
1.一种用⑶/DVD印刷复制线生产的CIGS薄膜电池的制备工艺,包括注塑、溅镀、旋涂、切割、印刷,其特征是,对专用的CD/DVD印刷复制线进行工艺改造;
2.根据权利I所述的⑶/DVD印刷复制线生产的CIGS薄膜电池的制备工艺,其特征是,用注塑机注射压模形成带凹凸陷光结构高分子塑料基片;
3.根据权利I所述的⑶/DVD印刷复制线生产的CIGS薄膜电池的制备工艺,其特征是,用溅镀机在基片上磁控溅射一层Al/Mo反射层;
4.根据权利I所述的⑶/DVD印刷复制线生产的CIGS薄膜电池的制备工艺,其特征是,在A1/M0层上用旋涂法或者溅镀法制备CIGS吸收层;
5.根据权利I所述的⑶/DVD印刷复制线生产的CIGS薄膜电池的制备工艺,其特征是,用在吸收层上用水浴法或者溅镀法沉积ZnS/CdS缓冲层;
6.根据权利I所述的⑶/DVD印刷复制线生产的CIGS薄膜电池的制备工艺,其特征是,用溅镀机在吸收层上磁控溅射ZnO、ZOA窗口层和MgF2减反层;
7.根据权利I所述的⑶/DVD印刷复制线生产的CIGS薄膜电池的制备工艺,其特征是,用丝网印刷机印上Al/Ag/Ni金属电极。
8.一种用⑶/DVD印刷复制线生产的CIGS薄膜电池,其特征是,以高分子塑料为基片,Al/Mo为反射层,CIGS为吸收层,ZnS/CdS为缓冲层,ZnO、ZnOiAl为窗口层,MgF2为减反层,Al/Ag/Ni为顶端电极,用激光或者机械切割环形沟槽,形成环形串接电路。
9.根据权利8所述用⑶/DVD印刷复制线生产的CIGS薄膜电池,其特征是,以高分子聚合物塑料为基片,带有凹凸光坑/光槽的陷光结构,形状为圆形或者环形。
10.根据权利8所述用⑶/DVD印刷复制线生产的CIGS薄膜电池,其特征是,用激光或者机械切割环形沟槽,形成环形串接电路。
本发明的有益效果:
1.用现有⑶/DVD生产线改造来生产CIGS太阳能电池,极大地减少该类电池的巨大设备投资;
2.用改造后的⑶/DVD生产线,生产CIGS太阳能电池,在很大程度上降低了该类电池的生产制作成本;
3.采用⑶/DVD生产线改造后的工艺,可以连续成膜,生产效率高,成膜质量好,产业化前景广阔。
4.用改造后的⑶/DVD生产线,生产CIGS太阳能电池,盘活了国内大量的光电生产设备。


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图1为改造后的CIGS生产流水线。其中:1注塑机位(压片);2溅镀机位(镀铝/钥);3旋涂仪位(或者溅镀机)(CIGS层);4溅镀机位或者水浴沉积位(沉积ZnS/CdS);5溅镀机位(镀ZnO) ;6溅镀机位(镀Ζ0Α) ;7溅镀机位(镀MgF2) ;8印刷机位(金属电极);9切割机位(镭射切图);10烘干(UV) ;11切割机位(机械切割);12切割机位(机械切割);
图2为改造后的CIGS生产工艺流程图。其中:1注射压模(压片);2溅镀铝/钥;3旋涂或者溅镀CIGS层;4溅镀或者水浴ZnS/CdS ;5溅镀ZnO ;6溅镀ZOA ;7溅镀MgF2 ;8印刷金属电极;
图3为塑料基片CIGS常规尺寸和剖面图。其中:13盘面镀膜最小内径22mm,14盘面镀膜最大外径76mm (Φ 80mm), 15盘面镀膜最大外径116mm (Φ 120mm), 16Polymer高分子聚合物基片,17Μο/Α1反射膜,18CIGS吸收层,19ZnS/CdS缓冲层,20Zn0窗口层,21Z0A窗口层,221%&减反膜,23A1/Ag/Ni电极;
图4为塑料基片CIGS剖面和串接方式。其中:P1激光切割Mo反射层,P2机械切割吸收层,P3 机械切割 CIGS、ZnS, ZnO、Z0A、MgF2 ;
图5为塑料基片构造和凹凸坑点。其中:24岸台,25坑点;
图6为塑料基片坑点常规尺寸和激光切割环形沟槽。其中:26坑点宽度约0.5μπι,27坑点长度约0.8-3 μ m, 28坑点中心间距约1.6 μ m,29激光切割Mo层形成的环形沟槽;具体实施方式
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注塑机位I制作高分子材料基片16:将高分子材料装入料站,用100°C温度进行烘干,抽料入注塑机,通过注射压模技术,制作出带有凹凸坑点25的塑料圆形/环形基片。基片规格图3中13、14、15 (可根据需求调整)。凹凸坑点25的尺寸规格包括坑点宽度26、坑点长度27、坑点中心间距28 (可根据需求调整)。凹凸坑点的作用有两个:(1)是进行光干扰,增强光的吸收率,提高电池的转换率;(2)是增强薄膜和基片的附着力。
溅镀机位2制备背电极Al/Mo薄膜17。靶材用纯度为99.99%的圆形金属铝靶,溅射速率:8000-10000A/min ;溅射真空度:0.13-1.3Pa ;溅射厚度为0.5-0.8 μ m。
激光切割机位9激光切割。在基片岸台24上切割Pl成若干个环形沟槽29。
旋涂仪位3制备CIGS吸收层18。(I)纳米前驱物混合粉末的制备:通过共沉淀的方法制备CuS和In2S3纳米混合粉末。将前驱物粉末在玛瑙研钵中研磨均匀后加入一定量的5%的乙基纤维素松油醇粘合剂,再研磨均匀后即为旋涂所用的前驱物墨水。(2)旋涂法制备预置薄膜:将配制好的前驱物墨水在台式旋涂仪上旋涂成膜。旋涂转速为3000r/min。(3)UV烘干处理。薄厚为1.5-2.0ym0也可以用CuInGaSe合金靶溅镀成膜。
溅镀机位4制备ZnS/CdS薄膜19:纯度为99.99 %硫化锌靶材,溅射气压在0.3-1.0Pa,薄膜厚度约0.05 μ m。也可以用水浴法制作ZnS/CdS缓冲层。
溅镀机位5制备ZnO薄膜20:纯度为99.99 %氧化锌靶材,薄膜厚度约0.05 μ m。
溅镀机位6制备ZOA薄膜21:用Ζη0/Α1203氧化物陶瓷靶靶材,利用磁控溅射在薄膜中Al3+对Zn2+的部分替换进行掺杂,形成ZOA薄膜。薄膜厚度约0.05-1.5 μ m。
溅镀机位7制备MgF2薄膜22:靶材用MgF2靶,溅射形成减反射薄膜,提高光吸收度。薄膜厚度约0.1 μ In。
印刷机位8制备Al/Ag电极23:用丝网印刷机上印刷Al/Ag电衆,形成金属电极。
以上综述了一种用⑶/DVD印刷复制线生产的CIGS薄膜电池和其制备工艺,依据本发明实施例的思想,在具体实施方式
及其应用范围上各技术人员或者工厂会有改变之处,但是,本说明书内容不应理解为对本发明的限制,凡依本发明设计思想所做的任何改变都在本发明的保护范围之内。
权利要求
1.一种用⑶/DVD印刷复制线生产的CIGS薄膜电池的制备工艺,包括注塑、溅镀、旋涂、切割、印刷,其特征是,对专用的CD/DVD印刷复制线进行工艺改造;
2.根据权利I所述的⑶/DVD印刷复制线生产的CIGS薄膜电池的制备工艺,其特征是,用注塑机注射压模形成带凹凸陷光结构高分子塑料基片;
3.根据权利I所述的⑶/DVD印刷复制线生产的CIGS薄膜电池的制备工艺,其特征是,用溅镀机在基片上磁控溅射一层Al/Mo反射层;
4.根据权利I所述的⑶/DVD印刷复制线生产的CIGS薄膜电池的制备工艺,其特征是,在A1/M0层上用旋涂法或者溅镀法制备CIGS吸收层;
5.根据权利I所述的⑶/DVD印刷复制线生产的CIGS薄膜电池的制备工艺,其特征是,用在吸收层上用水浴法或者溅镀法沉积ZnS/CdS缓冲层;
6.根据权利I所述的⑶/DVD印刷复制线生产的CIGS薄膜电池的制备工艺,其特征是,用溅镀机在吸收层上磁控溅射ZnO、ZOA窗口层和MgF2减反层;
7.根据权利I所述的⑶/DVD印刷复制线生产的CIGS薄膜电池的制备工艺,其特征是,用丝网印刷机印上Al/Ag/Ni金属电极。
8.—种用CD/DVD印刷复制线生产的CIGS薄膜电池,其特征是,以高分子塑料为基片,Al/Mo为反射层,CIGS为吸收层,ZnS/CdS为缓冲层,ZnO、ZnO:Al为窗口层,MgF2为减反层,Al/Ag/Ni为顶端电极,用激光或者机械切割环形沟槽,形成环形串接电路。
9.根据权利8所述用CD/DVD印刷复制线生产的CIGS薄膜电池,其特征是,以高分子聚合物塑料为基片,带有凹凸光坑/光槽的陷光结构,形状为圆形或者环形。
10.根据权利8所述用CD/DVD印刷复制线生产的CIGS薄膜电池,其特征是,用激光或者机械切割环形沟槽,形成环形串接电路。
全文摘要
本发明公开了一种用CD/DVD印刷复制线生产的CIGS薄膜电池和制备工艺,通过对专用CD/DVD印刷复制生产线的工艺改造,生产一种以高分子材料为基片,高效、低成本的CIGS太阳能电池器件,这一发明盘活了国内大量的CD/DVD生产设备,极大地降低了该类CIGS电池投资成本和产品生产成本,促进CIGS薄膜电池产业化发展。
文档编号H01L31/18GK103137779SQ20111037881
公开日2013年6月5日 申请日期2011年11月23日 优先权日2011年11月23日
发明者袁国威 申请人:袁国威
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