一种动中通天线的制作方法与工艺

技术特征：
1.一种动中通天线，其特征在于，所述动中通天线包括与水平面平行设置的超材料平板及设置在超材料平板上方的馈源，所述超材料平板包括核心层及设置在核心层一侧表面的反射层，所述核心层包括一个核心层片层或多个相同的核心层片层，每一个核心层片层包括片状的第一基材以及设置在第一基材上的多个第一人造微结构，以任一核心层片层的上表面为XY平面，以馈源等效点在该核心层片层上表面所在平面上的投影为坐标原点O，建立XOY的二维坐标系，所述核心层片层任一点(x，y)的折射率满足如下公式：s＝yo×cosγ+zo×sinγ；其中，n(x,y)表示该核心层片层任一点(x，y)的折射率值；zo表示馈源等效点到超材料平板的垂直距离；yo表示该核心层片层的上表面边缘与y轴正方向的交点的y坐标值；γ表示所要通信的卫星的仰角；nmax表示核心层片层的折射率的最大值；nmin表示核心层片层的折射率的最小值；λ表示频率为天线中心频率的电磁波的波长；floor表示向下取整。2.根据权利要求1所述的动中通天线，其特征在于，所述核心层的厚度为Dh，2Dh＝D。3.根据权利要求1所述的动中通天线，其特征在于，所述第一基材包括片状的第一前基板及第一后基板，所述多个第一人造微结构夹设在第一前基板与第一后基板之间，所述核心层片层的厚度为0.21-2.5mm，其中，第一前基板的厚度为0.1-1mm，第一后基板的厚度为0.1-1mm，多个第一人造微结构的厚度为0.01-0.5mm。4.根据权利要求1所述的动中通天线，其特征在于，所述超材料平板还包括设置在核心层另一侧表面的阻抗匹配层，所述阻抗匹配层包括一个阻抗匹配层片层或多个厚度相同的阻抗匹配层片层，所述阻抗匹配层片层包括片状的第二基材以及设置在第二基材上的多个第二人造微结构，所述每一阻抗匹配层片层具有单一的折射率，所述一个或多个阻抗匹配层片层的折射率满足以下公式：其中，m表示阻抗匹配层的总层数，i表示阻抗匹配层片层的编号，其中，靠近核心层的阻抗匹配层片层的编号为m，由馈源向核心层方向，编号由1依次增大。5.根据权利要求4所述的动中通天线，其特征在于，所述核心层的厚度为Dh，所述阻抗匹配层的厚度为Dz，Dz+2Dh＝D。6.根据权利要求4所述的动中通天线，其特征在于，所述第二基材包括片状的第二前基板及第二后基板，所述多个第二人造微结构夹设在第二前基板与第二后基板之间，所述阻抗匹配层片层的厚度为0.21-2.5mm，其中，第二前基板的厚度为0.1-1mm，第二后基板的厚度为0.1-1mm，多个第二人造微结构的厚度为0.01-0.5mm。7.根据权利要求6所述的动中通天线，其特征在于，所述第一人造微结构及第二人造微结构均为由铜线或银线构成的金属微结构，所述金属微结构通过蚀刻、电镀、钻刻、光刻、电子刻或离子刻的方法分别附着在第一基材及第二基材上。8.根据权利要求7所述的动中通天线，其特征在于，所述金属微结构呈平面雪花状，所述金属微结构具有相互垂直平分的第一金属线及第二金属线，所述第一金属线与第二金属线的长度相同，所述第一金属线两端连接有相同长度的两个第一金属分支，所述第一金属线两端连接在两个第一金属分支的中点上，所述第二金属线两端连接有相同长度的两个第二金属分支，所述第二金属线两端连接在两个第二金属分支的中点上，所述第一金属分支与第二金属分支的长度相等。9.根据权利要求8所述的动中通天线，其特征在于，所述平面雪花状的金属微结构的每个第一金属分支及每个第二金属分支的两端还连接有完全相同的第三金属分支，相应的第三金属分支的中点分别与第一金属分支及第二金属分支的端点相连。10.根据权利要求8所述的动中通天线，其特征在于，所述平面雪花状的金属微结构的第一金属线与第二金属线均设置有两个弯折部，所述平面雪花状的金属微结构绕第一金属线与第二金属线的交点在金属微结构所处平面内向任意方向旋转90度的图形都与原图重合。